本開示は、超濃縮液体洗濯洗剤（例えば、3×＋ 超濃縮液体洗濯洗剤）に関する。例えば、本開示は、低温（例えば、約14℃〜約19℃）において優れた水分散性を有する超濃縮液体洗濯洗剤に関する。 （もっと読む）

【課題】
鉄粉等の金属粉、鉄錆、その他の金属酸化物、更には油脂等の重質の汚れが付着した車両の塗装面や作業着やウエス等の繊維類は通常の洗浄方法では全く取れないか、取るのに多大の苦労を要していたが、これらの汚れを塗装面や繊維その他の素地上に悪影響を与える事無く、極めて安全、簡便に除去出来る洗浄剤を提供する。
【解決手段】
チオカルボン酸及びチオカルボン酸塩の１種又は２種以上の化合物０．５〜６０重量％と酸化防止剤０．１〜６０重量％を有効成分として含有する組成物を金属粉汚れ除去剤として使用する事。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を有すると共に基板表面から脱離したパーティクルの分散性も良好であり、優れたパーティクルの除去性を実現し、製造時における歩留まり率の向上や短時間での洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供する。
【解決手段】 分子内に少なくとも４個のホスホン酸基を有するキレート剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】パルプ材料から有機物を取り除く機能に優れたパルプ洗浄剤、及び該パルプ洗浄剤を用いたパルプ製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のパルプ洗浄剤は、疎水性部分に芳香族環を有する非イオン系界面活性剤を含有する。また、本発明のパルプ製造方法は、蒸解ゾーン２１１においてパルプ材料を蒸解してパルプを得る蒸解手順と、パルプを洗浄ゾーン２１２又はパルプ洗浄部３０において洗浄する洗浄手順と、洗浄されたパルプを漂白部において漂白する漂白手順と、を有し、洗浄ゾーン２１２又はパルプ洗浄部３０に、疎水性部分に芳香族環を有する非イオン系界面活性剤を含有するパルプ洗浄剤を添加する添加手順を更に有する。 （もっと読む）

【課題】
硬質床表面を洗浄するための洗浄法であって、実質的に清浄で非滑性な硬質床表面を効果的に復元させることができる有効な洗浄法を提供する。
【解決手段】
下記の逐次的な過程(a)〜(c)を含む、脂肪および脂肪酸のＣａ塩を含有する複合汚れを有する、グラウトで固めた素焼き陶製タイル表面たる硬質床表面の洗浄法であって:
(a)最初に、複合的汚れが存在する硬質床表面にアルカリ性pHを有する第一クリーナーを接触させ、続いて該複合汚れに機械的力を印加し、
(b)次に、処理された床表面に酸性pHを有する第二クリーナーを接触させ、機械的汚れ除去作用を加え、
(c)次いで、処理された床表面に中性pHを有する第三クリーナーを接触させる、硬質床表面の洗浄法。 （もっと読む）

【課題】油脂およびデンプン汚れの両方に対する洗浄力の高い食器洗浄機用洗浄剤を提供する。
【解決手段】下記一般化学式（１）で表されるアミンのエチレンオキサイド付加物（Ａ）と、グリフィンのＨＬＢが７〜１５である非イオン界面活性剤（Ｂ）を必須成分とし、これらのエチレンオキサイド付加物（Ａ）と非イオン界面活性剤（Ｂ）との重量比（Ａ）／（Ｂ）が９９／1〜５０／５０であることを特徴とする食器洗浄機用洗浄剤を使用する。
【化１】


［式中、Ｒ^１は炭素数１〜６の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、または置換されていてもよい脂環骨格の炭素数５〜７のシクロアルキル基を表す。ｋとｍはオキシエチレン基の付加モル数であって、ｋ＋ｍ＝２〜４となる正の整数である。］ （もっと読む）

【課題】 洗浄力に加え、抱水性に優れたドライクリーニング用洗浄剤組成物の提供をする。
【解決手段】 スチレン化フェノール、スチレン化アルキルフェノール、スチレン化フェノールアルキレンオキサイド付加物、スチレン化アルキルフェノールアルキレンオキサイド付加物、スチレン化フェノールアルキレンオキサイド付加物の脂肪酸エステル及びスチレン化アルキルフェノールアルキレンオキサイド付加物の脂肪酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク基板用洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における２５℃でのｐＨが５〜１３であり、ｐＨ及び同濃度における２５℃での酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく、適度にコントロールされたエッチング性を付与することで、強固に付着した微小なパーティクルを基板表面から脱離させ、更に界面活性剤を用いて脱離したパーティクルを洗浄剤中に安定に分散させることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤を提供することにある。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における２５℃でのｐＨが５未満であり、ｐＨ及び同濃度における２５℃での酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

（Ａ）少なくとも１つの界面活性剤；並びに（Ｂ）（ｉ）界面活性特性を有する抗微生物剤；（ｉｉ）疎水性物質；及び（ｉｉｉ）極性溶媒を含む、抗微生物組成物を含む製剤を開示する。 （もっと読む）

