【課題】ダイモンド粒子の成長を抑制して滑らかなＤＬＣ膜を容易に形成でき、更には、バンドギャップの制御も可能なＤＬＣ膜の形成方法及びＤＬＣ膜の製造装置を提供すること。
【解決手段】基板ホルダー１１によって基板９を冷却して、基板温度が過度に上昇しないようにするとともに、ＤＣパルス放電によるプラズマ化学気相成長法において、原料ガスとして、水素ガスとハイドロカーボン系ガス（ＣＨ₄、Ｃ₂Ｈ₄、Ｃ₂Ｈ₂、Ｃ₄Ｈ₆、Ｃ₄Ｈ₈、Ｃ₅Ｈ₈）を用い、混合比をハイドロカーボン系ガスを１％から５０％に調整する。これにより、ＤＬＣ膜中のダイアモンド粒子の成長を抑制でき、バンドギャップを３．９ｅｖから０．５ｅＶまで制御したＤＬＣ膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】膜が剥離しにくく、高い密着性と高い耐摩耗性、ならびに低摩擦特性を持つダイヤモンド状炭素膜とその製造方法を提供。
【解決手段】基板 1上に結合層 2を介して形成されたダイヤモンド状炭素膜において、結合層 2の上層に硬度が 500〜2000Ｈｖの実質的に水素を含まない軟質炭素膜3aと、硬度が2000〜4000Ｈｖの実質的に水素を含まない硬質炭素膜3bを交互に４層以上積層した高靭性ダイヤモンド状炭素膜層 3を形成し、該高靭性ダイヤモンド状炭素膜層 2の上層に 500〜2000Ｈｖの水素を含む最上層である潤滑性ダイヤモンド状炭素膜層 4を形成した。 （もっと読む）

【課題】本発明はナノ板状構造のダイヤモンドを形成する方法、特に電気化学的方法を使用して六角形のナノ板状構造のダイヤモンドを形成する方法を提供する。
【解決手段】ナノ板状構造のダイヤモンドの形成方法は、多数の孔隙を有するナノ型板を提供するステップと、電気化学的方法を使用して、前記ナノ型板の孔隙でナノ板状構造のダイヤモンドを形成するステップと、前記ナノ型板を除去して、前記ナノ板状構造のダイヤモンドを分離するステップとを含む。既存の形成方法より均一な厚さと大きさを有するナノ板状構造のダイヤモンドを合成することができる。 （もっと読む）

本発明は、伝導性であり、金属非含有であり、かつ、親水性の炭素系被覆を少なくとも部分的に基板に設けることによって、基板の湿潤性を向上させる方法に関する。この炭素系被覆は、窒素でドープされ、１０^８ｏｈｍ−ｃｍ未満の電気抵抗率を有する。さらに本発明は、伝導性であり、金属非含有であり、かつ親水性の炭素系被覆で少なくとも部分的に被覆された基板にも関する。
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【課題】ＤＬＣ薄膜の製造方法の提供。
【解決手段】本発明はＤＬＣ薄膜の製造法に関するものであり、主にはスパッタリング方法を用いて基板表面にＤＬＣ薄膜を形成させるものである。本発明の製造方法には以下の手順を含めている：（ａ）反応室を提供し、反応室に基板を置く、（ｂ）反応室の圧力を１０^-6 ｔｏｒｒ以下とする、（ｃ）少なくとも一種の炭素を含むガスを反応室に導入する、及び（ｄ）石墨ターゲット材料を使用してスパッタリング法を利用してＤＬＣ薄膜を基板に沈積させる。なお、本発明で製作したＤＬＣ薄膜には、薄片構造の特徴を持ち、基板表面に花びら模様に配列している。本発明のＤＬＣ薄膜の薄片構造の高さはミクロン単位で、厚さはナノ単位なので、本発明のＤＬＣ薄膜の薄片構造の高さと広さが高い縦幅比になっており、優れた電界放出増強因子を持つことができる。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな成膜設備を必要とせずに、生産性が高く、複雑な表面形状を有する表面に対しても十分に表面被覆が行えるＤＬＣ膜の形成方法を提供する。
【解決手段】デカフェニルシクロペンタシランからなる側鎖としてフェニル基を有するポリシラン化合物を含む溶液１１に光を照射して、溶液１１中に高分子材料を生成する工程と、光照射後の溶液１１を基板２１上に塗布し、高分子膜２２を形成する工程と、基板２１に熱処理を行うことで、高分子膜２２をＤＬＣ膜２３に変化させる工程とを有することを特徴とするＤＬＣ膜の形成方法である。 （もっと読む）

