【課題】フルオロポリマーの製造に好適な新規組成物、及び、この組成物を使用したフルオロポリマー水性分散液を製造するための新規な製造方法を提供する。
【解決手段】炭素数が１０〜２０の全フッ素化飽和炭化水素、及び、含フッ素界面活性剤を含むことを特徴とする組成物。 （もっと読む）

【課題】材料の表面に塗布する抗菌剤用組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）：


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２はフルオロアルキル基を、Ｒ^３Ｒ^５は水素原子等を、Ｒ⁶は単結合、２価の有機基を表す。）で表される含フッ素重合性化合物を含む抗菌剤用組成物。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥の発生を好適に抑制可能なレジスト被膜を形成することができる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、下記式（１）で表される基を有するフッ素含有化合物［Ａ］と、感放射線性酸発生体［Ｂ］と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


（式（１）中、Ｒ^Ｃは、置換されていてもよい（ｐ＋１）価の芳香族環式基であり、Ｑは、１価の親水基から水素原子１つを除いた連結基であり、Ｒ^Ｅは、水素原子、又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数１〜１０の炭化水素基である。ｐは、１〜５の整数である。但し、ｐが２〜５の場合、複数のＱ及びＲ^Ｅはそれぞれ独立して上記定義を有する。「＊」は結合手を示す。） （もっと読む）

【解決手段】（ｉ）下記（Ａ）〜（Ｃ）成分含有の化学増幅ポジ型レジスト材料を基板に塗布しレジスト層を形成する工程、
（Ａ）ヒドロキシスチレン単位、およびｐ-アミロキシスチレン化合物単位、および/又はスチレン化合物単位、および/又はアルキル（メタ）アクリレート単、のの繰り返し単位を有するＭｗ１，０００〜５００，０００の高分子化合物、
（Ｂ）光酸発生剤、
（Ｃ）アゾベンゼン構造含有化合物、
（ｉｉ）加熱処理後、フォトマスクを介して放射線又は電子線で露光する工程、
（ｉｉｉ）加熱処理後、現像する工程、を有し、現像後の断面パターン形状においてパターン側壁が基板面に対し７０°以上８７°未満の角度面を有すレジストパターン形成方法。
【効果】保存安定性が高く、プロセス適応性を有し、パターン側壁角度の制御性能に優れ、高解像度で電解メッキ耐性を与えるレジストパターンを形成し得る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。
【解決手段】架橋反応によりネガ化する、ネガ型化学増幅レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、該膜を露光する工程、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程をこの順で有するレジストパターンの形成方法において、現像液が有機溶剤として、露光前のレジスト膜に対して良溶媒となる溶剤（Ｓ−１）及び露光前のレジスト膜に対して貧溶媒となる溶剤（Ｓ−２）を含有し、沸点について、溶剤（Ｓ−２）＞（Ｓ−１）の関係を満足することを特徴とするレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、低減したフルオロ界面活性剤濃度での、重合速度の増大、比較的低い反応性を有するコモノマー組み込みの向上、球状分散液粒子径の低減、ロッド形状の分散液粒子の生成、および凝塊形成の低減を目的とする。
【解決手段】本発明は、フルオロ界面活性剤を含有する水性媒体中に、実質的に球状のフルオロポリマー粒子を含む分散液であって、前記分散液が、分散液の全重量に対して少なくとも２０重量％の固形分を含有し、前記粒子が、１５０ナノメートル以下の平均直径を有し、前記フルオロ界面活性剤の濃度が、前記分散液中の水の重量を基準にして、前記フルオロ界面活性剤の臨界ミセル濃度未満であることを特徴とする分散液である。 （もっと読む）

【課題】光導波路や封止部材などの光デバイス用材料および反射防止膜などの表示デバイス用材料として好適な近赤外領域における透明性、耐吸湿性、耐熱性などに優れた各種の光学材料および硬化した部材を提供する。
【解決手段】式（１）：


（式中、構造単位Ｍは架橋性環状エーテル構造を側鎖に有する含フッ素有機基に由来する構造単位、構造単位Ａは該式（Ｍ）で示される含フッ素エチレン性単量体と共重合可能な単量体に由来する構造単位である）で示され、構造単位Ｍを０．１〜１００モル％および構造単位Ａを０〜９９．９モル％含み、数平均分子量が５００〜１００００００である硬化性含フッ素ポリマー（Ｉ）を含む、またはさらに光酸発生剤（II）を含む光学材料 （もっと読む）

