【課題】 キメ細かい泡が持続し、クレンジング力、低温安定性に優れる、フォーマー容器充填用の液体洗浄剤組成物を提供。
【解決手段】 下記成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）を含有するフォーマー容器充填用の液体洗浄剤組成物であって、組成物全量に対し、成分（ａ）０．５〜２０質量％、成分（ｂ）０．２〜８質量％、成分（ｃ）０．１〜４質量％、成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の和［ａ＋ｂ＋ｃ］が１〜３０質量％、成分（ａ）と成分（ｃ）の質量比［ａ／ｃ］が２／１〜２０／１である、フォーマー容器充填用の液体洗浄剤組成物。
（ａ） エチレンオキシドの平均付加モル数が６０〜１００モルであるポリオキシエチレンソルビタンモノラウリン酸エステル
（ｂ） 脂肪酸の炭素数が８〜１２である脂肪酸グリセライドであって、グリセライド全量に対するモノグリセライドの含有量が８５質量％以上である脂肪酸グリセライド
（ｃ） アシル基の炭素数が８〜１４であるアシルアミノ酸型陰イオン性界面活性剤
（ｄ） 水 （もっと読む）

【課題】キメ細かい泡が持続し、クレンジング力及び洗浄後のうるおい感が良好で、低温安定性に優れる液体洗浄剤組成物を提供。
【解決手段】成分（ａ）が０．５〜２０質量％、成分（ｂ）が０．３〜８質量％、成分（ｃ）が０．２〜４質量％、［ａ＋ｂ＋ｃ］が１〜３０質量％、［ａ／ｃ］が１／８〜４０／１である、液体洗浄剤組成物。（ａ）エチレンオキシドの平均付加モル数が６０〜１００モルであるポリオキシエチレンソルビタンモノ脂肪酸エステル（ｂ）式（Ｉ）で示される非イオン性界面活性剤ＲＣＯＸ（Ｉ）（式中、ＲＣＯは炭素数８〜１６のアシル基、Ｘはジエタノールアミン及び／又はＮ−メチルエタノールアミンから選ばれるアミン化合物の窒素原子に結合した水素原子を１つ除いた残基、又は二糖類の１つの水酸基から水素原子を除いた残基）（ｃ）アシル基の炭素数が８〜１４であるアシルアミノ酸型陰イオン性界面活性剤（ｄ）水 （もっと読む）

【課題】毛髪や皮膚等の洗浄時、洗浄後の使用性に優れた洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）一般式Ｒ^１Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎＳＯ_３Ｍで表される、Ｒ^１は炭素数８〜１６のアルキル基、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、アルカノールアミンであり、平均付加モル数０．５〜２．５のエチレンオキサイドの硫酸エステル塩であるアニオン界面活性剤、（Ｂ）一般式Ｒ^２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｎ^＋（ＣＨ_３）（ＣＨ_３）−ＣＨ_２ＣＯＯ⁻で表される、Ｒ^２は炭素数６〜２４のアルキル基からなるヒドロキシアルキルベタイン型両性界面活性剤、及び（Ｃ）炭素数８〜２０の炭化水素基を有する脂肪酸アルカノールアミド型ノニオン界面活性剤を（Ａ）：（Ｂ）＝１：１〜３０：１、（（Ａ）＋（Ｂ））:（Ｃ）＝１：１〜１０：１の配合比で含有し、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の配合量の合計が組成物全体の５〜２５質量％である洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄時の良好な泡立ち、泡質を有し、洗浄後の滑らかさ、さっぱり感に優れた洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】下記一般式で表されるヒドロキシアルキル型両性界面活性剤を含有する洗浄剤組成物。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２の少なくとも一方／又は両方は、ＲＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−なるヒドロキシアルキル基であり、残りは水素原子または炭素数１〜６のアルキル基またはシクロアルキル基を示し、Ｍは水素原子またはアルカリ金属原子およびアミン類から選ばれる少なくとも１種を示す。） （もっと読む）

