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Fターム[4G169CB26]の内容

触媒 (289,788) | 化学合成用(C1化学を除く) (9,462) | 反応機構からみた有機合成反応 (5,261) | 置換、付加、縮合、CO化(オキソ反応除く) (1,133) | 塩化ビニル、1、2−ジクロロエタン、オキシ塩化法 (15)

Fターム[4G169CB26]に分類される特許

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【課題】 オキシ塩素化触媒の粒子毎の金属成分の偏在が小さく、オキシ塩素化触媒の粒子毎の活性が均一となることから活性、選択性に優れるオキシ塩素化触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも下記の(1)〜(3)工程を経るオキシ塩素化触媒の製造方法。
(1)工程;中空円筒形状のアルミナ担体に少なくとも塩化銅及び周期表1族元素の塩化物を担持する工程。
(2)工程;(1)工程の後の少なくとも塩化銅及び周期表1属元素の塩化物を担持した中空円筒形状のアルミナ担体を気流下、0〜35℃の温度範囲内で乾燥を行う工程。
(3)工程;(2)工程の後の少なくとも塩化銅及び周期表1属元素の塩化物を担持した中空円筒形状のアルミナ担体の焼成を行いオキシ塩素化触媒とする工程。 (もっと読む)


【課題】 エチレン、塩化水素及び酸素から1,2−ジクロロエタンを高選択性かつ安定に製造するオキシ塩素化触媒を提供する。
【解決手段】 アルミナ担体に少なくとも塩化銅および周期表1族元素の塩化物を担持した中空円筒形状を有するオキシ塩素化触媒であって、細孔直径3〜15nm未満の範囲内の細孔および細孔直径15〜50nmの範囲内の細孔を有し、塩化銅に対する周期表1族元素の塩化物のモル比の標準偏差が0.1以下であるオキシ塩素化触媒。 (もっと読む)


【課題】 エチレン、塩化水素及び酸素から1,2−ジクロロエタンを製造する際の高選択性に優れるオキシ塩素化触媒を提供する。
【解決手段】 アルミナ担体に少なくとも塩化銅および周期表1族元素の塩化物を担持した中空円筒形状を有するオキシ塩素化触媒であって、細孔直径3〜15nm未満の範囲内の細孔および細孔直径15〜250nmの範囲内の細孔を有するオキシ塩素化触媒。 (もっと読む)


【課題】 流動性、流動性の低下抑制、耐摩耗性、活性、EDCの選択性、エチレン燃焼抑制等に優れ、しかも、エロージョンを低減できるオキシクロリネーション用触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】 (a)アルミニウム塩水溶液にアルミン酸アルカリ水溶液と第二銅塩水溶液とを混合して噴霧乾燥用スラリーを調製し、(c)これを噴霧乾燥し、(d)洗浄し、(e)乾燥し、(f)焼成した後、(g)この焼成物に、アルカリ土類金属塩水溶液及び/又はアルカリ金属塩水溶液から選ばれる少なくとも1種の金属塩水溶液を含浸し、(h)含浸物を焼成する工程を含む。 (もっと読む)


アルミニウム粒状体に支持され、金属として表現して、銅2-10重量%銅の酸化物及び/又は酸素化化合物を含む前駆体であり、前駆体が塩素として表現して塩素化化合物を0〜4重量%の量有し、前駆体粒状体の断面に銅化合物の均一な分布を有する定まったジオメトリック形態を有する中空粒状体の形態であるエチレンの1,2-ジクロロエタンへの固定床オキシ塩素化に使用しうる触媒の前駆体。 (もっと読む)


【課題】エチレンの1,2−ジクロロエタンへの固定床中でのオキシ塩素化用の触媒を提供することを課題とする。
【解決手段】7〜50nmの間の直径を有するミクロ細孔およびメソ細孔で主に形成された、0.4〜0.55ml/gの全細孔容積を有する中空円筒状の顆粒の形態であって、該メソ細孔が主成分を構成し、50nmより大きく10000nmまでの直径を有するマクロ細孔が15〜35%存在する、エチレンの1,2−ジクロロエタンへの固定床でのオキシ塩素化用の触媒により課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】エチレンの1,2−ジクロロエタンへのオキシ塩素化用の触媒を提供することを課題とする。
【解決手段】規定された幾何学的構造、及びマクロ細孔で形成された、全容積の少なくとも20%の細孔容積分布を有する中空顆粒の形態であって、マクロ細孔分布曲線の最大値での細孔径が800nmより大きく1500nmまでである、エチレンの1,2−ジクロロエタンへのオキシ塩素化用の触媒により課題を解決する。 (もっと読む)


