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Fターム[4G077EC10]の内容

結晶、結晶のための後処理 (61,211) | 結晶成長共通−原料の調製、原料組成 (1,132) | 原料組成の調製 (714) | 原料、原料組成物中の不純物濃度の特定、調整 (165)

Fターム[4G077EC10]に分類される特許

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【課題】特定方向に大きく成長した結晶を製造する。
【解決手段】同一原料溶液中で種結晶を育成し続けるのではなく、第1原料溶液1s中でTGS系種結晶C1をある程度育成した後、ドーパントの濃度が異なる第2原料溶液2s中へ成長中種結晶C1を移して育成する。これを繰り返して、特定方向に大きく成長させる。
【効果】b軸方向の成長を抑え、a軸方向,c軸軸方向に大きく成長したTGS結晶を効率良く製造することが出来る。 (もっと読む)


【課題】 構造欠陥密度が低減され、真空紫外光照射時の透過率低下が少ないフッ化物単結晶の製造方法であって、結晶成長段階での精密制御を必要としない製造方法の提供を課題とする。
【解決手段】 ルツボに充填したフッ化物を真空炉内で加熱してフッ化物融液とする融解工程と、フッ化物融液から一酸化炭素(CO)を除去する一酸化炭素除去工程と、一酸化炭素除去工程を経たフッ化物融液を冷却して結晶化する結晶化工程と、を有する製造方法によりフッ化物単結晶を製造する。 (もっと読む)


【課題】 るつぼ内に酸化ホウ素を充填した場合にも、ヒ化ガリウム結晶にへき開破壊が生じることを防止できるヒ化ガリウム結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】 るつぼ1内に、予備合成されたヒ化ガリウム原料4と酸化ホウ素5とが充填され、そのるつぼ1内のヒ化ガリウム原料4が加熱溶融され、ヒ化ガリウム原料4の融液中のガリウムの量をヒ素の量よりも多くした状態でその融液の固化を完了して、カーボンが添加されたヒ化ガリウム結晶を成長させることにより、ヒ化ガリウム結晶が製造される。 (もっと読む)


シード上で少なくともシード成長方向に本質的に垂直な方向で成長され、シード中に存在する結晶欠陥の伝播が本質的になく、転位密度が104/cm2を超えず、シードの転位密度に比べかなり低く、結晶格子曲率半径が大きく、好ましくは15mより長く、より好ましくは30mより長く、最も好ましくは約70mであり、シードの結晶格子の曲率半径よりかなり長い、バルク単結晶ガリウム含有窒化物。
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単結晶インゴットの連続的な成長のためのチョコラルスキー法に基づく改良されたCZシステムは、結晶を囲む選択的な堰を有する、低アスペクト比で大きい直径の、実質的に平面状の坩堝を備える。低アスペクト比の坩堝は、完成品の単結晶シリコンインゴット中の実質的に対流を除去して酸素含有量を低減する。異なる基準で制御されたシリコンプレ溶融炉チャンバは、結晶引上処理中の垂直移動及び坩堝引上システムの必要性を有利に除去した、成長坩堝への溶融シリコンの連続的な供給源を提供する。坩堝下方の複数のヒータは、溶融物に亘る対応する温度ゾーンを構築する。ヒータの温度出力は、改良された結晶成長のために溶融物に亘ってそして結晶/溶融物界面で最適温度制御を提供するために個々に制御される。複数の結晶引上チャンバは、連続的処理及び高スループットを提供する。
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