【課題】洗浄時の良好な泡立ち、泡質を有し、すすぎ時の感触に優れた洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表されるヒドロキシアルキル型両性界面活性剤と、（Ｂ）アミノ酸系アニオン界面活性剤を含有する洗浄剤組成物。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２の少なくとも一方／又は両方は、一般式（２）ＲＣ（ＯＨ）ＨＣＨ_２−（式中、Ｒは炭素数６〜２４のアルキル基を示す）で表され、残りは水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｍは水素原子またはアルカリ金属原子およびアミン類から選ばれる少なくとも１種を示す。） （もっと読む）

【課題】石油系の界面活性剤やシリコン剤を混合したシャンプーにより、髪や頭皮の状態が悪化している傾向にある。本発明の解決しようとする課題は、髪や肌を傷めることなく、洗浄効果及び保湿効果に優れ、アロマテラピー機能を兼ねた全身用シャンプーを提供することである。
【解決手段】洗浄成分として少なくとも３種類のアミノ酸系界面活性剤、保湿成分として複数の植物エキス、芳香成分として３種類の精油を混合し、さらに、水溶性プロティオグルカン及びホウセンカエキスを加えて全身用シャンプーとして使用できるものとした。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス用基板、特に表面にＣｕ配線を有する半導体デバイス用基板におけるＣＭＰ工程後の洗浄工程に用いられ、Ｃｕ配線に対する十分な防食性を有し、残渣の発生及び基板表面への残渣の付着を抑制することができる洗浄液を提供する。
【解決手段】以下の成分（Ａ）〜（Ｅ）を含有してなり、かつｐＨが１０以上である半導体デバイス用基板洗浄液。
（Ａ）一般式（１）で表される有機第４級アンモニウム水酸化物
（Ｒ¹）₄Ｎ⁺ＯＨ^- （１）
（但し、Ｒ¹は水酸基、アルコキシ基、又はハロゲンにて置換されていてもよいアルキル基を示し、４個のＲ¹は全て同一でもよく、互いに異なっていてもよい。）
（Ｂ）界面活性剤
（Ｃ）キレート剤
（Ｄ）硫黄原子を有するアミノ酸
（Ｅ）水 （もっと読む）

【課題】 本発明は、原液においてハンドリング性や低温安定性が良く、また水で希釈した際には、粘度上昇により使用性が良く、泡立ちや泡質に優れ、かつ、使用時および洗浄後の肌の感触が良好な、水で希釈して使用する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）アルキルエーテルサルフェート型界面活性剤を７〜１５質量％、（Ｂ）アルカノールアミド型界面活性剤を８〜１８質量％、（Ｃアミドベタイン型界面活性剤またはアルキルベタイン型界面活性剤を２〜７質量％、（Ｄ）単糖類または二糖類を０．３〜５質量％を含有し、（Ａ）および（Ｂ）の含有量が（Ｂ）≧（Ａ）であることを特徴とする洗浄剤組成物である。さらに、（Ｅ）式５で示されるアシルタウリン型界面活性剤０．１〜１質量％を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】チキソトロピー性を有するゲルを剤形とし、皮膚洗浄料としての基本性能を有した上で、既存品との差別化が可能な高機能・高付加価値を有し、精緻なテクスチャーを発現でき、好ましくはナチュラルコンセプトに適合可能であり、また、好ましくは透明性を付与できる、新規な皮膚洗浄料を提供する。
【解決手段】本発明の皮膚洗浄料は、チキソトロピー性を有するゲル状の皮膚洗浄料であって、水、ι−カラギーナン金属塩（Ａ）、および、アニオン界面活性剤（Ｂ）を配合して得られる。 （もっと読む）

