【課題】材質が均一であり、揮発するホウ素の量が使用毎に安定しており、かつ安価な半導体用ホウ素ドープ材を提供する。
【解決手段】ホウ素含有結晶性ガラス粉末を含む原料粉末をスラリー化する工程、得られたスラリーを成形してグリーンシートを得る工程、およびグリーンシートを焼結する工程を含む半導体用ホウ素ドープ材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】紫外光から赤外光（２５０〜２５００ｎｍにピーク波長を有する光）を良好に反射することができ、しかも、紫外線による劣化や、酸化による変色が生じない反射材を提供する。
【解決手段】原料粉体と、有機質バインダーとを混合したものを成形した後、焼成して成るセラミックス焼結体から成る反射材であって、原料粉体は、セラミックス原料と、セラミックス焼結体の内部において可視光領域の光の散乱を促進する散乱体とを含有し、セラミックス原料は、ホウ珪酸ガラス原料と、アルミナとを含有し、散乱体は、五酸化ニオビウム，酸化ジルコニウム，五酸化タンタル，酸化亜鉛から選択される少なくとも１種であり、原料粉体の総重量を１００wt％とした場合に、散乱体を５wt％以上含有し、反射材は、その内部にホウ珪酸ガラス原料から析出したアノーサイトを含有することを特徴とする反射材による。 （もっと読む）

【課題】金属とセラミックス，金属と金属，セラミックスとセラミックスとの封着に用いるのに適した，９５０℃以上の高温で使用できる高強度且つ高膨張性の結晶化ガラス形成するための，ガラス組成物を提供すること。
【解決手段】実質的にアルカリ金属を含まず，酸化物換算で，ＳｉＯ₂を１５〜３０質量％，Ａｌ₂Ｏ₃を０〜５質量％，Ｂ₂Ｏ₃を２０〜３５質量％，ＣａＯを１０〜２５質量％，ＭｇＯを２５〜４０質量％，ＺｒＯ₂を３〜８質量％（ただし，３．０％を含まない），及びＣｅＯ₂を０〜３質量％を含有するガラス組成物であって，該ガラス組成物からなるガラス粉末を８５０〜１０５０℃の温度で焼成することにより形成される結晶化ガラスの５０〜５５０℃における熱膨張係数が９０〜１１０×１０^-7／℃，曲げ強度が８０ＭＰａ以上となるものである，封着用ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】成形時に失透が生じにくいリン酸塩系ガラスを安定して得ること、並びに、結晶化後も割れがなく、リチウムイオン伝導度が優れたリン酸塩系ガラスを安定して得ることを目的とする。
【解決手段】酸化物基準でＬｉ_２Ｏ成分を含有し、水酸基に起因する吸光度βＯＨが１．５ｍｍ^−１未満であることを特徴とするリン酸塩系ガラス、該リン酸塩系ガラスを結晶化してなる結晶化ガラス、および酸化物基準でＬｉ_２Ｏ成分を含有する調合原料を溶融して溶融ガラスとし、前記溶融ガラスに乾燥ガスを接触させる工程を含むリン酸塩系ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】一定の薄板状の情報記録媒体基板用素材を量産するための円盤状ガラス素材の製造方法を提供すること、前記方法で製造した素材から情報記録媒体用基板ならびに情報記録媒体を製造する方法を提供する。
【解決手段】熔融ガラスから、複数の円盤状ガラス素材を逐次に成形することを含む円盤状ガラス素材の製造方法。前記円盤状ガラス素材に成形される熔融ガラスに含まれる赤外線吸収性イオンの濃度の経時的な変動を抑制して、前記複数の円盤状のガラス素材の板厚の変動が、１０００枚のガラス素材について、基準値に対して±１５％の範囲内になるようにする方法。０．１〜１００ｐｐｍの赤外線吸収性イオンを含むガラスからなる複数の円盤状ガラス素材を成形する際に、前記円盤状ガラス素材に成形される熔融ガラスに含まれる赤外線吸収性イオンの濃度の経時的な変動を抑制して、前記複数の板状のガラス素材の板厚の変動を抑制する方法。 （もっと読む）

