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Fターム[4H003AB14]の内容

洗浄性組成物 (67,184) | 陰イオン性界面活性剤 (6,220) | 陰イオン性界面活性剤(一般) (6,218) | スルホネート(一般) (2,154) | 脂肪族炭化水素のスルホネート (424)

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光学的に清澄な水性組織化界面活性剤組成物であって、100重量部の該組成物当たり0重量部から2.5重量部より小の糖及び100重量部の該組成物当たり7.7重量部より大から約50重量部のアニオン性界面活性剤を含み、しかも該アニオン性界面活性剤の少なくとも一部は球晶の形態にある組成物は、パーソナルケア用組成物中の成分として有用である。 (もっと読む)


本発明は、アルキルエトキシル化ポリマー、少なくとも1つの発泡性界面活性剤、アクリレート架橋したコポリマー及び粒子状物質並びに発泡性界面活性剤を含む発泡性クレンジング組成物である。これら組成物は、良好な泡立ちを与え、また容易に洗い流される。前記粒子状物質は、洗浄及び剥離を向上させるか、又は損傷及び/又は(and, or)刺激を与えずにコンディショニング効果を提供する。 (もっと読む)


Si/SiOパターン付きの半導体ウェーハ表面から、ケイ素窒化物およびケイ素酸化物などのケイ素含有粒状物質を除去するための方法および組成物が記載される。該組成物は、超臨界流体(SCF)、エッチング液種、共溶媒、表面不活性化剤、バインダー、脱イオン水、および任意に界面活性剤を含む。SCFベースの組成物は、次の加工の前に、ウェーハ表面から汚染粒状物質を実質的に除去し、これにより半導体デバイスのモルフォロジ、性能、信頼度、及び歩留まりが向上される。

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本発明は、C1〜C4ヒドロキシアルキルカルボン酸と、C5〜C18アルキルモノカルボン酸と、非置換又は置換、飽和又は不飽和C4−ジカルボン酸と、付加的な無機酸又は有機酸とから成る特定の抗菌性四成分系を含む、酸性の殺菌及び/又は洗浄用組成物に関する。本発明の組成物は、濃縮物の形態及び希釈された殺菌及び/又は洗浄用溶液の形態で存在することができる。組成物は、硬質表面を殺菌及び/又は洗浄するプロセス、好ましくは食品、酪農、飲料、醸造及び清涼飲料産業におけるプラント施設を洗浄及び/又は殺菌する定置洗浄(CIP)及び/又は定置殺菌(SIP)プロセスに使用することができる。 (もっと読む)


本発明は、水に分散可能または溶解可能な多孔質体の製造方法、およびこの多孔質体自体を提供する。この多孔質体は、水銀ポロシメトリーで測定した場合に少なくとも約3ml/gの細孔容積を有し、三次元オープンセル格子を含み、水溶性ポリマー物質 10重量%未満、および界面活性剤 5〜90重量%を含有する(ただし、前記多孔質体は0.2〜5mmの平均ビーズ直径を有する球形ビーズではないことを条件とする)。この製造方法は、(a)ポリマー材料と界面活性剤との液体媒体中の均質混合物を準備する工程、(b)前記液体媒体を急速凍結させるために有効な温度の液体寒剤を準備する工程、(c)前記液体媒体の凍結温度未満の温度で、前記液体媒体を急速凍結させるために有効な時間、前記液体媒体を前記液体寒剤で冷却する工程、および(d)凍結した前記液体媒体を凍結乾燥させて、昇華により前記液体媒体を除去することにより多孔質体を形成する工程、を含む。 (もっと読む)


本発明は、中鎖ペルオキシカルボン酸を含む組成物、それらの組成物の製造方法、及び微生物の個体数を減少させる方法に関する。前記組成物は、有利に高いレベルの中鎖ペルオキシカルボン酸を含むことができ、容易に製造することができ、及び/又は減弱された臭気を呈することができる。
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本発明は、浴室面を洗浄するための使い捨て洗浄物品に関し、それは不織布基材層と、液体又はペースト形態のいずれかであることができる洗浄組成物とを含む。洗浄物品は水賦活化される。
本発明はまた、洗浄組成物で含浸された使い捨て洗浄物品に水を添加し、次いで浴室面を拭き取ることによって硬質面を洗浄する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】表面光沢組成物
【解決手段】ポリビニルアルコール、蛍光増白剤からなる群から選択される少なくとも一種の化合物及び少なくとも一種の界面活性剤を含み、様々な表面に増白効果及び光沢効果を与えるために使用される表面洗浄組成物が記載されている。前記組成物は表面に直接使用可能であり、或いは、前処理された雑巾又はふき取り手段を用いて適用され得る。 (もっと読む)


湿潤性を与え、好ましい実施形態においては同時に角質除去する、脂肪種子生成物を含有する、スキンケア及びクレンジング組成物を記載する。脂肪種子生成物は、油体、種子殻及び場合によっては、他の種子成分を含有する。さらなる実施形態において、1又は複数の陰イオン界面活性剤と、脂肪種子生成物粒子 0.1重量%から5.0重量%とを含有し、該粒子の殆どが0.01ミクロンから200ミクロンの長径を有する、化粧用バー状固形物(toilet bar)が提供される。 (もっと読む)


本発明は、硼酸塩および胞子(細菌または真菌の)、増殖性細菌、または真菌を含有する安定な洗浄用組成物に関するものである。この組成物はさらにポリオールを含有できる。
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本発明は、非加圧容器から非噴射剤フォーム分配装置を用いて安定なフォームとして分配させることができるか、又は、望ましくない堆積物若しくはベタベタする使用後感を残す増粘剤及びゲル化剤を使用せず、最終粘度が4,000cps未満のアルコールゲル組成物として分配させることができる、「低級アルコール含有量の高い」(40%v/vを超えるC1-4アルコール)液体組成物に関する。当該液体組成物は、アルコール(C1-4(>40%v/v))、フルオロ界面活性剤(起泡性組成物を調製するためには少なくとも0.001重量%、又は、最終粘度が4,000cps未満のゲル様組成物を調製するためには0%〜2.0%)、所望の性能(起泡性組成物、又は、粘度が4,000cps未満のゲル様組成物)を達成するために加える0%w/w〜10%w/wの付加的な少量成分、及び、バランス(純水)を含んでいる。該組成物には、アルコールゲル若しくはフォーム、エアゾール組成物、トイレタリー、化粧品又は医薬品などに一般的に添加される乳化剤-軟化剤及び保湿剤、第二界面活性剤、フォーム安定化剤、芳香剤、抗菌剤及び別のタイプの医薬成分などの成分又は添加剤又はそれらの組合せを含ませ得る。 (もっと読む)


半導体デバイスを洗浄するための方法。この方法によれば、半導体デバイスが提供され(101)、ミセル溶液が前記半導体デバイスに塗布される(103)。この方法は、銅およびシリコン面を洗浄する際に、またバイアまたはトレンチの表面から加工残渣を除去する際に特に役に立つ。
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装置及び方法を含み、改良された布地洗浄、布地外観及び/又は布地ケア効果を提供するための、布地物品処置システム。より詳細には、本発明のシステムは、処置される布地物品に活性物質を直接付着させることによる、洗剤活性物質及びリンス活性物質の有効な送達を提供する。また、そのような装置及び方法での使用に好適な洗剤組成物及び布地ケア組成物も提供される。本システムは、従来の浸漬型水性洗濯システムと比較して、水を節約し、エネルギー効率が良い。 (もっと読む)


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