【課題】ブリスターやＡｌの凝集を発生させずに、Ａｌ−Ｓｉ合金層とＡｌドープ層を適正に形成し得るビスマス系ガラスからなる電極形成用ガラスを創案することにより、シリコン太陽電池の外観不良を低減し、且つ光電変換効率を高めること。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ５６〜７６．３％、Ｂ_２Ｏ_３ ２〜１８％、ＺｎＯ ０〜１１％（但し、１１％は含まず）、ＣａＯ ０〜１２％、ＢａＯ＋ＣｕＯ＋Ｆｅ_２Ｏ_３＋Ｓｂ_２Ｏ_３（ＢａＯ、ＣｕＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、及びＳｂ_２Ｏ_３の合量） ０〜２５％を含有し、軟化点が４６２〜５２０℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高融点半田に対し耐半田溶解性を改善する。
【解決手段】本発明に係る導電性ペーストは、
（Ａ）導電性粉末と、
（Ｂ）酸化物換算で下記の組成からなる成分を合計で８５重量％以上含有し、かつ、実質的に鉛を含まないガラスフリットと、
（Ｃ）有機ビヒクルと、
を含むことを特徴とする導電性ペースト。
ガラスフリット中の割合として、ＳｉＯ₂…１６〜４７重量％、Ａｌ₂Ｏ₃…３３〜５２重量％、ＭｇＯ…３〜１５重量％、Ｂ₂Ｏ₃…１５〜４５重量％ （もっと読む）

【課題】腐食性ガス等に対する耐久性に優れた導電層（電極）を形成することができる導電性粒子バインダー用のガラスフリットを提供する。
【解決手段】このガラスフリットは、実質的にＰｂおよびＭｎを含まず、酸化物換算で、Ｖ_２Ｏ_５を２０ｍｏｌ％以上８０ｍｏｌ％以下、ＺｎＯを５ｍｏｌ％以上４５ｍｏｌ％以下、ＢａＯを０ｍｏｌ％以上４０ｍｏｌ％以下、Ｓｂ_２Ｏ_３を０ｍｏｌ％以上１５ｍｏｌ％以下、Ｐ_２Ｏ_５を０ｍｏｌ％以上４０ｍｏｌ％以下含有し、５０％粒径Ｄ_５０が０．１μｍ以上５．０μｍ以下である。このガラスフリットを、導電性金属粉末１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下の割合で含有し、さらに有機ビヒクルを含有することで導電性ペーストを提供する。 （もっと読む）

【課題】 セラミックス基板、ガラス基板などに焼き付ける低温焼成可能な高耐酸性コーティング用ガラス組成物・ガラス組成物ペーストで、従来の無鉛・高配合ビスマス系ガラス組成物と比べて、比重が小さく、高価なガラス原料を最小限に抑えることにより、コストパフォーマンスにも優れている無鉛・珪酸亜鉛系のコーティング用ガラス組成物・ガラス組成物ペーストを提供する。
【解決手段】 低温焼成可能な高耐酸性コーティング用ガラス組成物は、実質的にＰｂＯを含有せず、ガラス組成が重量％表示で、ＳｉＯ_２ ：３５〜４５％、Ａｌ_２Ｏ_３：０〜３％、Ｂ_２Ｏ_３：５〜１１％、ＺｎＯ：２３〜３３％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｌｉ_２Ｏ：５〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３：３〜１０％、ＺｒＯ_２ ：１〜８％、ＭｎＯ_２ ：１〜５％、ＣｅＯ_２ ：０〜３％、ＴｉＯ_２ ：０〜５％であり、かつＡｌ_２Ｏ_３＋ＺｒＯ_２ の組成範囲が、１〜８％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐酸性に優れ、Ａｇ^＋のマイグレーションが生じ難い、低融点の無鉛ガラスを提供する。
【解決手段】アルカリ金属酸化物を含まない無鉛低融点ガラスであって、酸化物換算で、Ｂｉ_２Ｏ_３を５５〜７５重量％、ＳｉＯ_２を１５〜３５重量％、ＺｒＯ_２ を１〜１０重量％、ＢａＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ及びＳｒＯからなる群から選ばれた少なくとも一種を合計で１〜１０重量％、Ｂ_２Ｏ_３ を０〜２重量％、Ａｌ_２Ｏ_３ を０〜５重量％、ＴｉＯ_２ を０〜５重量％含有し、且つ、（ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３及びＴｉＯ_２の合計量）／（ＢａＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢ_２Ｏ_３の合計量）（重量比）＝２〜６である、軟化点が６００℃以下の低融点ガラス。 （もっと読む）