【課題】比誘電率が低く、かつ、誘電損失も低く、電気回路基板材料、積層回路基板材料、低温焼成基板材料および高周波回路基板材料として使用することができる結晶化ガラスを提供すること。
【解決手段】結晶相の結晶が、Ｓｒを含有し、結晶の空間群がＰ−４２_１ｍである場合、１ＭＨｚでの比誘電率が９以下で、誘電損失が１０^−２以下である結晶化ガラスを提供できる。なお、結晶相の結晶は、オケルマナイト型であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ガラスの表面または内部に対し微細なパターンを高精度で効率良く、低コストで形成する。
【解決手段】特定のガラス形成酸化物と、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移元素及び希土類元素から選ばれる少なくとも１種とを含有するガラス母体に、チタン、鉄、ニッケル、コバルト、マンガン、バナジウム、銅から選ばれる少なくとも１種を添加してなるガラスの表面または内部に、局所的な異質層を形成した後、エッチング剤と接触させて前記異質層または該異質層の周囲部分を除去することを特徴とするガラス材料の加工法。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３系、又はＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系の結晶化ガラスに特徴のある諸物性を維持しつつ、砒素成分やアンチモン成分の含有量が極力少ない、又は砒素成分やアンチモン成分を含まない結晶化ガラス及び結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２及びＡｌ_２Ｏ_３の各成分を含有する結晶化ガラスに清澄剤としてＳｎＯ_２成分及び／又はＣｅＯ_２成分を含有させることにより、好ましくはこれらの成分の含有量を特定の範囲とすることにより所望の結晶化ガラスを得る事ができる。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３系、又はＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系の結晶化ガラスにおいて大型サイズの成型品に生じるクラック発生、破壊の原因を解消し、内部品質が均一かつ高い効率で安定に生産可能な結晶化ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３の各成分を含有し、前駆体となるアモルファスガラスの示差熱分析によって得られる結晶析出ピーク温度幅が２２℃以上とする事により、好ましくはＴｉＯ_２成分とＺｒＯ_２成分の合計量が３．０〜４．３％未満の範囲とする事により所望の結晶化ガラスを得る事ができる。 （もっと読む）

本発明は、８５〜１１５×１０^-7／℃の範囲の熱膨張係数を有する高結晶性フリット焼結ガラスセラミック組成物に関する。本発明のガラスセラミックの主結晶相はサイクロケイ酸塩構造を持つ。本発明のガラスセラミックは、金属対金属、金属対セラミックおよびセラミック対セラミックのシール剤、並びに金属とセラミックのための高性能コーティングとして有用である。このガラスセラミックは、その最も広い組成において、３０〜５５％のＳｉＯ₂、５〜４０％のＣａＯ、０〜５０％のＢａＯ、０．１〜１０％のＡｌ₂Ｏ₃、および０〜４０％のＳｒＯを含み、ＣａＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯの合計が３５〜６５質量％の範囲にある。必要に応じて、そのガラスセラミック組成物は、＞０〜１５質量％のＭｇＯおよび＞０〜１０質量％のＺｎＯの群からの少なくとも１種類を含有してもよい。また、必要に応じて、そのガラスセラミック組成物は、少なくとも１種類の遷移金属または希土類金属の酸化物を＞０〜１０質量％含有してもよい。
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【課題】 赤外線照射加熱効率の高い情報記録媒体用基板、この基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラスまたは結晶化ガラスからなり、（１）２７５０〜３７００ｎｍの波長域に分光透過率が５０％以下となる領域が存在する、（２）波長２７５０〜３７００ｎｍにわたり、分光透過率が７０％以下となる、（３）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、垂直磁気記録媒体用に供される、（４）赤外線照射加熱用に供され、２００ｐｐｍ超の水分を含む、あるいは（５）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、赤外線照射加熱後にスパッタリングによって形成される情報記録層を含む多層膜の支持用に供されることを特徴とする情報記録媒体用基板、および前記基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、並びに情報記録媒体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高周波領域での比誘電率が６〜１０である低誘電率誘電体層が積層された誘電体の製造。
【解決手段】層数が奇数の積層誘電体の製造方法で、偶数番目の原料層が含有するガラス粉末が、モル％で、ＳｉＯ_２ ２３〜３５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ２〜１５％、ＭｇＯ ３０〜５０％、ＣａＯ ０〜１２％、ＳｒＯ ０〜１２％、ＢａＯ ０〜４％、ＺｎＯ ２〜１２％、等からなり、奇数番目の原料層が含有するガラス粉末が、ＳｉＯ_２ ３６〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、ＭｇＯ ２０〜４５％、ＣａＯ＋ＳｒＯ ０〜２０％、ＢａＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜１５％、等からなり、隣り合う誘電体層の線膨張係数の差が１５×１０^−７／℃以下である。 （もっと読む）

