【課題】洗浄効果が高く、且つ環境や人体に優しい洗剤を提供する。
【解決手段】２００〜１０００μＳ／ｃｍに調整した電解質溶液を毎分１Ｌに対して直流印加にて５〜８Ａで１次電解した後、毎分１Ｌに対して直流印加にて４〜６Ａで２次電解した電解生成溶液とトール油を１：１〜１：０．００５の比率で混合する。 （もっと読む）

【課題】愛玩動物の食物、飲料、補助食品又は洗浄剤の成分として有用な愛玩動物飼育用製剤を提供する。
【解決手段】竹炭を製造する際に生成する灰から水溶性成分を抽出した竹炭灰抽出液と、竹炭から水溶性成分を抽出した竹炭抽出液とを含む愛玩動物飼育用製剤。愛玩動物飼育用製剤を含有する愛玩動物用の食物、飲料又は補助食品、及び愛玩動物飼育用製剤の洗浄作用を利用した愛玩動物用洗剤。
【効果】本製剤を含有する食品を給餌された愛玩動物の体臭、排泄物の悪臭が低減される。また、洗浄剤として使用することにより、愛玩動物の悪臭、汚れを完全に除去できる。 （もっと読む）

【課題】潜在的病原性のあるバクテリア、および他の微生物、破砕物、組織、食物小片その他をラインおよびチューブ系から除去するための洗浄溶液および方法、洗浄装置の提供。
【解決手段】水、１以上の界面活性剤、および好ましくは過酸化水素供給源、場合によっては小さな不活性固体粒子を含む水性洗浄溶液を加圧ガスと共に通し、チューブ系内部でバイオフィルム／デブリを遊離させる乱流を発生させバイオフィルム／デブリを除去する。加圧空気が空気ライン13Aに向かうように三方向バルブ24を使用し、加圧空気にパルス作用を与えるソレノイドバルブ26がライン13Aに挿入され、流出ライン30は混合チャンバー32に接続される。混合チャンバー32は加圧空気ライン13Aおよび洗浄溶液流出ライン30に接続される。洗浄溶液および加圧空気は混合チャンバー32内で混合され、洗浄溶液に対する空気の比に依存して乱流混合物またはフロスを作り出す。 （もっと読む）

【課題】半導体基板の表面に吸着している微小なパーティクルを効果的に除去することが可能な半導体基板洗浄方法を提供すること。
【解決手段】半導体基板洗浄方法は、ガスが飽和濃度まで溶解している酸性の溶液であって、界面活性剤を入れたことにより半導体基板及び吸着粒子のゼータポテンシャルをマイナスにする溶液、或いは、ガスが飽和濃度まで溶解しているアルカリ性の溶液であって、ｐＨが９以上である溶液のいずれかの溶液に前記ガスの気泡を含ませた洗浄液を用いて半導体基板１を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】金属表面へのめっき等の前処理として、金属表面の酸洗浄が一般に行われる。酸洗浄を行う場合、酸洗浄後の廃酸処理や、酸洗浄後の水洗に使用される多量の洗浄水の処理等が必要となり、これらの処理はコストを増大させるだけでなく、環境問題を引き起こす要因となる。
【解決手段】酸を用いずに、超臨界状態、亜臨界状態又は液体状態の高圧二酸化炭素流体と、水との混合相を調製し、金属成分が付着した基材を混合相に接触させることにより、基材から金属成分を除去する。 （もっと読む）

【課題】粒子状物質が付着した半導体ウエハーの両面を洗浄するための方法およびシステムを提供する。
【解決手段】洗浄方法は、流体と基板との間に相対運動を生じさせる。この相対運動は、基板両面のうちの１つの表面の法線を横断する方向に生じ、分離した２つの流れを発生させる。２つの流れのうちの一方の流れが基板両面のうちの１つの表面に隣接し、他方の流れが、１つの表面とは異なる別の表面に隣接する。流体は、その内部に結合要素を混入（エントレインメント）している。流体の相対運動により、結合要素の一部に十分な抗力が加えられ、流体内部で結合要素の一部に動きが生じる。このようにして、所定量の抗力を粒子状物質に加えることにより、基板に対して粒子状物質を動かすことができる。 （もっと読む）