【課題】約１１００℃以下のろう付け温度で加工でき、かつろう付け工程の終了後に約９００℃までの作動温度で使用できる高温度用ガラスソルダーを提供する。
【解決手段】２０℃〜３００℃の温度範囲での線熱膨張α_(20-300)を８×１０^-6Ｋ^-1〜１１×１０^-6Ｋ^-1の範囲で有し、質量％で１０〜４５％未満のＢａＯ、０〜２５％のＳｒＯ（２０〜６５％のＢａＯ＋ＳｒＯ）、１０〜３１％のＳｉＯ_２、２％未満のＡｌ_２Ｏ_３、０〜１０％のＣｓ_２Ｏ、０〜３０％のＲＯ、０〜３０％のＲ_２Ｏ_３、０〜２０％のＲ_２Ｏからなるガラスソルダー。（ＲＯはアルカリ土類金属酸化物、Ｒ_２Ｏ_３はＢ_２Ｏ_３等からなる酸化物、Ｒ_２ＯはＴｉ_２Ｏ等の酸化物からなる。） （もっと読む）

【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備えるものであって、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル％で、ＴｉＯ_２成分を５．０％以上９９．０％以下、並びに、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｐ_２Ｏ_５成分及びＧｅＯ_２成分からなる群より選択される１種以上を合計で１．０％以上８５．０％以下含有し、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層の日本工業規格ＪＩＳ Ｒ １７０３−２：２００７に基づくメチレンブルーの分解活性指数が３．０ｎｍｏｌ／Ｌ／ｍｉｎ以上である。 （もっと読む）

【課題】特に歯科用ガラスとして及び光学ガラスとして適し、比較的低い屈折率ｎ_ｄを有するジルコニウム含有でＢａＯ−フリー及びＰｂＯ−フリーのＸ線不透過性ガラスを提供する。
【解決手段】ＢａＯ−フリー及びＰｂＯ−フリーのＸ線不透過性ガラスは、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ａｌ_２Ｏ_３−Ｒ_２Ｏ−ＲＯ−Ｌａ_２Ｏ_３−ＺｒＯ_２系であり、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ_２ ４８〜５６％、Ｂ_２Ｏ_３ ３〜８％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０．５〜４％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ １〜４％、Ｋ_２Ｏ ２〜７％、Ｃｓ_２Ｏ １０〜１６％、ＣａＯ ５〜９％、ＭｇＯ ０〜５％、ＺｒＯ_２ ０．５〜１３％、Ｌａ_２Ｏ_３ ５〜１２％、ＳｎＯ_２ ０〜４％、Σアルカリ金属酸化物 １６〜２１％、Ｃｓ_２Ｏ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋ＳｎＯ_２ ≧１９％を含有し、１．５４〜１．５８の屈折率ｎ_ｄ及び少なくとも５００％のアルミニウム等価厚を有する。 （もっと読む）

【課題】環境への負担が小さくかつ表面電荷密度が大きい半導体被覆用ガラスを提供する。
【解決手段】質量％で、ＺｎＯ ５０〜６５％、Ｂ_２Ｏ_３ １９〜２８％、ＳｉＯ_２ ７〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜１２％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０．１〜５％の組成を含有し、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体被覆用ガラス。 （もっと読む）