【課題】模様が大きくて、多様多彩、変化が豊富で、自由である模様付き結晶化ガラス物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】軟化点よりも高い温度で焼成すると結晶性ガラスの表面から内部に向かって結晶を析出する結晶性ガラスを使用し、離型剤を塗った耐火物型枠１０に結晶性ガラス小体１２が集積されており、この集積面にＳ字の形状にカットされた二枚の結晶性ガラス板１４Ａ，１４Ｂがカット面をつき合せた状態で敷いて置かれており、この状態で熱処理される。結晶性ガラス板は任意の形状に切り取り、その切り取り面（ガラスの外周端面）同士を密着させる。得られる結晶化ガラス物品は、天然大理石模様、人間模様、動物模様等様々な模様を付けた模様付き結晶化ガラス物品となる。 （もっと読む）

【課題】長手方向を揃えて複数本積み重ねたときに、同時に高精度にスライス加工することが可能な円柱形状を有する結晶化ガラス体、該結晶化ガラス体を製造する方法、上記結晶化ガラス体から結晶化ガラス基板ブランクを製造する方法、該結晶化ガラス基板ブランクから磁気ディスク基板を製造する方法および該磁気ディスク基板から磁気ディスクを製造する方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体を加熱処理して得られる、長さＬ［ｍｍ］、外径公差 ±０．２ｍｍ以下、真直度 ５×１０^−５×Ｌ［ｍｍ］以下の円柱形状を有することを特徴とする結晶化ガラス体であり、該結晶化ガラス体を製造する方法、上記結晶化ガラス体をスライスして結晶化ガラス基板ブランクを製造する方法、上記結晶化ガラス基板ブランクの主表面を研磨して磁気ディスク基板を製造する方法および上記磁気ディスク基板上に磁気記録層を形成して磁気ディスクを製造する方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、耐熱性、耐光性及び耐候性に優れ、従来の樹脂の劣化による発光デバイスの発光強度劣化や短寿命化を抑制できる蛍光体、発光デバイス及び結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】発光デバイス２０は、カソードリード端子１とアノードリード端子２とを備えたステム３と、アノードリード端子２に接続された青色発光ダイオードチップ４と、青色発光ダイオードチップ４とカソードリード端子１を接続する金属線５と、ステム３と共に青色発光ダイオードチップを気密封止するように固定され、青色発光ダイオードチップの上方に窓部６が形成された収納容器７と、収納容器７の窓部６に取り付けられた結晶化ガラスかなる蛍光体８とを具備している。 （もっと読む）

【課題】結晶化ガラスを用い、良好な光拡散性を有する光拡散部材に関し、広範囲で平均線膨張係数を調整でき、耐熱性に優れており、高い剛性を有し寸法安定性に優れた光拡散部材、およびそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス相中に結晶を含み、厚さが０．１ｍｍの時のＣ光に対するヘイズ値が０．１％以上であることを特徴とする光拡散部材。また、ガラス原料を溶融する工程と、溶融したガラスを成形する工程と、成形したガラスを徐冷する工程と、徐冷後加熱処理をする工程とを含むことを特徴とする光拡散部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板強度を改善した寸法精度の高い積層成形体、多層基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１の結晶化ガラスを含む第１の絶縁層１ｂ〜１ｆと、前記第１の結晶化ガラスとは結晶化温度が異なる第２の結晶化ガラスを含む第２の絶縁層１ａ、１ｇと、を積層してなるセラミック積層基板の表面及び内部に電極２〜４を配設してなり、前記結晶化ガラスの結晶化度がそれぞれ８０％以上であることを特徴とし、前記第１及び第２の結晶化ガラスのうち、一方の結晶化ガラスの結晶化温度が、他方の結晶化ガラスの軟化点よりも低いこと、前記第１の熱膨張係数と、第２の結晶化ガラスの熱膨張係数との差が２×１０^−６／℃以下であること、さらに前記第１及び第２とは異なる結晶化ガラスを含む第３の絶縁層を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】複数の固体電解質を介して両側に区分された空間を十分にガスシールするとともに、酸素ポンプ素子の急激な熱衝撃に対しても連結された金属箔部材同士を安定して結合させることを目的とする。
【解決手段】複数の酸素イオン伝導性の固体電解質７と、酸素イオン伝導性の固体電解質７の両面に形成された正負両極を構成する電極膜８、９と、前記正極側の電極膜外周部あるいは負極側の電極膜外周部と接合された金属箔部材１５とを備え、複数の前記酸素ポンプ素子の電極は直列回路に構成され、複数の金属箔部材１５はガラスセラミック層２４を介して連結されている酸素ポンプ素子とする。これにより、複数個が直列回路に連結された場合にも十分な絶縁を維持するとともに急激な熱衝撃に対してもクラックあるいは剥離を生じることなくガスシールを維持することができる。 （もっと読む）