【課題】軽油等の油が染みこんだ土壌に対する洗浄力が高く、また洗浄液から油の回収が容易な土壌洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】アシルタウリン型陰イオン界面活性剤およびアシルアミノ酸型陰イオン界面活性剤から選ばれる１種以上である界面活性剤（Ａ）０．１〜５質量％と、下記式（１）で示されるモノマー（ｂ１）と無水マレイン酸（ｂ２）との共重合体の中和塩であって、（ｂ１）と（ｂ２）のモル比〔（ｂ１）：（ｂ２）〕が７：３〜３：７であり、かつ重量平均分子量が５，０００〜１００，０００である共重合体の中和塩（Ｂ）０．１〜５質量％と、水（Ｃ）９０〜９９．８質量％とからなり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比〔（Ａ）／（Ｂ）〕が１／１〜２０／１である土壌洗浄剤組成物。


（式中Ｒ¹は水素原子またはメチル基であり、Ｒ²は炭素数１〜１８のアルキル基、アルコキシル基、フェニル基である。） （もっと読む）

【課題】身体清拭、特に顔や乳幼児のお尻の清拭に用いた場合の肌荒れの問題がなく、且つ金属、プラスチックス、塗膜等の硬質表面の清拭後に拭き残りが生じにくく清拭性良好な湿潤ワイパーを提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で示される化合物（例えば旭化成ケミカルズ社製ペリセア（登録商標））を含有することを特徴とする湿潤ワイパー。
【化１】


（上記一般式（１）において、Ｒ¹は炭素数１〜２３の炭化水素基を示し、Ｒ²は水素又は炭素数１〜３の炭化水素基を示し、Ｙはカルボキシル基、スルホン酸基、硫酸エステル基、リン酸エステル基又はそれらの塩を示し、Ｚは−ＮＲ'−（Ｒ'は水素又は炭素数１〜１０の炭化水素基）、−Ｏ−、又は−Ｓ−を示し、ｊ、ｋは０、１、２のいずれかであり、かつｊ、ｋは同時に０ではなく、ｎは２〜２０の整数を示す。Ｘは分子量１００万以下の炭化水素鎖を示す。） （もっと読む）

【課題】多忙な現場での実手洗い時間を考慮した、短時間の使用であっても十分な程度の高い殺菌性を発揮することができる皮膚殺菌洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）成分：トリクロサン及び／又はパラクロロメタキシレノールを０．０５〜２質量％；（ｂ）成分：下記一般式（１）：Ｒ¹−ＯＨ （１）
（式中、Ｒ¹は炭素数６〜１０の炭化水素基である。）で示されるアルコール、及び；（ｃ）成分：アニオン性界面活性剤を２質量％を超えて３５質量％以下含有する皮膚殺菌洗浄剤組成物であって、（ｃ）成分と（ｂ）成分との質量比が（ｃ）／（ｂ）＝０．９／１〜１５／１であり、かつ該組成物の２５℃のｐＨが５．５未満である皮膚殺菌洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】多忙な現場での実手洗い時間を考慮した、短時間の使用であっても十分な程度の高い殺菌性を発揮することができる皮膚殺菌洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）成分：油溶性殺菌剤を０．０５〜２質量％；（ｂ）成分：下記一般式（１）：Ｒ−Ｏ−（ＡＯ）_n−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数６〜１０の炭化水素基であり、ＡＯはエチレンオキシド基又はプロピレンオキシド基であり、ｎは平均付加モル数を示し、ｎ＝１〜３である。）で示される化合物、及び；（ｃ）成分：アニオン性界面活性剤を０．５〜３５質量％含有する、皮膚殺菌洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】皮膚及び毛髪の洗浄において、落とすべき汚れを効果的に落とす優れた洗浄力を有する一方で、肌や毛髪のうるおいを保つのに必要な角質層の脂質やＮＭＦ成分などを洗い流さないうるおい保持力を両立する洗浄剤組成物を得ることを目的とする。
【解決手段】アニオン性界面活性剤及びＮ−アセチルグルコサミンを含有する洗浄剤組成物である。好ましくは、前記アニオン性界面活性剤が脂肪酸石鹸であり、さらに洗浄剤組成物にはキレート剤をさらに含有する。 （もっと読む）