【課題】炭素を含む液体から常温・常圧の環境下で単分散ナノダイヤモンド粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラスセルなどのレーザー光を透過する透明な容器に常温・常圧で液体状の炭素化合物を装入し、前記容器外からパルスレーザー光を照射し、該パルスレーザー光を前記炭素化合物の液中で高密度に集光することを特徴とする単分散ナノダイヤモンド粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐溶着性及び耐摩耗性を有する非晶質カーボン被覆工具を提供する。
【解決手段】工具の最表面に非晶質カーボン膜を具える非晶質カーボン被覆工具であって、軟質金属または硬質粒子含有材の加工用の工具である。前記非晶質カーボン膜は、グラファイトを含有する原料を用いた物理的蒸着法によって形成され、ヌープ硬度がHk＝3500kg/mm²以上、水素含有量が15at％未満である。グラファイトを出発原料として、グラファイトの昇華反応を利用した被覆方法により成膜することで、硬度が高く、耐摩耗性に優れると共に、耐溶着性に優れる被覆工具である。 （もっと読む）

【課題】エネルギビーム照射を受けても劣化しにくい安定な光学薄膜を提供し、その光学薄膜にエネルギビームを照射して作製される光学素子の安定性をも改善する。
【解決手段】本発明の光学薄膜では、基板上に、少なくとも炭素と水素を主要成分として含む水素化炭素膜が形成されており、その上に、酸化膜、窒化膜、酸窒化膜、フッ化膜、または水素と炭素を主要成分として含む膜のいずれかからなる保護層が少なくとも一層以上積層されている。 （もっと読む）

【課題】本発明はダイヤモンドライクカーボン複合層と基材が比較的高い結合力を持つ金型を提供する。
【解決手段】本発明は、ダイヤモンドライクカーボン複合層を有する金型に関するものであり、前記ダイヤモンドライクカーボン複合層は、基材から外側表面までに、順次に第一層乃至第Ｎ＋１層を備え、前記第一層から第Ｎ層までは、金属又は金属窒化物である詰め物を含むダイヤモンドライクカーボン層であって、且つ各層の詰め物のモルパーセント含有量が逓減し、第Ｎ＋１層は純ダイヤモンドライクカーボン層であって、前記Ｎの値は２〜３０である。 （もっと読む）

【課題】本発明は基材との付着力が強く、磨損と腐食に耐えることができる多層フィルム構造を提供する。
【解決手段】本発明のダイヤモンド状カーボンフィルムは、ｎ層構造を有する多層フィルムであって、前記ｎの値は６〜３０であって、各層の成分は、カーボン、水素及びＸ元素を含むダイヤモンド状カーボンであって、前記Ｘは、クロム、チタニウム、クロムとチタンの合金、又は窒化クロムの一つであって、且つ第一層から第ｎ層まで、各層のＸ成分の原子パーセンテージは次第に減少する。前記ダイヤモンド状カーボンフィルムの第ｍ層の成分は、ａ−Ｃ：Ｈ：（ｎ−ｍ＋１）Ｘであって、ｍの値は、１〜ｎである。前記ダイヤモンド状カーボンフィルムは保護フィルムとして、鋳型、カッター、磁気記録媒体などの領域に用いられる。 （もっと読む）

【課題】 ダイヤモンド電極が各種電極の材料として有用であることは公知であるが、電解プロセスにおいて満足する電極寿命を有する電極はいまだ商用化されていない。工業電解に利用できる耐久性且つ大型化の容易なダイヤモンド電極を開発する必要が生じている。
【解決手段】 導電性基体17表面に導電性ダイヤモンド層21を形成した電解用電極の前記導電性基体の粗さ曲線の算術平均高さ（Ｒａ）と粗さ曲線要素の平均長さ（ＲＳｍ）を一定範囲に維持して大きな山谷18、中程度の山谷19及び微細な山谷20を形成することにより、前記電極の表面積を増大させて長寿命化を図る。 （もっと読む）

