【課題】ビスマス系ガラスは構造的に不安定なガラスが多く、焼成途中で結晶化し、結晶化することで流動性が損なわれ、十分な接着強度、気密性が得にくいという問題があった。従って、本発明は透明で、焼成時に結晶化し難いビスマス系ガラスを得ることを目的とした。
【解決手段】Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、ＺｎＯを含むビスマス系ガラス組成物であり、質量％でＢｉ_２Ｏ_３を５５〜８０、ＲＯ（ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０．１〜５含み、３０℃〜３００℃における線膨張係数が（６５〜９５）×１０^−７／℃、軟化点が４５０℃以上５３０℃以下であることを特徴とするビスマス系ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】従来の方法では排気工程を高温にできないため、低コストでかつ信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを得られなかった。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルの封着材は、前面板と、背面板とを対向配置して周囲を封着するためのプラズマディスプレイパネルの封着材であって、フィラー、フリットガラス、樹脂および有機溶剤を含み、前記フリットガラスは、酸化ビスマスを含む硼珪酸系ガラスであり、粒径が１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、前記フィラーは、コージライト、フォルステライト、β−ユークリプタイト、ジルコン、ムライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化モリブデン、酸化スズ、酸化アルミニウム、石英ガラスの少なくともいずれかであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、レーザ封着の際に、ガス成分が放出され難い封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。また、本発明の封着材料は、ガラス粉末を含む封着材料において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、封着材料付きガラス基板を作製する際に、有機バインダーを完全に焼却除去し得る方法を創案することにより、有機ＥＬデバイスの長期信頼性を高めることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板の製造方法は、ガラス基板を用意する工程と、ガラス粉末を含む封着材料と、有機バインダーを含むビークルとを混合して、封着材料ペーストを作製する工程と、前記ガラス基板に前記封着材料ペーストを塗布して、塗布層を形成する工程と、前記塗布層を前記ガラス粉末のガラス転移点より高く、且つ前記封着材料のガラス転移点未満の温度で熱処理して、前記有機バインダーを焼却除去する工程と、前記有機バインダーを焼却除去した前記塗布層を熱処理して、封着材料層を形成する工程とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス粉末とビーズの適合性を改良することにより、封着工程で封着材料が流動不良を引き起こす事態を防止する。
【解決手段】本発明の封着材料は、少なくともガラス粉末とビーズとを含む封着材料において、ビーズの平均粒子径Ｄ_５０が３５〜２７０μｍであり、ガラス粉末が、ガラス組成として、モル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ２５〜６０％、Ｂ_２Ｏ_３ １５〜４０％、ＺｎＯ １〜３９％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス原料を高温で溶融してガラス化する段階を省略することにより、大量生産と製造コスト低減を可能にする、負の熱膨張係数を有する結晶化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】製造方法は、（ａ）組成物を秤量及び混合する段階と、（ｂ）混合した組成物をか焼する段階と、（ｃ）か焼した組成物を焼結する段階と、（ｄ）焼結した組成物を常温で炉冷すると段階を含み、結晶化ガラスは、シリカ（ＳｉＯ_２）３８％〜６４％と、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）３０％〜４０％と、酸化リチウム（Ｌｉ_２Ｏ）５％〜１２％とを基本組成として含み、前記基本組成にジルコニア（ＺｒＯ_２）０．５％〜１５％、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）０．５％〜６．５％、五酸化リン（Ｐ_２Ｏ_５）０．５％〜４％、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）２％〜５％、及びフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）０％〜５％から選択された１つ又はそれ以上の成分をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】従来技術の欠点を有さない透明なガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】少なくとも以下の組成：ＳｉＯ₂：６０〜７６；Ａｌ₂Ｏ₃：１８〜２４；Ｌｉ₂Ｏ：２〜５；ＭｇＯ：０〜１．５；ＺｎＯ：＞４〜８；ＺｒＯ₂：１〜５；ＳｎＯ₂：＞０．５〜４；Ｎａ₂Ｏ：０〜１；Ｋ₂Ｏ：０〜１；ＢａＯ：０〜４；Ｆｅ₂Ｏ₃：０〜０．１；Ａｓ₂Ｏ₃：０〜＜０．５（酸化物ベースに基づき質量％で記載）を有する透明なガラスセラミックスを提供することによって解決される。 （もっと読む）

