【解決手段】（１）平均粒子径が８０ｎｍ以下の無機酸化物微粒子、
（２）（メタ）アクリル基を３個以上含有する化合物、
（３）（メタ）アクリル基を１個又は２個含有する化合物、
（４）Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｒ⁴Ｎ⁺Ｘ^-（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴はＣＨ₃、Ｃ₂Ｈ₅、Ｃ₂Ｈ₄ＯＣＨ₃、Ｃ₆Ｈ₁₃、Ｃ₈Ｈ₁₇から選択される基。ＸはＮ（ＳＯ₂ＣＦ₃）₂、ＢＦ₄、ＰＦ₆から選択される基）で表されるイオン性化合物、
（５）Ｌｉ⁺Ｙ^-（ＹはＣｌＯ₄、ＳＯ₂ＣＦ₃、ＳＯ₂Ｃ₂Ｆ₅、Ｎ（ＳＯ₂ＣＦ₃）₂、Ｎ（ＳＯ₂Ｃ₂Ｆ₅）₂、ＢＦ₄、ＰＦ₆から選択される基である。）で表されるイオン性化合物、
（６）ラジカル系光重合開始剤、
（７）（メタ）アクリル基を含有するフルオレン誘導体、
を含有してなる光硬化性樹脂組成物。
【効果】本発明の光硬化性樹脂組成物は無機酸化物微粒子とイオン性化合物の相乗効果により帯電防止性と分散安定性の両方の効果に寄与する。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、カラー液晶表示装置における液晶層に位置する、つまり液晶に近接した着色スペーサの形成に適した、液晶の電圧保持率に優れた着色感光性組成物を提供することにある。
【解決手段】（ａ）顔料分散液、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（ｃ）光重合開始剤、（ｄ）エチレン性不飽和化合物、及び（ｅ）溶剤を混合してなる着色感光性組成物であって、（ａ）顔料分散液中の粒径５０ｎｍ以下の顔料粒子が、（ａ）顔料分散液中の全顔料中の３０重量％以下であり、かつ（ｄ）エチレン性不飽和化合物に対する（ｂ）アルカリ可溶性樹脂の重量比が１０未満であることを特徴とする着色感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】滑り性に優れた塗膜を形成する帯電防止樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ａ）、ポリテトラメチレングリコール骨格を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）、及び４級アンモニウム塩基含有ポリマー（Ｃ）を含有する帯電防止樹脂組成物。ポリテトラメチレングリコール骨格を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）の含有量が（Ａ）〜（Ｃ）の合計中０．５〜４０重量％である。 （もっと読む）

【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記（１）〜（４）を含有する感光性組成物。
（１）ラジカル開始剤（Ａ）、
（２）酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）、
（３）重合性物質（Ｄ）、
（４）重合性基を有する着色剤（Ｅ）、重合性基を有する金属酸化物粉末（Ｆ）、重合性基を有する金属粉末（Ｇ）及び重合性基を有するケイ素酸化物粉末（Ｊ）からなる群から選ばれる少なくとも１種。 （もっと読む）

【課題】パターン剥がれを効果的に抑制し、塗布性に優れ、かつ、経時安定性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体、（Ｂ）重合開始剤および（Ｃ）溶剤を含有する硬化性組成物の製造方法であって、重合性単量体（Ａ）および重合開始剤（Ｂ）からなる群のうち少なくとも１種の化合物を含む液（Ｄ）を１種類調整し、該液（Ｄ）をフィルターに通過させ、その後に、溶剤（Ｃ）を加えるか、重合性単量体（Ａ）および重合開始剤（Ｂ）からなる群のうち少なくとも１種の化合物を含む液（Ｄ）を２種類以上調整し、それぞれの液（Ｄ）をフィルターに通過させた後互いに混合したものに、溶剤（Ｃ）を加えることを特徴とするインプリント用硬化性組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記（１）〜（３）を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して該新たな活性種（Ｉ）による重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、該活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基であり、前記重合反応と並行して酸発生剤（Ｂ）に活性光線を照射することにより発生した酸により重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行する感光性組成物。
（１）ラジカル開始剤（Ａ）、又はラジカル開始剤（Ａ）及び塩基発生剤（Ｃ）
（２）酸発生剤（Ｂ）
（３）重合性物質（Ｄ） （もっと読む）