【課題】シリコンウエハー表面の金属不純物を有効に除去すると共に、シリコンウエハーの表面粗さを改善させなること。
【解決手段】（Ｓ１）シリコンウエハーの表面を標準洗浄１に従ってＳＣ‐１洗浄液で洗浄する第１段階；（Ｓ２）上記第１段階で洗浄されたシリコンウエハーの表面を、標準洗浄２に従ってＳＣ‐２洗浄液で洗浄する第２段階；（Ｓ３）上記第２段階で洗浄されたシリコンウエハーの表面を、フッ酸（ＨＦ）溶液で洗浄する第３段階；及び（Ｓ４）上記第３段階で洗浄されたシリコンウエハーの表面を、オゾン水を用いて洗浄する第４段階；を含むシリコンウエハーの洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】短時間で簡単に高度な殺菌性及び洗浄力に優れた洗浄を行うことのできる洗浄装置を提供することを目的としている。
【解決手段】洗浄装置１００は、陽イオン交換膜２１の一方の面に陽極電極２２が設けられ、他方の面に陰極電極２３が設けられてなる触媒電極２と、触媒電極２の表面を被覆する被覆部１と、被覆部１に接続されて、被覆部１内の触媒電極２に原料水を供給する供給管３とを備える。被覆部１のうち、陽極電極２２及び陰極電極２３に臨む面に、被覆部１を貫通する貫通穴１１，１１，…、１２，１２，…がそれぞれ形成されており、陽極電極２２と陰極電極２３との間に直流電圧を印加することによってオゾン水が生成され、陽極電極２２側の貫通穴１１，１１，…を通過してオゾン水が流出し、陰極電極２３側の貫通穴１２，１２，…を通過して水素水が流出する。 （もっと読む）

【課題】優れた洗浄性能を有する洗浄水を製造する装置及び洗浄水を製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】アルカリ酸化水Ａに酸素含有ガスのマイクロバブルを供給する気泡供給手段１２によって、アルカリ酸化水Ａに酸素含有ガスのマイクロバブルを供給し、これによって、洗浄水としての酸素含有アルカリ酸化水を得るようにする。この得られた酸素含有アルカリ酸化水は、アルカリ酸化水や、酸素以外の気体を含有するアルカリ酸化水に比して、優れた洗浄性能を有する。 （もっと読む）

基板（１３）の表面からパーティクルを除去するのに十分な力でもって水及び張力活性化合物を含む液体エーロゾル小滴を該表面と接触させることを含む方法により、パーティクルが基板（１３）の表面から除去される。
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【課題】塩酸もしくは塩素系薬剤を使用することなく、尿石除去・汚物消臭・抗菌の手段として効率的に用いることができる洗浄剤。
【解決手段】本発明に係る洗浄剤は、還元水を含み、また、クエン酸、水酸化カリウム、ペルオキソ二炭酸ナトリウム、過酸化水素、ならびに、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウムのうちのひとつもしくは複数の成分を助剤として含む。 （もっと読む）

【課題】イヌ等哺乳動物の皮膚や被毛に付着している細菌、カビ、ノミ、ダニ等寄生虫、寄生虫の死骸や排泄物、絨毯、カーペット等の繊維等ハウスダスト等異物を完全に洗い落とし、脱毛、各種皮膚疾患、アレルギー性皮膚疾患を予防および／又は治療する皮膚洗浄システムを提供する。
【解決手段】浴槽１２の一部に、水温３８℃、溶存水素量１．４１ｐｐｍ、酸化還元電位が−６５５ｍＶで、pHが７．８０、直径２μｍの微細気泡を大量に含んだ加水素水を製造する加水素水製造装置２を収納する空間１４を設け、壁体の所定の箇所に操作パネル１６を設け、操作パネルにシャワー取付穴１７、整流用サーモ付き混合栓取付け穴を設け、シャワーホースおよび整流用パイプを連結し、加水素水製造装置、シャワーホース、整流用パイプをシャワー取り付け穴１７および整流用サーモ付き混合栓取付け穴に連通させた。 （もっと読む）

