ＤＬＣコーティングをテクスチャリングする方法は、ＤＬＣコーティングの自由表面の上に複数のボールまたは球体を単一の層として蒸着するステップと、酸素プラズマを用いてＤＬＣコーティングをドライエッチングするステップと、最後に、複数のボールまたは球体を除去して前記コーティングの表面を洗浄するステップとを含む。
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【課題】種々の炭素質膜に対応して、親水性の炭素質膜を容易に製造できるようにする。
【解決手段】親水性炭素質膜の製造装置は、炭素質膜を成膜するための炭素源となるガスのプラズマ及び酸素のプラズマを発生させるプラズマ生成部１１と、炭素源となるガスのプラズマを用いて基材２１の表面に炭素質膜を成膜し、成膜した炭素質膜へ酸素を含むプラズマを照射するためのチャンバ１２と、酸素を含むプラズマの照射中に、炭素質膜の赤外吸収を測定する赤外吸収測定部１３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】炭素質膜へのプラズマ照射による官能基の導入を効率良く行うことができるようにする。
【解決手段】炭素質膜は、基材１０１の表面に形成された炭素質膜本体１０３と、炭素質膜本体１０３の表面に導入された官能基１０５とを備えている。炭素質膜本体１０３は、少なくとも表面側の部分において炭素−炭素結合を炭素−水素結合よりも多く含む。 （もっと読む）

【課題】 非晶質炭素被覆部材において、基材をArイオンでエッチングした後に非晶質炭素膜を基材上に被覆する方法ではエッチング効果が低く、中間層を基材と非晶質炭素膜の間に形成する方法でも、機械部品や、切削工具、金型に対して実用可能な密着性が得られないという問題を有していた。
【解決手段】 基材に負のバイアス電圧を印加することにより、基材表面に周期律表第IIIa、IVa、Va、VIa、IIIb、IVb族元素から選択される１種以上の元素イオン、あるいは、該元素イオンとKr、Xe、CH₄、C₂H₂、C₂H₄、C₆H₆、CF₄から選択される１種以上のガスを少なくとも含む雰囲気ガスによるガスイオンを複数組み合わせて照射した後、基材上に非晶質炭素膜を被覆する。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成されたメソポーラスシリカ膜の細孔の膜面内での配列の均一性を向上させ、また曲面状の基板に対しても膜面内での配向の均一性の高いメソポーラスシリカ膜を提供する。
【解決手段】基板上の、構造異方性を有する非単結晶性のカーボン膜上に形成されたメソポーラスシリカ膜であって、前記メソポーラスシリカ膜の細孔の膜面内での配列方向が基板全体にわたって、前記カーボン膜の構造異方性によって規定されている方向に対して、一定の方向に制御されているメソポーラスシリカ膜。 （もっと読む）

【課題】健全で均一な厚さを有すると共に、表面に微細な凹凸形状を備え、大幅な摩擦低減が可能なＤＬＣ膜と、このようなＤＬＣ膜を備えたＤＬＣコーティング部材、さらにこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】望ましくはＨｖ１００〜８００の硬さを有し、中心線平均粗さＲａが０．０１μｍ未満の平滑面を備えた基材の表面上にＤＬＣ膜をコーティングしたのち、このＤＬＣ膜の表面に、好ましくはセラミックス材料から成る粒径１００μｍ以下の微細粒子を高速投射して衝突させ、その表面に中心線平均粗さＲａが０．０１〜０．２μｍの微細凹凸を形成する。 （もっと読む）

【課題】大幅な低フリクション化を図ることができるのはもちろんのこと、量産化が可能となるとともに、製造コストを低減することができる摺動部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】部材１，２間への高面圧の印加によって、局所的固体接触が摺動界面で起こり、摺動部材の摺動面で微視的摩耗が生じる。摺動部材１の潤滑膜１１には、炭素系分子１２が、単体あるいはその単体の集合体として含有されている。炭素系分子１２が、上記微視的摩耗によって、潤滑膜１１から露出し、その一部がそこから遊離し、摺動界面に供給される。そのような炭素系分子１２は、転動可能な中空構造を有するから、摺動界面で分子レベルのボールベアリングとして作用する。この場合、炭素系分子が少なくとも一つ存在すると、存在しない場合と比較して、局所的フリクションを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】 軸の端部のかしめ成形を容易にし得るＤＬＣ被膜であって、かしめ成形によって軸端部が径方向に変形しても、ＤＬＣ被膜が基材から不所望に剥離することを防止するロッカアームアッシーおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ＤＬＣ被膜１２を軸基材８に施し、このＤＬＣ被膜１２は、sp2-及びsp3-交雑炭素を含むアモルファス炭化水素を有する最外層の表面層と、この表面層よりも内側で且つ軸基材８に臨み、少なくともクロムを含有する下地層と、これら表面層と下地層との間に介在され、クロムと炭化タングステンとを含むクロム-炭化タングステン層とを有し、軸の端部をマスキングしてＤＬＣ被膜処理したものである。 （もっと読む）

