通常液体の炭化水素及び通常固体の炭化水素を生成するフィッシャー・トロプシュ法の炭化水素質流を、主としてＣ_２０−炭化水素を含む軽質フラクション、好ましくはＣ_２０−炭化水素を９０重量％以上、更に好ましくは９５重量％以上含む軽質フラクションと、残部炭化水素を含む１種以上の重質フラクションとに分離する工程、該軽質フラクションの少なくとも一部を水素化して、不飽和炭化水素及び／又は酸素化物を飽和炭化水素に転化する工程、こうして得られた生成物を蒸留して、洗剤炭化水素を含む少なくとも１つのフラクションを得る工程、該洗剤炭化水素の少なくとも一部を脱水素化して、モノオレフィンを含む洗剤炭化水素流を得る工程、及び該モノオレフィンを転化して、洗剤を得る工程を含む洗剤の製造方法に関する。本発明は更に、前記方法で得られる水素化炭化水素を脱水素化して、モノオレフィンを含む洗剤炭化水素流を得る工程、及び該モノオレフィンを転化して、洗剤を得る工程を含む洗剤の製造方法に関する。更に本発明は、フィッシャー・トロプシュ炭化水素質反応生成物から洗剤又は洗剤炭化水素の製造と燃料の製造とを組合せた方法に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、生分解性及び界面活性能に優れた界面活性剤組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明の界面活性剤組成物は、下記の一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^１は、炭素数８〜２０の脂肪族炭化水素基を表わす。）
で表される化合物のアルキレンオキシド付加物からなる界面活性剤を必須成分として含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 使いやすさ、洗浄力、仕上がり感に優れ、保存安定性が良好な液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 （ａ）非イオン界面活性剤、（ｂ）特定の水溶性無機塩、（ｃ）水、（ｄ）特定の両親媒性脂質、（ｅ）重量平均分子量３０００〜８００万の水溶性安定化ポリマーを、それぞれ特定比率で含有し、ＪＩＳ Ｋ ３３６２：１９９８記載の界面活性剤相当分１０〜６０質量％、平均粒径０．１〜２０μｍの液滴が存在し、粘度１０〜２０００ｍＰａ・ｓ（Ｂ型粘度計、６０ｒ／ｍｉｎ、６０秒、２０℃）である液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】固体状微粒子や油状汚れの付着した半導体基板又は半導体素子の洗浄性に優れ、かつ泡立ちの少ない洗浄剤組成物を提供すること、並びに固体状微粒子や油状汚れの付着した半導体基板又は半導体素子の洗浄性に優れ、かつ泡立ちの少ない洗浄方法を提供すること。
【解決手段】アクリル酸、メタクリル酸及びマレイン酸からなる群より選ばれる少なとも１種（Ａ）と、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸（Ｂ）を含むモノマー成分を用いて得られ、（Ａ）の総使用量が全モノマー成分の８０モル％以上で、重量平均分子量が５００〜１５万のポリカルボン酸化合物を含有してなる、半導体基板用又は半導体素子用洗浄剤組成物、並びに洗浄剤組成物を用いて洗浄する半導体基板又は半導体素子の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 洗浄性能を高めることが容易な洗浄剤組成物、及び保存安定性に優れる洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】洗浄剤組成物は、水又はエタノールを主成分とする溶媒に、非イオン性界面活性剤と（Ｄ）アニオン性界面活性剤とが溶解されてなるものである。この洗浄剤組成物には、リモネン及びカチオン性界面活性剤のうち少なくとも１種を含有させてもよい。 （もっと読む）

本発明は、皮膚上への活性成分および感覚マーカーの付着を促進させる目的で棒状せっけん中に組み込まれうる、改善された制御デリバリーシステムに関する。このキャリアーシステムはまた、皮膚からのこれらの活性成分の長期間にわたる制御された放出または持続的な放出を提供する。本発明の制御放出システムは、湿気に感受性のマイクロスフェア中に封入された、固体状で疎水性であり、正に荷電した、封入活性成分のナノスフェアからなる実質的に流動性の粉末を含む。ナノスフェアの高いカチオン性電荷密度により、皮膚上への活性成分の付着が改善される。ナノスフェア表面の高いカチオン性電荷密度は、ナノスフェアの固体状の疎水性マトリックス中にカチオン性仕上げ剤を導入することにより、湿気に感受性のマイクロスフェアマトリックス中にカチオン性電荷「増強剤」を導入することにより、または、ナノスフェア中のカチオン性仕上げ剤をマイクロスフェアマトリックス中のカチオン性電荷「増強剤」と組み合わせて用いることにより、作製されうる。本発明はまた、本発明の制御放出システムを含むせっけん製品をも含む。
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本発明は有機物汚れで汚染された物品用の清浄液に関し、次のものから構成される：
−（Ａ）重量で５０％以上、好ましくは重量で６０％以上、より好ましくは重量で７０％以上および最も好ましくは重量で８０％以上の少なくとも１つのラクトン；
−（Ｂ）８から１５の範囲のＨＬＢを持つ少なくとも１つの界面活性化合物。 （もっと読む）