【課題】洗浄性に優れ、被洗浄物の持込による洗浄液の劣化が少なく、さらに引火点がなく、人体や環境への影響が少ないウエハ又は板状物の洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】次の成分（ａ）〜（ｅ）を含有することを特徴とするウエハ又は板状物の洗浄剤組成物である。
（ａ）下記一般式（１）で示されるアルキルポリグルコシド ５〜４０重量％
Ｒ−Ｏ−（Ｇ）ｎ−Ｈ ……（１）
（式中Ｒは炭素数１〜２２の直鎖又は分岐のアルキル基であり、Ｇは炭素数５〜６の還元糖を示し、ｎは１〜５である。）
（ｂ）金属イオン封鎖剤（キレート剤） １〜２０重量％
（ｃ）アルカリ剤 １〜３０重量％
（ｄ）エーテル型非イオン界面活性剤 １〜３０重量％
（ｅ）水 残部 （もっと読む）

有機リン防汚剤及び所望による非綿用の第２の防汚剤を含む、全ての布帛に防汚の利益を提供する洗濯用洗浄剤組成物。本発明は、綿製品を、水溶性及び／又は分散性の有機リン材料と接触させることを含む、綿布帛に防汚利益を付与するための方法にさらに関する。接触は、洗浄の際、あるいは上記組成物を汚染物に直接適用するか、又は洗浄の前に上記組成物に衣類を予浸することによる前処理によりなされうる。本発明は、漂白剤の存在下で、洗濯物の洗浄の負荷における、全ての布帛に防汚利益を付与することにさらに関する。
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【課題】広範囲の洗剤を改質するための費用を避けるための「ドロップイン（drop-in）生成物」及び新しいエトキシレート方法を提供する。
【解決手段】先の製造からの生成物の一部（「ヒール」）またはエトキシレートを反応器に充填する工程と、必要に応じて、約０．２重量％からヒール量と等しいかまたはそれを超える量までのアルキルフェノールスターターを反応器に充填する工程と、エチレンオキシドを充填して二重金属シアン化物（「ＤＭＣ」）触媒を活性化する工程と、アルキルフェノールスターターをエチレンオキシドと同時に、方法の一部の間、添加する工程と、アルキルフェノールスターターおよびエチレンオキシドの同時添加の完了に続いて、エチレンオキシドの添加を続ける工程とを含む、アルキルフェノールエトキシレートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】液状で取扱いが容易であり、かつ低起泡性で広範囲の基材を洗浄する能力を有する非イオン系界面活性剤を有効成分として含有してなる洗浄剤を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるアルケニルフェノールの１種または２種以上にアルキレンオキサイドを付加した化合物を含有することを特徴とする洗浄剤。


（式中、Ｒは炭素数１３〜１７のアルケニル基を表し、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を表し、ｎは１〜１００の整数であって、ｎ個のＡＯは同一であっても異なっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】色剤濃度が高く、また顔料インクを使用するインクジェットプリンタに適用する場合でも優れた洗浄性を発揮し、かつ部材を侵すことなく既存のインクジェットプリンタで使用可能であり、消泡性、防腐防黴効果も優れる新規のインクジェット記録用メンテナンス液が望まれている。
【解決手段】本発明のインクジェット記録用メンテナンス液は、水と、可塑剤と、保湿剤とを含んでなることを特徴とする。さらに、グリコールエーテル類、１，２−アルキルジオール類、アセチレングリコール系界面活性剤等の浸透剤等を含ませることで、さらに洗浄性を向上させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】従来の繊維製品を始め、再生樹脂を使用した各種繊維製品に対しても、優れた洗浄性、再汚染防止性を発揮する繊維製品用洗浄剤を提供する。
【解決手段】芳香族環を１個以上含む炭化水素基にオキシエチレン基又はオキシプロピレン基を付加した第１の非イオン界面活性剤と、ポリオキシアルキレンアルキル（又はアルケニル）エーテル化合物からなる第２の非イオン界面活性剤及びキレート剤を含有し、イオン交換水で希釈し０．１％水溶液としたときのｐＨ（２０℃）が４〜８である繊維製品用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】デバイス基板の洗浄において、配線や絶縁膜、容量膜等のデバイス材料の腐食や溶解を防止しつつ、基板上のパーティクル等の汚染を効果的に除去することができるデバイス基板用の洗浄組成物、洗浄方法、洗浄装置の提供。
【解決手段】１分子中に少なくとも１つの水酸基を有し、ＨＬＢが１２以上２０以下の非イオン界面活性剤と、ベンゾトリアゾール又はその誘導体と、を含有し、２５℃における水素電極基準の酸化還元電位が略−１２００ｍＶ以上１００ｍＶ以下または略４００ｍＶ以上１２００ｍＶ以下の塩基性水溶液を用いて基板を洗浄する。 （もっと読む）

織物を洗濯するための新規方法を開示する。ここで、酵素及び界面活性剤を含んで成るフォーム組成物は、織物全体に行渡らされる。保持期間の終了後、水及び洗剤組成物が添加され、当該織物は通常の洗浄条件で洗浄される。洗浄期間終了後、せっけん水は廃棄され、そして当該織物は通常の手段を用いてすすがれ、そして乾燥される。 （もっと読む）

【課題】洗浄時において微細化したパーティクルの再付着防止性や指紋などの有機物の洗浄性に優れ、効率的な高度洗浄を可能にする半導体基板用洗浄剤を提供する。
【解決手段】一般式（１）のノニオン性界面活性剤および一般式（２）のノニオン性界面活性剤から選ばれる１種以上のノニオン性界面活性剤（Ａ）、アニオン性界面活性剤（Ｂ）並びに水（Ｃ）を含有してなる半導体基板用洗浄剤。


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本願は、SEQID NO:1に示されたアミノ酸配列をもつ修飾を受けたEGII、この修飾を受けたEGIIを含む組成物及び使用法について述べる。 （もっと読む）