【課題】 ＤＬＣ被膜と基材との密着性向上を図り、ＤＬＣ被膜が基材から不所望に剥離することを防止でき、耐摩耗性の向上を図り、エンジンの運転開始初期状態等での表面損傷を防止して、焼き付き防止を図れるだけでなく、後の潤滑状態を良好にして、十分な耐久性の確保を図れるロッカアームアッシーを提供する。
【解決手段】 ＤＬＣ被膜１２を軸基材８に施し、このＤＬＣ被膜１２は、sp2-及びsp3-交雑炭素を含むアモルファス炭化水素を有する最外層の表面層と、この表面層よりも内側で且つ軸基材８に臨み、少なくともクロムを含有する下地層と、これら表面層と下地層との間に介在され、クロムと炭化タングステンとを含むクロム-炭化タングステン層とを有し、ＤＬＣ被膜が形成された軸基材８における転走面相当箇所の円筒度が４μｍ以下、およびこのＤＬＣ被膜形成後の転走面の円筒度が６μｍ以下のいずれか一方または両方を満足するロッカアームアッシーとした。 （もっと読む）

【課題】 ＤＬＣ被膜が基材から不所望に剥離することを防止し、耐摩耗性の向上を図り、またＤＬＣ被膜が剥離することに起因する相手部品への攻撃をなくすことができるロッカアームアッシーを提供する。
【解決手段】 ＤＬＣ被膜１２を軸基材８に施し、このＤＬＣ被膜１２は、sp2-及びsp3-交雑炭素を含むアモルファス炭化水素を有する最外層の表面層と、この表面層よりも内側で且つ軸基材８に臨み、少なくともクロムを含有する下地層と、これら表面層と下地層との間に介在され、クロムと炭化タングステンとを含むクロム-炭化タングステン層とを有し、軸８Ｍのかしめ後の変形量が、かしめ後の軸８Ｍの軸方向中央の軸径に対し＋0.1mm以下の領域に、ＤＬＣ被膜１２を形成した。 （もっと読む）

【課題】 各部品表面の潤滑状態を良好な流体潤滑にできて、各部品の耐久性向上を図れ、エンジンの運転開始初期状態等での表面損傷を防止して、焼き付き防止を図れるだけでなく、その後の潤滑状態を良好にして、十分な耐久性の確保を図れるロッカアームアッシーを提供する。
【解決手段】 ＤＬＣ被膜１２が軸８Ｍに施され、このＤＬＣ被膜１２は、最外層の表面層２７と、下地層２５と、これら表面層２７と下地層２５との間に介在されるクロム-炭化タングステン層２６とを有し、軸基材８の硬化層における軸基材表面から深さ１０μｍまでの部分の硬度をＨＲＣ５８以上とした。 （もっと読む）

【課題】電気伝導がｐ形伝導であり、低抵抗率、且つ高硬度のるＤＬＣ薄膜材料を提供する。また、該ＤＬＣ膜の製造方法及び該ＤＬＣ膜を用いた工業製品を提供する。
【解決手段】周期律表の３族元素又は２族元素であるボロンやマグネシウム等のｐ形ドーパントをドーピングしないダイヤモンドライクカーボンであって、その電気伝導がｐ形伝導であることを特徴とする。低分子量炭化水素ガスの高濃度プラズマを発生させ、該放電プラズマに接するように被加工基材を設置し、該被加工基材の温度を２００℃以上に保持し、該被加工基材に１ｋＶ以上の正負又は負のパルス電圧を印加して前記被加工基材表面にｐ形伝導ＤＬＣ膜を製膜する。 （もっと読む）