【課題】環境にやさしい清澄剤のみを含むか、環境にやさしい清澄剤を使用することにより製造されるガラスセラミックを提供する。
【解決手段】低い熱膨張性を有する透明なガラスセラミックは、ＳｉＯ2 ３５〜７０％、Ａｌ2Ｏ3 １７〜３５％、Ｌｉ2Ｏ ２〜６％、ＴｉＯ2 ０〜６％、ＺｒＯ2０〜６％、ＴｉＯ2＋ＺｒＯ2 ０．５〜９％、ＺｎＯ ０．５〜５％を含み、ＳｎＯ2および少なくとも１種のさらなる清澄剤による清澄化により製造され、前記さらなる清澄剤はＳｂ2Ｏ3、ＳＯ42-、Ｂｒ-およびＣｌ-から選ばれる環境にやさしい清澄剤のみを含むか、環境にやさしい清澄剤を使用することにより製造され、有毒なヒ素も含まない。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板全体を加熱することができないような場合においても、封着材料層を良好に形成することを可能にした封着材料層付きガラス部材の製造方法を提供する。
【解決手段】封着ガラスとレーザ吸収材とを含む封着材料を有機バインダと混合して調製した封着材料ペーストを、ガラス基板２の封止領域上に枠状に塗布する。封着材料ペーストの塗布層８に沿って第１のレーザ光９を照射し、塗布層８を選択的に加熱して有機バインダを除去する。続いて、脱バイ層１０に沿って第２のレーザ光１１を照射し、脱バイ層１０を選択的に加熱することによって、封着材料を焼成して封着材料層７を形成する。このような封着材料層７を用いて、２枚のガラス基板間を封止する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても反り変形が発生しにくいガラス基板熱処理用セッターを提供する。
【解決手段】ガラス基板熱処理用セッターは、結晶化ガラス又はセラミックス焼結体からなり、ガラス基板を載置面に載置して熱処理するためのガラス基板熱処理用セッターであって、結晶化ガラス又はセラミックス焼結体における結晶の平均粒子径が３μｍ以上である。結晶化ガラスが、結晶相としてβ−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を含有するＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスであり、セラミックス焼結体が、結晶相としてペタライト、β−ユークリプタイト又はβ−スポジュメンを含有するＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系セラミックス焼結体である。 （もっと読む）

【課題】面内磁気記録方式および垂直磁気記録方式の何れにおいても、高密度記録のためのランプロード方式にも十分対応し得る良好な表面特性を兼ね備え、高速回転化、衝撃に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や耐熱性をも兼ね備えた、溶融温度が低く生産性に優れた情報記録媒体用ディスク基板用等の結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準において、ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｌｉ_２Ｏ成分を含有し、質量％にてＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３の合計量が７７％未満であり、ＳｉＯ_２成分とＡｌ_２Ｏ_３成分の合計量に対するＬｉ_２Ｏの質量％比率Ｌｉ_２Ｏ／（ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３）が０．０６４以上であり、結晶相としてβ−石英、β−石英固溶体、β−ユークリプタイト、β−ユークリプタイト固溶体、β−スポジュメン、β−スポジュメン固溶体の中から選ばれる少なくとも１種以上を含有することを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、粒径が小さくても熱膨張係数が負に大きく、紫外線に対して高い透過率を有する結晶化ガラス粉末及び、その結晶化ガラス粉末を含有するＵＶ硬化型硬化物を提供することである。
【解決手段】本発明の結晶化ガラス粉末は、−４０〜１００℃の温度範囲において熱膨張係数が−８×１０^-7／℃以下であり、波長３５０ｎｍにおける厚さ１ｍｍでの光透過率が５０％以上である結晶化ガラスからなり、平均粒径が５０μｍ以下であることを特徴とする。
また、本発明のＵＶ硬化型樹脂硬化物は、−４０〜１００℃の温度範囲において熱膨張係数が−８×１０^-7／℃以下であり、波長３５０ｎｍにおける厚さ１ｍｍでの光透過率が５０％以上である結晶化ガラスからなり、平均粒径が５０μｍ以下である結晶化ガラス粉末と、樹脂組成物とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面性状が良好なフラットパネルディスプレイ基板を製造することができるフラットパネルディスプレイ基板製造用棚板を提供する。
【解決手段】フラットパネルディスプレイ基板を載せて熱処理するための棚板であって、光沢度が５度以上であるか、又は写像性が５％以上である。好ましくは熱膨張係数が２．０×１０^−６／℃以下であり、曲げ強さが４０ＭＰａ以上であり、ヤング率が３０ＧＰａ以上である。 （もっと読む）

【課題】従来のビスマス系封止材よりも低温で溶融し、かつ温度を上げても安定しており結晶化せずに封着可能な封着用組成物を提供する。
【解決手段】封着用組成物は、低融点ガラスの組成がモル％表示で、Ｂｉ_２Ｏ_３：３８〜４６％、Ｂ_２Ｏ_３：１５〜２８％、ＺｎＯ：２３〜３３％、ＭｇＯ：０．１〜７％、ＳｒＯ：０．１〜７％、ＣｕＯ：０．１〜６％であり、かつ、ＭｇＯ：ＳｒＯのモル％比が１：２〜１：１であってＭｇＯ＋ＳｒＯが０．２〜８モル％であり、実質的にＰｂＯおよびＳｉＯ_２を含まない。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、平面表示装置の支持枠の形成に好適なガラス組成物を提案し、平面表示装置の信頼性向上およびコストの低廉化に資することである。