【課題】照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】（１）〜（４）を含有する感光性組成物であって、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の内の少なくとも１つと（Ｌ）が活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）が（Ａ）、（Ｌ）、（Ｂ）又は（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して該新たな活性種（Ｉ）による（Ｄ）の重合反応が進行し、該活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基であることを特徴とする感光性組成物；（１）ラジカル開始剤（Ａ）、（２）リビングラジカル重合開始剤（Ｌ）、（３）酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）、（４）重合性物質（Ｄ）。 （もっと読む）

【課題】 照射したマイクロ波を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能なマイクロ波硬化型組成物を提供する。
【解決手段】 下記（１）〜（４）を含有するマイクロ波硬化型組成物であって、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つがマイクロ波の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して該新たな活性種（Ｉ）による重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、該活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基であることを特徴とするマイクロ波硬化型組成物；
（１）ラジカル開始剤（Ａ）、
（２）酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）、
（３）重合性物質（Ｄ）。 （もっと読む）

【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記（１）〜（３）を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して該新たな活性種（Ｉ）による重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、該活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基であり、前記重合反応と並行して塩基発生剤（Ｃ）に活性光線を照射することにより発生した塩基により重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行する感光性組成物。
（１）ラジカル開始剤（Ａ）、又はラジカル開始剤（Ａ）及び酸発生剤（Ｂ）
（２）塩基発生剤（Ｃ）
（３）重合性物質（Ｄ） （もっと読む）

【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記（１）〜（３）を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、かつラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが熱により活性種（Ｉ）を発生し、活性種（Ｈ）及び（Ｉ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｊ）を生成して新たな活性種（Ｊ）による重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、活性種（Ｈ）、（Ｉ）及び（Ｊ）の内の少なくとも１つが酸又は塩基である感光性組成物；
（１）ラジカル開始剤（Ａ）
（２）酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）
（３）重合性物質（Ｄ） （もっと読む）

【課題】照射した超音波を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な超音波硬化型組成物の提供。
【解決手段】下記（１）〜（３）を含有する超音波硬化型組成物であって、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが超音波の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して該新たな活性種（Ｉ）による重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、該活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基であることを特徴とする超音波硬化型組成物；（１）ラジカル開始剤（Ａ）、（２）酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）、（３）重合性物質（Ｄ）。 （もっと読む）

【課題】 可視光域での回折効率が高く、格子高さを低くすることができ、フレア発生量が少ない光学素子を作製するために用いられる有機無機ハイブリッド樹脂組成物および光学素子を提供する。
【解決手段】 重合性官能基を有する有機化合物と、金属酸化物微粒子と、重合開始剤とを少なくとも含有する有機無機ハイブリッド樹脂組成物からなり、前記有機無機ハイブリッド樹脂組成物を活性エネルギーの付与により硬化させた硬化物の屈折率ｎｄが１．６１以上１．６５以下、アッベ数νｄが１３以上２０以下、異常分散性θｇ，Ｆが０．４２以上０．５４以下である有機無機ハイブリッド樹脂組成物およびその硬化物からなる有機無機ハイブリッド樹脂材料。透明基板と、前記透明基板上に形成された前記有機無機ハイブリッド樹脂材料とからなる光学素子。 （もっと読む）

【課題】微細配線が形成可能、現像液汚染物の低減、めっき液への耐性が良好、めっき後のレジスト剥離が容易になる感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法を提供する。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、（Ｂ）成分が、オキシアルキレン鎖の繰り返し単位が異なる二種のビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】短時間で硬化するという紫外線硬化性の利点を維持しつつ、光が行き届かない部分の硬化も可能な紫外線硬化性組成物およびこれを用いた硬化物を提供する。
【解決手段】イソシアネート基を２つ以上有するポリイソシアネート化合物に対し、水酸基を２つ以上有するポリオールの水酸基の２つ以上が（メタ）アクリレートとエステル結合を形成することにより、水酸基の数が１以下に設定されたポリオールの（メタ）アクリレートと、紫外線重合開始剤と、が配合されている紫外線硬化性組成物とする。この際、さらに金属錯体化合物が配合されていると良い。 （もっと読む）