本発明は、鋳型のキャビティに導入される粉末状骨材を機械的に圧密化することによって環状酸化物成形体を製造するための方法であって、得られた圧縮構造の周面が円錐台のものに対応する、方法に関する。 (もっと読む)


【課題】 流動性、流動性の低下抑制、耐摩耗性等に優れると共に活性、EDCの選択性、エチレン燃焼抑制等に優れる。
【解決手段】 オキシクロリネーション用触媒組成物は、酸化物として5〜40重量%の範囲のシリカ・アルミナ粒子、酸化物(CuO)として5〜20重量%の範囲の銅、および、Al23として40〜90重量%の範囲の担体アルミナからなる。シリカ・アルミナ粒子はシリカ粒子をアルミナで被覆した粒子であり、平均粒子径は3〜100nmの範囲にあり、シリカ・アルミナ粒子中のアルミナの含有量が0.1〜10重量%の範囲にある。 (もっと読む)


【課題】高純度のロジウム−テルル金属間化合物粒子を効率的に製造する。
【解決手段】ロジウム塩及びテルル塩並びに錯化剤を含有する溶液を還元剤と接触させるとともに、錯化剤として硫黄原子及び/又は窒素原子を含む有機化合物を用いる。 (もっと読む)


【課題】 流動性、流動性の低下抑制、耐摩耗性等に優れると共に活性、EDCの選択性、エチレン燃焼抑制等に優れる。
【解決手段】 オキシクロリネーション用触媒は、シリカ、ボリアおよび五酸化リンから選ばれる1種または2種以上の酸化物(A)とアルミナと銅とを含んでなり、酸化物(A)の含有量が酸化物として1〜8重量%の範囲にあり、銅の含有量が酸化物(CuO)として5〜20重量%の範囲にある。さらに、アルカリ、アルカリ土類、希土類等の助触媒成分を含有しても良い。 (もっと読む)


或る化学組成及び/又は物理性状を有する、触媒として有効な量のオキシ塩素化触媒と、希釈剤とを含むオキシ塩素化触媒組成物を開示している。このようなオキシ塩素化触媒組成物の使用方法をも記述している。ここに開示しているいくつかのオキシ塩素化触媒組成物及び方法は、他のオキシ塩素化触媒組成物と比較して、流動層反応装置など既存の反応装置の最適運転温度を上昇させ、それにより生産能力を増大させることができる。 (もっと読む)


オレフィンを接触的オキシ塩素化するための方法が開示されている。この方法においてはオレフィン、OおよびHClを含有するフィードがオキシ塩素化触媒と接触される。フィード中のO/2HCl比は0.50から0.58の範囲にある。オキシ塩素化反応、特にエチレンのオキシ塩素化で使用する触媒組成物も開示されている。この触媒組成物は、流動床反応器、特に邪魔板付き流動床反応器中での使用に好適な粒子の形をしている。好ましい触媒材料は5.5重量%から14重量%のCuを含んでなる。これらは、Mgなどのアルカリ土類金属および/または稀土類金属を更に含んでなり得る。好ましい組成物は、好ましくはKである、1重量%未満のアルカリ金属を含有する。 (もっと読む)


担体に担持されている活性元素として少なくとも銅を含有するオキシ塩素化触媒であって、該担体がALFOL(登録商標)直鎖第一級アルコール方法の副生成物として得られたアルミナ水和物の焼成によって得られたアルミナから本質的になる触媒、及び1〜4個の炭素原子を含有する炭化水素のオキシ塩素化方法における該触媒の使用。 (もっと読む)


反応器へのフィード中23/1以上のハロゲン源に対するC反応物炭化水素のモル比で、そして/あるいは反応器へのフィード中約46/1以上の酸素源に対するC反応物炭化水素のモル比で、希土類ハロゲン化物あるいは希土類オキシハロゲン化物の触媒の存在において、メタン、ハロゲン化C炭化水素またはこれらの混合物をハロゲン源および酸素源と接触させて、Cl反応物炭化水素と比較して少なくとも1個以上のハロゲンを有するハロゲン化Cl生成物、好ましくは塩化メチルを製造することを包含する酸化的ハロゲン化法。有利なこととしては、この方法は、ハロゲン源と酸素源が全部変換するまで実施可能である。有利なこととしては、この方法は、別々の触媒ハロゲン化段階をパルス、スイングあるいは循環床の方式で使用することにより、反応器までのフィード中に本質的にハロゲンが無くとも実施可能である。ハロゲン化メチルの製造は、有価汎用化学品を製造するための下流工程に集積化可能である。 (もっと読む)


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