【解決手段】本発明の支持枠形成用ガラス組成物は、下記酸化物換算の質量％表示で、ガラス組成として、Ｂｉ₂Ｏ₃ ２０〜７５％、Ｂ₂Ｏ₃ ８〜３５％、ＺｎＯ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜１５％、Ｒ₂Ｏ ０〜２０％（但し、Ｒ₂Ｏは、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏを指す）、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１０％、Ｒ’Ｏ ０〜４０％（但し、Ｒ’Ｏは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯを指す）、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％を含有し、且つ実質的にＰｂＯを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても反り変形が発生しにくいガラス基板熱処理用セッター及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板熱処理用セッターは、板状の無機耐熱材料からなり、一方の面にガラス基板を載置して熱処理するためのガラス基板熱処理用セッターにおいて、ガラス基板を載置する載置面の表面から内部に向かって５μｍ離れた位置でのＫ₂Ｏが１〜５質量％であり、且つ、載置面の表面から内部に向かって１ｍｍ離れた位置でのＫ₂Ｏが０．８質量％未満であることを特徴とする。
また、ガラス基板熱処理用セッターの製造方法は、板状の無機耐熱材料からなり、一方の面にガラス基板を載置して熱処理するガラス基板熱処理用セッターの製造方法において、板状の無機耐熱材料又はその前駆体材料の一方又は両方の面に、外部の供給源からＫイオンを注入することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても反り変形が発生しにくいガラス基板熱処理用セッターを提供することを目的とする。
【解決手段】 ガラス基板熱処理用セッターは、板状の結晶化ガラスからなり、一方の面にガラス基板を載置して熱処理するためのガラス基板熱処理用セッターにおいて、結晶化ガラスがＫ₂Ｏを０．８〜４質量％、Ｎａ₂Ｏを０．５〜４質量％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、市場から回収されたガラスを有効に利用するとともに、手間をかけることなく、着色の少ないＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラスを提供することである。
【解決手段】本発明のＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラスは、質量換算で、Ｆｅ₂Ｏ₃が５０〜５００ｐｐｍ、ＣｏＯ＋Ｃｒ₂Ｏ₃＋ＮｉＯ＋ＭｎＯが５〜１００ｐｐｍ、ＣｏＯ＋ＮｉＯが０〜７０ｐｐｍを含有するＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラスであって、４ｍｍ厚でＬ^*ａ^*ｂ^*表色系のａ^*値が−２〜２、ｂ^*値が−１０〜２０であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】面内磁気記録方式および垂直磁気記録方式の何れにおいても、高密度記録のためのランプロード方式にも十分対応し得る良好な表面特性を兼ね備え、高速回転化に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や耐熱性をも兼ね備えた、溶融温度が低く生産性の高い情報記録媒体用ディスク基板用等の無機組成物を提供する。
【解決手段】α−石英（α−ＳｉＯ_２）、二珪酸リチウム（Ｌｉ_２Ｓｉ_２Ｏ_５）、モノ珪酸リチウム（Ｌｉ_２ＳｉＯ_３）からなる群より選ばれる１種または２種以上の結晶相を含む無機組成物。或いは、少なくともモノ珪酸リチウム（Ｌｉ_２ＳｉＯ_３）の結晶相を含む無機組成物。そして、これらの無機組成物に含有される結晶相を示す粒子の平均粒子径は１μｍ以下である。また、無機組成物のリング曲げ強度が３００ＭＰａ以上であり、研磨加工後の表面粗度Ｒａ（算術平均粗さ）が１０Å以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＰｂＯを実質的に含有せず、鉛硼酸系ガラスと同等の４８０℃以下の温度で焼成が可能であるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供することである。また、本発明の第二の目的は、ＰｂＯを実質的に含有せず、ＰＤＰ製造工程において、５００℃程度で一次焼成しても失透したり結晶が析出したりすることがなく、４５０〜４８０℃の二次焼成で気密封着できるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供することである。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜６０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜３５％、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０．０１〜５％を含有することを特徴とする。また、本発明のビスマス系封着材料は、上記ビスマス系ガラス組成物からなるガラス粉末 ４０〜９５体積％と、耐火性フィラー粉末 ５〜６０体積％とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）