環状有機水素シロキサンの調製方法が、（Ａ）式ＲＨＳｉＣｌ_２のシランで、Ｒがアリール基と１〜１２の炭素原子を有するアルキル基とから選択されるシランを、水と接触させ、環状有機水素シロキサンと直鎖有機水素シロキサンとを含む加水分解物を形成させること、ならびに、（Ｂ）不活性液体希釈剤の存在下で、該加水分解物を酸性転位触媒と接触させ、該加水分解物中の該直鎖有機水素シロキサンに対する該環状有機水素シロキサンの割合を上昇させることを含む。該酸性転位触媒は強酸基を含む有機化合物、例えばスルホン酸であり、それは該不活性希釈剤に溶解される。 （もっと読む）

【課題】表面処理剤または樹脂添加剤として使用した際、無機材料と有機材料の密着性を向上させ、貯蔵安定性や溶剤への溶解性が良好である新規なイミダゾールシラン化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）または（２）で示される新規イミダゾールシラン化合物。
【化１】

（但し、Ｒ^１は水素、ビニル基または炭素数が１〜５のアルキル基、Ｒ^２は水素または炭素数が１〜２０のアルキル基、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６は炭素数が１〜３のアルキル基、ｎ、ｍはそれぞれ１〜３の整数、ｌまたはｋは１〜５の整数を表す） （もっと読む）

【課題】自己組織化単層膜、特に半導体部品用の単層膜、を形成するために使用される化合物およびその合成方法並びに半導体部品を提供する。
【解決手段】
【化１】


本発明の方法は、ω−ハロゲン−アルク−１−エン（Ｉ）の場合は、π−π相互作用を行う能力のある基、特に少なくとも１つの芳香族基（Ａｒ）を有する基、によってハロゲンを末端求核置換する第１合成工程ａ）と、第１合成工程の生成物を第２合成工程においてヒドロシリル化する工程ｂ）とを特徴とする。本発明の合成方法によれば、所望する化合物を効率的に生成して収率を向上でき、精製条件を簡素化できる。
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本発明は、一般式Ｉ
Ｒ_ｘＳｉＯ_{（４−ｘ）／２} （Ｉ）
［式中、
ｘは１、２又は３であり、
置換基Ｒは以下
（ｉ）以下
【化１】


から選択される有機官能基、ここで、Ｒ’は、１〜１８個の炭素原子を有する直鎖、分枝鎖又は環式アルキル基又は６〜１２個の炭素原子を有するアリール基である
（ｉｉ）ヒドロキシル、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、イソプロポキシ、ｎ−プロポキシ、イソブトキシ及び／又はｎ−ブトキシ基、及び
（ｉｉｉ）適当であれば、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル、アルケニル、イソアルキル、シクロアルキル又はフルオロアルキル基
であるが、但し、ケイ素原子１個当たり１個以下の有機官能基（ｉ）が結合しており、ケイ素に対する成分（ｉｉ）のモル比の商が１〜２であり、かつ一般式Ｉの化合物のためのオリゴマー化度が２〜５０の範囲内である］
の、鎖状、分枝状及び／又は環式シロキサンを含有する混合物に関する。本発明は更に前記のシロキサン混合物の特別な製造法及びその使用にも関する。
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