【課題】低反射率をもたらす、シリコンウェハー表面でのピラミッドの均一かつ密な分布を与える。
【解決手段】１種以上の界面活性剤を有する、シリコンウェハーをテクスチャ形成するためのテクスチャ形成前処理組成物。１種以上の界面活性剤を有するテクスチャ形成前処理組成物でシリコンウェハーを濡らす工程に続いて、テクスチャ形成工程を有する、シリコンウェハーのテクスチャ形成方法。 （もっと読む）

【課題】白色クリーム様のコク感を有しながら水洗時に洗い流しやすくやすく、洗浄後はなめらかな肌感触となり、しかもメーク除去効果に優れ、ゲル安定性にも優れたゲル状洗浄組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）エステル置換度が１．８以下であるショ糖脂肪酸エステル ０．５〜５質量％と、（ｂ）分子内に３個以上の水酸基を有する多価アルコール ５〜５０質量％と、（ｃ）油分 ２０〜９０質量％と、（ｄ）酸化チタン及び／又は酸化亜鉛 ０．０１〜２．０質量％と、を含むものとする。 （もっと読む）

【課題】シリコーンに対する洗浄力に優れ、起泡性と泡のクリーミー性に優れ、洗髪時、すすぎ時の指通りが良く、また、べたつかずサラサラで自然なまとまりに仕上がり、さらには防腐剤等を配合せずとも防腐性に優れる毛髪洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】下記の（ａ）成分〜（ｆ）成分を含有し、（ａ）成分が組成物中２〜１０質量％、（ｂ）成分が組成物中５〜１５質量％、（ｃ）成分が組成物中１〜５質量％、（ｄ）成分が組成物中０．５〜５質量％、（ｅ）成分が組成物中１〜５質量％、（ｆ）成分が組成物中０．１〜１質量％であることを特徴とする毛髪洗浄剤組成物。
（ａ）アシルβ−アラニン型界面活性剤
（ｂ）アシルタウリン型界面活性剤
（ｃ）アミドベタイン型界面活性剤及び／又はアルキルベタイン型界面活性剤
（ｄ）ポリオキシエチレングリコール
（ｅ）１，２−ペンタンジオール及び／又は１，２−ヘキサンジオール
（ｆ）カチオン性ポリマー （もっと読む）

【課題】基板表面を腐食することなく微粒子付着による汚染、有機物汚染及び金属汚染を同時に除去することができ、しかも水リンス性も良好で、短時間で基板表面を高清浄化することができる半導体デバイス用基板洗浄液を提供する。
【解決手段】
半導体デバイス製造における化学的機械的研磨工程の後に行われる、半導体デバイス用基板の洗浄工程に用いられる洗浄液であって、以下の成分（Ａ）〜（Ｄ）を含有してなる半導体デバイス用基板洗浄液。
（Ａ）有機酸
（Ｂ）スルホン酸型アニオン性界面活性剤
（Ｃ）ポリビニルピロリドン及びポリエチレンオキシド−ポリプロピレンオキシドブロック共重合体から選ばれる少なくとも１種の高分子凝集剤
（Ｄ）水 （もっと読む）

【課題】長鎖アシルイミノジ酢酸化合物を含む水溶液の低温安定性を改善し、さらに高温安定性、粘度到達性、使用感を改善する方法の提供。
【解決手段】長鎖アシルイミノジ酢酸化合物含有水溶液とＮ−アシル−Ｎ−アルキル中性アミノ酸化合物及び／又はＮ−アシル−Ｎ−アルキルタウリン化合物とを、配合重量比８／２〜２／８で混合する方法。さらに両性界面活性剤及び／又は双極性界面活性剤及び／又は半極性界面活性剤を含有させる方法。 （もっと読む）