本発明は、高周波受信機、送信機、およびトランシーバを低温同時焼成セラミック（ＬＴＣＣ）材料から形成する方法に関する。低ｋ厚膜誘電体テープの２つ以上の層、および互いに接触し、および低ｋ厚膜誘電体テープの２つ以上の層、および互いに接触し、高周波トランシーバの経済的な大量生産技術を支援する改善された性質および性能を有する低ｋ高ｋのＬＴＣＣ構造を形成する。本発明は、ＬＴＣＣ受信、送信、およびトランシーバ構造、ならびにそのような構造から製造されたデバイスにも関する。
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【課題】色素増感太陽電池等に代表される電子材料基板用の絶縁性被覆材料、電極保護被覆材料及び封着材料として用いられる絶縁被覆用無鉛低融点ガラスペーストを提供すること
【解決手段】質量％でＳiＯ_２を０〜７、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜２０、ＺｎＯを７〜３０、Ｂi_２Ｏ_３を３５〜８０含有するガラスフリットが、有機成分を必須成分とするガラスペースト中に９５〜５０質量％含有されることを特徴とする絶縁被覆用無鉛低融点ガラスペースト。 （もっと読む）

エナメル組成物、特に暖炉インサートのガラス板を被覆するためのエナメル組成物であって、少なくとも１種のガラスフリット、そのエナメルの全重量の４０〜６５％、好ましくは４５〜６０％の範囲の含有量の少なくとも１種の顔料、及び随意に少なくとも１種の媒体又は媒材を含有し、上記ガラスフリットが、次の構成成分を、以下に規定する範囲内（境界値を含み、上記フリットの総重量の重量パーセントで表す）で有することを特徴とする、エナメル組成物、特に暖炉インサートのガラス板を被覆するためのエナメル組成物：
ＳｉＯ_２ ４５〜６５％
Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１３％
Ｂ_２Ｏ_３ ２３〜５５％
Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％
Ｋ_２Ｏ ０〜１０％
Ｌｉ_２Ｏ ０〜１０％。 （もっと読む）

固体酸化物セラミックは、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、チタン酸ランタンストロンチウム（ＬＳＴ）、マンガン酸ランタンストロンチウム（ＬＳＭ）および酸化ニッケル−ＹＳＺ複合材料からなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む、１つの表面を画定する基板を含む。固体酸化物セラミックはさらに、表面の少なくとも一部分をコーティングし、サンボルナイト（ＢａＯ・２ＳｉＯ_２）結晶相、ヘキサセルシアン（ＢａＯ・Ａｌ_２Ｏ_３・２ＳｉＯ_２）結晶相および残留ガラス相を含み、前記表面において基板の熱膨張係数以下の熱膨張係数を有するシールを含む。ガラス組成物のガラス結晶化温度とガラス転移温度の差は、約２０℃／分の加熱速度で約２００℃〜約４００℃の範囲内であり得る。
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【課題】実質的にＰｂＯを含有せず、Ｐ_２Ｏ_５系ガラスの問題点である耐湿性を向上させ、さらに高温で処理した場合でも結晶化せず安定な無鉛低融点ガラスを提供すること
【解決手段】実質的にＰｂＯを含有せず、モル％で表して、Ｐ_２Ｏ_５を２５〜４０、ＺｎＯを１５〜５０、Ｎａ_２Ｏを１５〜４５、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を０〜３０、Ａｌ_２Ｏ_３を０.１〜１０、含むことを特徴とするＰ_２Ｏ_５−ＺｎＯ−Ｎａ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３系無鉛低融点ガラス。 （もっと読む）

【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体の製造方法と、それにより作製された複合体を含む光触媒機能性部材及び親水性部材を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備える複合体であって、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル％で、Ｎｂ_２Ｏ_５成分及びＴａ_２Ｏ_５成分より選択される１種以上を合計で５．０％以上９５．０％以下、並びに、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｐ_２Ｏ_５成分及びＧｅＯ_２成分からなる群より選択される１種以上を合計で１０．０％以上８５．０％以下含有する。 （もっと読む）