【課題】炭素原子を含む材料として二酸化炭素を用い、プラズマＣＶＤ法によりＤＬＣ膜の形成を可能とする炭素膜形成方法を提供すること。
【解決手段】課題を解決する炭素膜形成方法は、プラズマＣＶＤ法により基材上に炭素膜を形成する方法であって、水素及び二酸化炭素を含むガスをパルス放電によりプラズマ化して基材上に炭素膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ダイヤモンドは不溶不融で加工が難しく、ダイヤモンドの薄膜としてはプラズマＣＶＤにより製造されたものが用いられている。しかし、プラズマＣＶＤにより製造するには大掛かりな装置が必要という問題点があった。本発明は、大掛かりな装置を用いることなく、簡易に製造することができるダイヤモンドの膜を提供する。
【解決手段】ナノダイヤモンドを含んでなることを特徴とする膜。ダイヤモンドライク物質と水と樹脂とを含有することを特徴とするパテ。パテを乾燥する工程を含む、前記記載の膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 摺動部材又は摺動受部材の摺動性を向上させ、摺動部材又は摺動受部材の表面の焼き付きを抑制する摺動部材又は摺動受部材、及びその成形方法を提供する。
【解決手段】 表面にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）５０が被膜されてＤＬＣ層５０ａを成形し、該ＤＬＣ層５０ａに凹部５１が成形された摺動部材４，５又は摺動部材４，５が当接する摺動受部材６において、凹部５１は、凹部５１が連続して伸びる複数の連続凹部５１ａと、連続凹部５１ａが交差する交差凹部５１ｂとを有し、凹部５１は、潤滑油溜りである。 （もっと読む）

【課題】硬度に優れた領域と潤滑性に優れた領域とを同一平面内に局在させて併せ持つことが可能なＤＬＣ膜を備えた金属部材を提供すること。
【解決手段】少なくとも鉄を含む金属基材１１上にＤＬＣ膜１２を配してなる金属部材１０であって、ＤＬＣ膜１２は、ラマンスペクトルにおいて、波数が１５５０〜１６００［ｃｍ^―１］の範囲に観測されるグラファイトに起因したピークを有し、前記ピークの強度が膜面内に複数異なって混在し、前記ピークの強度の最大と最小の差が１桁以上であること。 （もっと読む）

【課題】ＣＡＴ−ＣＶＤ法により高硬度なビッカース硬度を有したＤＬＣ膜を安定に形成することが可能なＤＬＣ膜製造装置を提供すること。
【解決手段】ＣＡＴ−ＣＶＤ法により基材２１にＤＬＣ膜を形成するＤＬＣ膜の製造装置１０であって、基材２１の被成膜面とは反対側に配置され、基材２１を加熱するための第一手段１１と、所定の温度範囲内で基材２１の温度が変動するように、第一手段１１を制御する第二手段１２とを少なくとも備えたこと。 （もっと読む）

【課題】表面粗さが小さく、自己スパッタによる成膜レートの低下が少ない方法で、摩擦係数を低下させ、且つ硬度を上昇させたダイヤモンド状炭素被膜を形成することができるダイヤモンド状炭素被膜の製造方法を提供する。
【解決手段】炭化水素からダイヤモンド状炭素被膜を合成するにあたって、炭化水素とともに、シリコン及び炭素を含む物質を導入し、イオンプロセス主体での合成を可能にする高電圧を印加するプラズマ化学気相成長法により、炭化水素とシリコン及び炭素を含む物質とからダイヤモンド状炭素被膜を合成する。 （もっと読む）

【課題】
Ｐ型半導体性のカーボンを簡易な製造装置により製造できるカーボン製造方法及びカーボン製造装置を提供すること。
【解決手段】
プラズマＰを生成するチャンバ１１内に固体ヨウ素Ｉを配置し、チャンバ１１内に原料ガスＧを供給しつつ固体ヨウ素Ｉを昇華させてプラズマＰを生成し、チャンバ１１内に配置した基材Ｂ上にヨウ素がドーピングされたアモルファスカーボンＣを生成する。これによって、簡易な手法により、ヨウ素をドーピングしたＰ型半導体性カーボンを製造することができる。 （もっと読む）

【課題】大きな変形を伴う基材の表面に形成した場合においても、剥離及びクラックが発生しにくく且つ耐蝕性が高い炭素質薄膜を実現できるようにする。
【解決手段】炭素質薄膜は、基材の表面に形成され、炭素同士が結合したＣ−Ｃ成分及び炭素とシリコンとが結合したＳｉＣ成分を含む膜本体を備えている。膜本体の表面における酸化シリコン成分の比率は、０．０５以下である。 （もっと読む）