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Fターム[4H003EA31]の内容

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Fターム[4H003EA31]に分類される特許

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約0.1%〜約6%のヒドロトロープを提供することと、約22%〜約50%のクラッチャー混合湿分を提供することと、約0.2%〜約8%の、少なくとも約10,000g/モルの分子量を有する水溶性ポリマーを提供することと、約2%〜約20%の、少なくとも約2rのSiO:NaO比を有するケイ酸ナトリウム及び補助剤クラッチャー成分の残部を提供することと、ヒドロトロープ、クラッチャー混合湿分、ポリマー、ケイ酸塩及び補助剤クラッチャー成分をクラッチャー内で混合して、スラリーを形成することと、スラリー内に約6,000kPa〜約13,000kPaの圧力、約0.01%〜約0.25の比率でガスを注入することと、該スラリーを洗剤顆粒へ形成することとの各工程を有する低密度洗剤顆粒の形成方法。該スラリーは、ゼオライトビルダー及びリン酸塩ビルダーを実質的に含まず、且つ該クラッチャー温度は約40℃〜約95℃に保たれる。 (もっと読む)


【課題】 液体や膜状物、医薬品原料や試薬原料などの中に含まれるタンパク質を、従来と比較して格段に簡便かつ確実に分解することができる処理方法、およびそのための処理装置を提供する。
【解決手段】 液体または膜状物に反応性を有する粒子を放出することによって、当該液体または膜状物に含まれるタンパク質を断片化することを特徴とする処理方法、ならびに、反応性を有する粒子を発生する手段と、タンパク質を含む材料中のタンパク質を材料表面に露出させるための手段と、前記露出したタンパク質に前記反応性を有する粒子を放出する手段とを備える処理装置。 (もっと読む)


【課題】実質的にバインダー成分に頼らず、表面改質用粉末の洗剤粒子表面への付着性を向上させる表面改質処理方法を提供すること、該処理方法にて表面の被覆性が高まり、高溶解性でありながら耐ケーキング性に優れた洗剤粒子群の製造方法並びに前記処理方法を用いて得られる洗剤粒子群を含む洗剤組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】洗剤粒子表面を表面改質用粉末にてコーティングする工程で、表面改質用粉末及び/又は洗剤粒子の帯電量の符号をお互いに正反対に調整する工程を有する洗剤粒子の表面改質処理方法、該処理方法を用いる洗剤粒子群の製造方法、並びに前記の処理方法を用いて得られる洗剤粒子群を含む洗剤組成物の製造方法。 (もっと読む)


【解決手段】 カーペット、椅子張り、カーテンおよび他の織物繊維が、炭酸塩および低溶解性の酸を熱水と、低溶解性の酸が遅延して炭酸塩と反応し、織物繊維に塗布される前に二酸化炭素を生成するように混合して調製した、化学的に炭酸化された水性の洗浄溶液を繊維に塗布することによって洗浄される。二酸化炭素の遅延した生成は、二酸化炭素が失われる前に、二酸化炭素が失われるのを防止する。熱水は洗浄溶液の洗浄能力を高める。 (もっと読む)


【課題】 バイオガスから硫黄化合物、特にH2Sを、可能な限り簡素にかつ効果的に除去する方法を提供すること。
【解決手段】 バイオガスが、耐塩性微生物でコロニー形成された物体2を通って誘導され、硫黄化合物中の硫黄の少なくとも一部が、該微生物によって主として元素硫黄5へと酸化される間に、バイオガスから硫黄化合物を除去する方法であって、鉄イオンを含有した希釈溶液4で該物体2をすすぎ洗いし、元素硫黄5を除去することによって該方法の効果が高まる。 (もっと読む)


【課題】 安価で、かつSiを含有する基板の表面の面荒れを抑制した状態で、上記基板表面に付着したパーティクルや有機物等の不純物を効率良く除去できるSiを含有する基板の洗浄溶液及び洗浄方法の提供。
【解決手段】アミノアルコールとホスホン酸と過酸化水素水との混合溶液からなるSiを含有する基板の洗浄溶液。アミノアルコールの濃度は0.01%〜0.5%であり、ホスホン酸の濃度は0.01%〜0.5%であり、過酸化水素水の濃度は0.1%〜5.0%が好ましい。 (もっと読む)


【課題】 簡便かつ容易にシミ、汚れ等を除去することができ、シミ抜き剤が皮膚を荒らしたり、布地を傷めたりする虞もない携帯用シミ取りスプレーを提供する。
【解決手段】 シミ取り剤Sを注入した本体部3と、シミ取り剤Sを噴出する噴出部4とから構成されるスプレー容器2内に、シミ取り剤Sとして炭酸水(HCO)を注入する。炭酸水(HCO)として、水(HO)に二酸化炭素(CO)を2.0〜14.0重量%溶解させたもの、又、水素イオン濃度がpH5.0〜13.0のものを使用するのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】二酸化炭素−水系で使用可能な界面活性剤を提供する
【解決手段】下記の一般式(I)
【化1】