【課題】 高温から低温までの広い範囲での摩擦摩耗性能および安定した帯電防止性能を付与し、さらに溶剤洗浄での摩擦摩耗性能および帯電防止性能の低下のない材料を提供する。
【解決手段】 （Ａ）ポリオキシメチレン樹脂１００重量部、（Ｂ）ポリオレフィン（ｂ−１）のブロックと、親水性ポリマー（ｂ−２）のブロックとがエステル結合、アミド結合、エーテル結合、ウレタン結合およびイミド結合から選ばれる少なくとも１種の結合を介して、繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー０．０５〜３０重量部を含むポリオキシメチレン樹脂組成物であり、必要に応じて、（Ｃ）潤滑剤 ０．０５〜１０重量部及び／又は（Ｄ）平均粒子径１０μｍ以下の無機充填材０．０１〜５０重量部を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】電解還元水は電気的にマイナスに偏倚した特殊な水であり、アルカリ性を呈し、洗浄、除菌、消臭等の作用を有するが、このような作用発現後は普通の水に戻るという特徴があり、合成界面活性剤とは異なり廃棄によって環境に蓄積され環境を汚染するといった問題は発生しない。電解還元水に増粘剤を加えてゲル状電解還元水を得て、対象物への付着力を高める方法が提案されているが、増粘により電解還元水の対象物への浸透力が減殺されるので、上述の電解還元水本来の機能が十分に発揮されないという問題があった。
【解決手段】高吸水性高分子中に電解還元水を吸蔵せしめたことを特徴とするゲル状電解還元水を提供する。本発明のゲル状電解還元水は、対象物へ付着後、油との接触により電解還元水を放出し、対象物に浸透するので、電解還元水の対象物への付着と浸透の両立を可能とし、洗浄、除菌、消臭等の電解還元水本来の機能の発現を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】 シリコン基板及びガラス基板をエッチングせずに、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ケイ素粒子のような種々の粒子の除去能力が高く、金属汚染についても除去することができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】 １分子中にスルホン酸基を少なくとも２以上有する化合物、フィチン酸および縮合リン酸化合物からなる群から選択される１種または２種以上と、無機酸と、水とを含有してなる半導体基板洗浄液組成物を用いて、物理力を併用して半導体基板を洗浄することを特徴とする、半導体基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】ウエハ表面を洗浄するためのより効果的で研磨作用の弱い洗浄剤および方法を提供する。
【解決手段】三相体１１０を用いて洗浄を行う方法が開示されている。表面上に粒子１０２の堆積した基板１１２が準備される。固体部分１０８と、液体部分１０６と、気体部分１０４とを備える三相体が生成される。三相体に力Ｆが加えられて、固体部分と粒子との間の相互作用が促進される。三相体は、基板の表面から粒子と共に除去される。固体部分と粒子との間の相互作用により、三相体と共に粒子が除去される。 （もっと読む）

【課題】クリーン化された半導体製造装置用のフッ素ゴム系シール材をうることのできる新規かつ有効な洗浄方法を提供する。
【解決手段】フッ素ゴム系シール材をソックスレー抽出法、高温高圧抽出法、マイクロウエーブ抽出法、超臨界抽出法、またはこれらの方法を組み合わせて抽出洗浄する半導体製造装置用のフッ素ゴム系シール材の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】本発明はレジスト膜の除去力が優れており、薬液疲労度が少ないレジスト除去用組成物を提供する。
【解決手段】本発明はレジスト除去用組成物に関し、より詳しくは酸素二重結合を有する環状化合物、グリコール系化合物、及びカーボネート系化合物で構成される群より選択される化合物を利用するレジスト除去用組成物に関する。本発明のレジスト除去用組成物はラクトン系化合物、アミン又は有機酸、酸化剤、又はこれらの混合物をさらに含むことができる。本発明のレジスト除去用組成物は電子回路又は表示素子の金属配線をパターンするレジスト除去に使用されて、パターン化された金属膜の上部に残留するレジストを除去する除去力が優れており、高温で揮発に応じた組成変化及び薬液疲労度が微細で、パターン化された金属膜の腐食を最少化できる。 （もっと読む）

【課題】 界面活性剤の使用を回避して十分な洗浄効果を発揮することが可能であり、なおかつ除菌効果を有する洗浄剤を提供する。
【解決手段】 電解質溶液を含む水に超音波をかけて電解水を生成するとともに１００ナノメートル程度の空気泡を生成して得られた除菌洗浄剤を、対象物に塗布して、その後物理的に汚れ及び微生物を剥離する。 （もっと読む）

【課題】 繰り返して使用できる義歯洗浄具を提供する。
【解決手段】 義歯Ｔを水Ｗに浸漬して義歯Ｔを洗浄する義歯洗浄用容器であって、前記義歯Ｔを収容する容器本体１は、上方を開口２した有底筒状であると共に、該容器本体１の内面に水Ｗに浸漬可能な浄化用銅繊維６を設け、かつ開口２に該開口２を開閉する蓋10を備える。水中で銅繊維６より生成される銅イオンにより前記義歯Ｔを洗浄することで、義歯Ｔの殺菌やぬめりの除去を行うことができると共に、銅イオンによって水道水の塩素を除去でき、さらに開口２を開閉する蓋10を備えたことで、容器本体１にごみの浸入などを阻止することができる。 （もっと読む）