【課題】十分な硬度を有し、耐クラック性、透明基材との密着性に優れ、カールが抑制された光学フィルムを提供すること。
【解決手段】下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物によりハードコート層を透明基材上に形成し、光学フィルムを得る。
（ａ）炭酸ジメチル
（ｂ）１分子中に３つ以上の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００以上の化合物
（ｃ）１分子中に２つ以下の不飽和二重結合を有し、質量平均分子量が５００未満の化合物
（ｄ）光重合開始剤 （もっと読む）

【課題】ポリアミドイミドが有する物性を保ちつつ、構造中にカルボン酸を有する、フォトレジスト用のバインダー樹脂として使用可能なポリアミドイミド前駆体を開発する
【解決手段】
トリレンジイソシアネート、４，４′‐ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネートおよび／またはトリジンジイソシアネートから選ばれるジイソシアネートと無水トリメリット酸の縮合物（Ａ）と、ジアミン（Ｂ）を反応させることで得られるポリアミドアミック酸。 （もっと読む）

【課題】変色劣化に起因した反射率の低下を防止し、かつ、高反射率で高解像度のソルダーレジスト組成物、及びそれを用いてソルダーレジストを形成して得られるプリント配線板を提供する。
【解決手段】（Ａ）芳香環を有さないカルボキシル基含有樹脂、（Ｂ）ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、（Ｃ）モノアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、（Ｄ）光重合性モノマー、（Ｅ）ルチル型酸化チタン、（Ｆ）エポキシ化合物、（Ｇ）有機溶剤および（Ｈ）酸化防止剤を含み、前記酸化防止剤（Ｈ）は、前記芳香環を有さないカルボキシル基含有樹脂（Ａ）１００質量部に対して０．４〜２５質量部含むソルダーレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】膨潤させた含水吸水性ポリマを紫外線硬化型樹脂組成物に分散し、これを用いて多孔質薄膜を形成するに際して、機械的特性を損なうことなく、容易な粘度調整ができる含水吸水性ポリマ分散紫外線硬化型樹脂組成物の調整方法を提供する。
【解決手段】少なくともオリゴマ、一種以上のモノマ、光重合開始剤から構成される紫外線硬化型樹脂組成物に、吸水性ポリマに水を予め吸水させ吸水膨潤させた含水吸水性ポリマを分散して含水率４０％以上の含水吸水性ポリマ分散紫外線硬化型樹脂組成物を調整する方法において、該組成物中の、少なくとも一種以上のモノマを予め光重合処理し、含水吸水性ポリマ分散紫外線硬化型樹脂組成物の粘度調整をするようにした。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性及び耐擦り傷性に優れた合成樹脂製床材用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】分子量５．０×１０^３以下の二官能ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（ａ１）および分子量５．０×１０^３以下の三官能ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（ａ２）からなるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（Ａ）と、二官能（メタ）アクリレートモノマー（ｂ１）および一分子中に三つ以上の不飽和二重結合を有する多官能（メタ）アクリレートモノマー（ｂ２）からなる（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）を含有してなり、重量比が（Ａ）：（Ｂ）＝２０：８０〜８０：２０である合成樹脂製床材用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】ガラス・金属との密着性が高い硬化膜が求められている。また、たとえば、半導体集積回路に形成された硬化膜であって、加熱されても、基板界面での膨れや剥離を防ぐことができる硬化膜が求められている。たとえば、半導体集積回路の製造における保護膜の形成にかかる手間や時間を短縮し、消耗品も削減することが求められている。
【解決手段】リン酸エステルを有する化合物（Ａ）と、シランカップリング剤（Ｂ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、ヒドロキシ基を有するラジカル重合性モノマー（Ｃ）以外のラジカル重合性モノマー（Ｅ）と、界面活性剤(Ｆ)を含む光ナノインプリント用硬化性組成物により上記課題を解決する。 （もっと読む）