【課題】スティックスリップが生じにくく、摩擦係数を一層低減できる高速摺動部材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】表面粗さがＲａ０．００５〜０．１μｍである金属部材に粒状突起形状を有するＤＬＣ膜が被覆され、この粒状突起の高さが０．０２〜０．０５μｍであり、ＤＬＣ膜の表面粗さがＲｓｋ０〜４μｍである高速摺動部材である。ＤＬＣ膜に水素を１０原子％以下の割合で含有する。ＤＬＣ膜の硬度が７０〜９０ＧＰａである。
ＤＬＣをイオンプレーティング法により被覆し、エアロラップ処理を行い高速摺動部材を製造する。 （もっと読む）

ダイヤモンド状炭素ベースの熱電変換装置およびその作製方法と使用方法であって、該熱電変換装置は、改善された変換効率と、増大された信頼性とを有する。該熱電変換装置は、カソード（２５）を備えることができ、該カソード（２５）は、これ全体に被覆されたアモルファスダイヤモンドなどのダイヤモンド状炭素材料（５）の層を備えたベース部材（６０）を有する。誘電中間体部材（５５）は、ダイヤモンド状炭素材料（５）と、アノード（３０）との間で電気的に接続することができる。多数のカソード層および／または多数の中間層など、種々の追加層および構成によって向上した性能を得ることができる。熱電変換装置は、発電機および／または冷却装置として構成することができ、都合良く形成することができる。
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触媒（２０）を調製するためのプロセス（４０）を提供する。触媒（２０）は基板（１２）の上に形成される。水素及び炭素を含むガス（２４）が触媒（２０）に接触させられ、炭素シード層（２６）が触媒（２０）上に形成される。次いで、炭素シード層（２６）をその上に有する触媒（２０）から、カーボンナノチューブ（２８）が成長させられる。
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【課題】特性が異なる２つの領域が膜の表面に露出した有用性の高い炭素系薄膜を提供する。
【解決手段】粒径が２ｎｍを超えるグラファイトクラスターを含む第１領域１１と、粒径が２ｎｍを超えるグラファイトクラスターを含まない第２領域１２とを有し、これら領域１１，１２が表面に露出し、第１領域１１がａ）および／またはｂ）を満たす炭素系薄膜を提供する。ａ）金属元素を含む。ｂ）プレート状グラファイト構造および／またはオニオン状グラファイト構造を含む。好ましい金属元素は、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ａｌ，Ｃｕ，Ａｕである。この薄膜は、例えば、炭素系非晶質薄膜への上記元素のイオンの選択的注入と、上記薄膜への電子線照射により得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 カーボンナノファイバー自身の強度を実質的に低下させることなく、しかも好適な強度を有する複合材料を与えることができるカーボンナノファイバーを提供する。
【解決手段】 表面に炭素膜を有するカーボンナノファイバー。該表面炭素膜において、炭素同士の結合が室温のＸ線光電子分光分析でｓｐ３結合／ｓｐ２結合比が５％〜９０％である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高い収率がえられるダイヤモンドの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】有機化合物を含む液体中において、爆薬を爆発させることによって、ダイヤモンドを合成することを特徴とするダイヤモンドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高分子材料であって、実用上求められるだけの潤滑性を有するとともに摩耗によってもその潤滑性が低下せず、しかもこの材料の強度が損なわれていない高分子材料を得るための炭素膜片の製造方法及びかかる炭素膜片の製造に用いることができる膜片製造装置を提供する。
【解決手段】容量結合型プラズマＣＶＤ法を用い、真空容器１内を所定真空度に維持するとともに炭素膜形成の原料ガスを導入し、電力印加電極２に高周波電力を印加してプラズマを発生させてこの電極２上に潤滑性のある炭素膜を形成し、この電極２の加熱・冷却を繰り返すことでこの電極２から炭素膜片を剥離させ、炭素膜片を回収する。かかる炭素膜片製造に利用できる膜片製造装置。 （もっと読む）

【課題】 改質後の透光性を改善することができる水素化炭素膜の改質方法およびその方法により得られた水素化炭素膜を提供する。
【解決手段】 水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、酸素および硫黄の群から選択された少なくとも１種類の元素を含むガスの雰囲気中で、水素化炭素膜にエネルギビームを照射する水素化炭素膜の改質方法である。また、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、酸素および硫黄の群から選択された少なくとも１種類の元素を含む材料を水素化炭素膜の表面に設置した状態で、水素化炭素膜にエネルギビームを照射する水素化炭素膜の改質方法である。また、炭素および水素以外の第３の元素を含む水素化炭素膜にエネルギビームを照射する水素化炭素膜の改質方法である。 （もっと読む）