Ｓｉ／ＳｉＯ_２パターン付きの半導体ウェーハ表面から、ケイ素窒化物およびケイ素酸化物などのケイ素含有粒状物質を除去するための方法および組成物が記載される。該組成物は、超臨界流体（ＳＣＦ）、エッチング液種、共溶媒、表面不活性化剤、バインダー、脱イオン水、および任意に界面活性剤を含む。ＳＣＦベースの組成物は、次の加工の前に、ウェーハ表面から汚染粒状物質を実質的に除去し、これにより半導体デバイスのモルフォロジ、性能、信頼度、及び歩留まりが向上される。

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その上にフォトレジスト及び／又は犠牲反射防止膜（ＳＡＲＣ）材料を有する基板からかかる材料を除去するための組成物及びプロセスを開示する。この組成物は、アルカリ又はアルカリ土類金属塩基との組み合わせの第四級アンモニウム塩基などの塩基成分、あるいは酸化剤との組み合わせの強塩基を含む。例えば、キレート剤、界面活性剤、及び／又は共溶媒種と一緒に水性媒体中でこの組成物を利用して、集積回路製造において基板上の銅、アルミニウム及び／又はコバルト合金などの金属種に悪影響のない状態で、かつ、半導体構築において利用されるＳｉＯＣをベースとする誘電材料に損傷のない状態でフォトレジスト及び／又はＳＡＲＣ材料の非常に効率的な除去を達成することができる。 （もっと読む）

本発明は、以下の工程を含む錠剤型洗剤の製造方法に関する。（ａ）ソルビトール、キシリトール、エリスリトール、２０〜８０等量アルコキシル化Ｃ_１０〜Ｃ_１８フェノールアルコキシレート、５０〜２５０等量アルコキシル化Ｃ_１２〜Ｃ_２４アルコールアルコキシレート、５０〜１００等量アルコキシル化ヒマシ油アルコキシレート、Ｃ_１２〜Ｃ_２５脂肪酸モノ−、ジ−及び／又はトリグリセリンエステル、Ｃ_１０〜Ｃ_２５脂肪酸、及びこれらの混合物から成る群から結合剤を選択し、（ｂ）該結合剤をその融点以上に加熱して、融解結合剤を形成し、（ｃ）洗剤成分のプレミックスを含む基粉体に、該融解結合剤を添加して、洗剤組成物を形成し、及び（ｄ）該洗剤組成物を錠剤に形成する。さらに本発明は、このような工程により得られる錠剤組成物、及び錠剤型洗剤の破損耐性を改善するための、該結合剤のその融解形態での使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、以下の工程を含む錠剤型洗剤の製造方法に関する。（ａ）（ｉ）結合剤及び、（ｉｉ）所望により粘度調整剤を、含む、結合剤系を調製し、該結合剤系は、剛性率値Ｇが１０〜１００ＧＰａ、位相角値δが少なくとも７°、及び１００ｋＰａにおける融点が少なくとも４５℃であり、（ｂ）該結合剤系をその融点以上に加熱して、融解結合剤系を形成し、（ｃ）洗剤成分のプレミックスを含む基粉体に、該融解結合剤系を添加して、洗剤組成物を形成し、及び（ｄ）該洗剤組成物を錠剤に形成する。さらに本発明は、該工程により得られる錠剤組成物、及び錠剤型洗剤の破損耐性を改善するための該結合剤系又は該結合剤のその融解形態での使用に関する。 （もっと読む）

【課題】表面光沢組成物
【解決手段】ポリビニルアルコール、蛍光増白剤からなる群から選択される少なくとも一種の化合物及び少なくとも一種の界面活性剤を含み、様々な表面に増白効果及び光沢効果を与えるために使用される表面洗浄組成物が記載されている。前記組成物は表面に直接使用可能であり、或いは、前処理された雑巾又はふき取り手段を用いて適用され得る。 （もっと読む）

マイクロエレクトロニクスの基板を洗浄するための水性洗浄組成物およびその洗浄組成物の使用方法。それらの組成物は、そのような基板を本質的に完全に洗浄でき、そのような基板の金属要素の金属腐食を本質的にもたらさない。本発明の水性洗浄組成物は、（ａ）水、（ｂ）少なくとも１種のアンモニウムおよび第四級アンモニウムイオン、および（ｃ）少なくとも１種の次亜リン酸（Ｈ_２ＰＯ_２⁻）および／または亜リン酸（ＨＰＯ_３^２−）イオンを有する。洗浄組成物は、フッ化物イオンを含んでもよい。場合により、組成物は、有機溶媒、酸化剤、界面活性剤、腐食阻害剤および金属錯体化剤などの他の成分を含有してもよい。 （もっと読む）