(式中、Rfは(ペル)フルオロアルキル基、(ペル)フルオロエーテル基、または(ペル)フルオロポリエーテル基を示し、Rhはアルキル基を示す。
Yは、O,SまたはNR(Rは水素原子、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチルまたはt−ブチルを示す)である。
pとqは、同時に0では無い0または1である。)
Mは水素原子、アルカリ金属、1/2アルカリ土類金属またはアンモニウムを示す。)で表される界面活性剤。 (もっと読む)


【目的】基板等を良好且つ効果的に洗浄しうる洗浄材を製造する方法を提供する。
【構成】 洗浄材製造容器5の一端部に形成した過冷却液噴出口62から、水若しくは水とこれより凝固点の低い有機化合物液との混合液である原料液を過冷却状態に冷却してなる過冷却液1cを、洗浄材製造容器5内へと噴出させることにより、洗浄材製造容器5内に過冷却液1cの乱流領域53を形成し、過冷却液噴出口62から噴出された過冷却液1cの一部を、洗浄材製造容器5内に発生させた種氷93aと接触させることにより、氷粒子に相変化させると共に、乱流領域53で乱流攪拌することで氷粒子を成長させ、氷粒子と液体とが混在する固液共存のシャーベット状をなす洗浄材1を得るようにし、かくして得られた洗浄材1を洗浄材製造容器5からその他端部に接続した洗浄材供給路7へと流出させるようにする。 (もっと読む)


開示されるものは、非常に好ましい、そして予期しないほど優れた特性の組合せを保有する熱伝達流体を含む広い範囲の適用において有用な組成物、並びにこれらの流体に基づく熱伝達系及び方法である。好ましい熱伝達流体は、重量基準で約1乃至約40パーセントの二酸化炭素(CO)及び重量基準で約99乃至約60パーセントの、式I:XCF3−z(I)(ここで、XはC又はCの、不飽和の置換された又は置換されていないアルキルラジカルであり、それぞれのRが独立にCl、F、Br、I又はHであり、そしてzが1乃至3である)を有する化合物を含んでなる。式Iの好ましい化合物は、テトラフルオロプロペン、特に1,1,1,3−テトラフルオロプロペン及び/又は1,1,1,3−テトラフルオロプロペンである。

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特殊なローション、重曹水溶液、および濃厚な炭酸水の1つ以上を使用して、ヒトの皮膚、創傷、および食品材料を洗浄する方法。多くの多様な用途が、感染、皮膚の状態等の処置に対して教示される。さらに、炭酸水を調製し、多数の異なる方法で処置するための、特殊な装置が特有の分配装置および分配方法として教示される。 (もっと読む)


アニオンN−置換フッ素化スルホンアミド界面活性剤ならびにクリーニング溶液および酸エッチング溶液中での該界面活性剤の使用が記載されている。クリーニング溶液およびエッチング溶液は、例えば、酸化シリコン含有基材のクリーニングおよびエッチングにおいて多様な基材と合わせて用いられる。 (もっと読む)


Si/SiOパターン付きの半導体ウェーハ表面から、ケイ素窒化物およびケイ素酸化物などのケイ素含有粒状物質を除去するための方法および組成物が記載される。該組成物は、超臨界流体(SCF)、エッチング液種、共溶媒、表面不活性化剤、バインダー、脱イオン水、および任意に界面活性剤を含む。SCFベースの組成物は、次の加工の前に、ウェーハ表面から汚染粒状物質を実質的に除去し、これにより半導体デバイスのモルフォロジ、性能、信頼度、及び歩留まりが向上される。

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使用者による洗剤添加の必要がない洗濯機及び洗濯方法である。その洗濯方法として、洗濯液のPH値、表面張力、電気伝導率及び硬度を一定の範囲にバラス良く設定し、高PH値の電解水と共に調質液を利用し、普通の全自動洗濯機で洗濯を実施する。その内、前述の洗濯液のPH値は8.5-11、洗濯液の電気伝導率は261us/cm875us/cm、表面張力は25−40 mN/m、洗濯硬度は5−400ppmであり、必要に応じて、0.2-3.0グラム/回の調質液を添加できる。上記の洗濯環境に於いて、本発明に記述した方法を使用すると、無洗剤の洗濯を実現することにより、洗剤費用を節約するだけではなく、洗剤による汚染を避けると同時に、洗濯水の調質を行う為、編物の硬化を免れ、最適な洗濯環境を獲得し得る。

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