【課題】液体との接触面積に富む多孔質ガラス被膜を形成した陶磁器やガラス容器を提供する。
【解決手段】従来技術の問題点を鑑みて鋭意研究を重ねた結果、基材となる陶磁器またはガラス容器の全部または内表面一部に、液体との接触面積に富む相分離を利用して形成され、加熱時間をコントロールすることによりその細孔径を自由に設計することのできる多孔質ガラス被膜を形成することにより、酸化還元電位の高い水を手軽に低下させて利用できる容器に係る。 （もっと読む）

【課題】耐熱性が高く、かつ、暗時には、明時とは異なったデザインが表出する蓄光性成形体、及び蓄光性成形体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基材と、前記基材上に形成された第１被膜と、前記基材上に形成された第２被膜とを備える蓄光性成形体であって、前記第１被膜が、明時に光を蓄積して暗時に発光しうる蓄光性顔料と、無鉛ガラス粉末と、有彩色の無機系顔料とを含有する第１組成物からなり、前記第２被膜が、無彩色の無機酸化物と、前記無鉛ガラス粉末と、前記無機系顔料とを含有する第２組成物からなり、前記第１組成物における、前記蓄光性顔料と前記無鉛ガラス粉末と前記無機系顔料との含有比率、及び前記第２組成物における、前記無機酸化物と前記無鉛ガラス粉末と前記無機系顔料との含有比率をそれぞれ調整することによって、明時において前記第１被膜と前記第２被膜とが同系色であることを特徴とする蓄光性成形体である。 （もっと読む）

【課題】発色性や電気特性を損なうことなく、低コストでもって良好な耐酸性を有する防曇機能に優れた導電性ペーストを実現する。
【解決手段】Ａｇ粒子と、ガラスフリットと、有機ビヒクルとを含み、前記ガラスフリットが、少なくとも４５モル％〜６０モル％のＳｉＯ_２、５モル％〜２５モル％のＢｉ_２Ｏ_３、１５モル％未満（０モル％を含む。）のＲ_２Ｏ（ＲはＮａ、Ｌｉ、及びＫの中から選択された少なくとも１種を示す。）、及び１モル％〜１５モル％のＦを含有し、軟化点が５００℃以下である。ガラスフリットが、Ｂ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＣｕＯ及びＭｎＯの中から選択された少なくとも１種の酸化物を２５モル％以下の範囲で含有していてもよい。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ配線上に絶縁層を形成しても、焼成時にガラス中に発泡が生じ難く、また低温で焼成可能であり、しかも熱的安定性が良好であり、焼成時にガラスに失透が発生し難い表面平滑性が良好な絶縁層形成材料を提供する。
【解決手段】絶縁層形成材料は、ガラス粉末と無機酸化物粉末を含有する絶縁層形成材料において、（１）ガラス粉末の含有量が７０〜９９．９質量％、無機酸化物粉末の含有量が０．１〜２０質量％であり、（２）ガラス粉末が、ガラス組成として、モル％で、ＺｎＯ １５〜４５％、Ｂ_２Ｏ_３ ２５〜４５％、ＳｉＯ_２ ５〜２５％を含有し、（３）無機酸化物粉末が、Ｃｕおよび／またはＦｅを含有する。 （もっと読む）

【課題】コークス炉内の耐火物表面をガラス皮膜で強固にコーティングすることが可能となり、カーボン剥離効果が発現し、カーボン成長を抑制できるコークス炉炭化室炉壁のコーティング方法を提供する。
【解決手段】コークス炉の炭化室を形成する耐火物の表面に、ガラス化材を火炎中に放射しながら供給することによって、ガラス層をコーティングする。ＳｉＯ_２成分とＡｌ_２Ｏ_３成分との和が８０％以上であり、かつ、溶倒温度が１１５０℃以上であるガラス化材を、２０ｋｇ／ｈ以下の量で供給するとともに、ガラス層の施工中の施工面の温度を、ガラス化材の溶倒温度より５０℃以上２００℃以下高くする。 （もっと読む）