【課題】高解像度且つ高感度で形状が良好なパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する、特定の構造を有するカリックスレゾルシンアレン誘導体（Ａ）と、波長２４８ｎｍ以下の活性エネルギー線を照射することで直接又は間接的に酸を発生する酸発生剤（Ｂ）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、界面活性剤として好適に使用することができ、生体蓄積性の低いフルオロエーテルカルボン酸の原料として有用なフルオロエーテルアルコールの新規製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、下記一般式（Ｉ）
Ｒｆ^１ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ （Ｉ）
（式中、Ｒｆ^１は部分または全部フッ素置換されたエーテル酸素原子を含んでも良いアルキル基を表す。）で表されるフルオロエーテルアルコールを製造する方法であって、下記一般式（ＩＩ）
Ｒｆ^１ＯＣＦ＝ＣＦ_２ （ＩＩ）
（式中、Ｒｆ^１は上記と同じ。）で表されるフルオロアルキルビニルエーテルをフッ化水素の存在下にホルムアルデヒドと反応させる工程を含むことを特徴とするフルオロエーテルアルコールの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、ラインエンドショートニング、現像欠陥が低減され、良好なプロファイルを形成できるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フッ素原子で置換された、アルキル基、アリール基及びアラルキル基から選択された基、及び、極性基を有する含窒素化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物に利用可能なハイパーブランチポリマーの解像性能の経時安定性の向上を図ることができるハイパーブランチポリマーの合成方法を提供すること。
【解決手段】極性溶媒の存在下においてモノマーをリビングラジカル重合させることによりハイパーブランチポリマーを重合し、前記ハイパーブランチポリマーが存在する反応溶液の中から再沈法によって前記ハイパーブランチマーポリマーを回収し、前記回収したハイパーブランチポリマーを溶解させた溶液を、孔径０．１μｍ以下のフィルターを用いて濾過するようにした。 （もっと読む）

本発明は、導電性ポリマー組成物、およびそれらの有機電子デバイスへの使用に関する。
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耐熱性、機械的強度、透明性、剛性などの特性に優れた含フッ素重合体の原材料として用いることができる新規な含フッ素ジオキソラン化合物、および新規な重合体を提供すること。下式（１Ａ）で表わされる化合物、下式（１Ｂ）で表わされる化合物、およびこれらの化合物が重合した繰り返し単位を含む重合体。ただし、Ｑ^f1は単結合、酸素原子、炭素数１〜５のペルフルオロアルキレン基、または、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された炭素数１〜５のペルフルオロアルキレン基を、Ｘ²はフッ素原子、または、−ＯＲで示される基（ただし、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、または、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された炭素数１〜５のアルキル基を示す。）を、示す。）。

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【課題】 ＥＵＶ光による露光下で、充分良好なコントラストを有し、さらに露光時のアウトガスの問題がなく、ＰＥＢ温度依存性が低減された優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び特定構造のＥＵＶ光の作用により酸を発生するスルホニウム塩化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高いイオン伝導性能、低いメタノール拡散性、充分な強度、耐久性を有する固体電解質を提供する。
【解決手段】 主鎖がフッ化炭素であり、イオン伝導度が０．０１Ｓ／ｃｍ以上であり、メタノール拡散係数が４ｘ１０^-7ｃｍ²／ｓ以下である、固体電解質。 （もっと読む）

【課題】 解像性に優れたパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物用として好適な高分子化合物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位（ａ１）と、下記一般式（ａ２−１）または（ａ２−２）［式中、Ｚは脂肪族環式基を表し；ｎは０または１〜３の整数を表し；ｍは０または１を表し；Ｒはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜５の低級アルキル基、フッ素原子またはフッ素化低級アルキル基を表し；Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜５の低級アルキル基を表す。］で表される構成単位（ａ２）とを含むこと特徴とする高分子化合物。
【化１】
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本発明は、主鎖と、当該主鎖と結合する分岐鎖とを含むポリマーを有するプロトン交換膜であって、上記分岐鎖の化学式が、


（式中、ｎは３〜６の整数である）であり、且つ上記主鎖が、脂肪族ポリマー、脂肪族ブロックポリマー及び脂肪族ランダムコポリマーから成る群から選択されるポリマーである、プロトン交換膜に関する。上記ポリマーの製造方法は、分岐鎖中にベンゼン環を有するポリマーを、スルホ−アルキル化化学試薬及び触媒と、無水溶媒中、不活性雰囲気下で反応させる工程と；得られるスルホ−アルキル化ポリマーを分離する工程と；酸性化する工程であって、それにより製造されたポリマーを得る、酸性化する工程とを含む。これらのポリマーを用いて製造されるプロトン交換膜は、柔軟であり、湿潤条件下であまり膨張することなく、化学的に、加水分解において、寸法において且つ熱的に安定である。
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【課題】組成および分子量が均一である含フッ素モノマーの重合体を、優れた再現性で製造するための含フッ素モノマーの重合方法の提供。
【解決手段】含フッ素モノマーを含有する組成物を管型反応器に連続的に供給して、該管型反応器の流路内で含フッ素ポリマーを製造する方法であって、流路の断面積が１．０×１０^−５〜０．８ｃｍ^２であり、該流路の一部を加温し、その下流側の他の一部を冷却することを特徴とする、含フッ素モノマーの重合方法。 （もっと読む）

【課題】官能基の濃度が高く充分な官能基の特性を得ることができ、かつ、Ｔｇの低下をもたらさない含フッ素ポリマー。
【解決手段】式（１）で表される含フッ素ジエンを環化重合してなるモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。ＣＦ₂＝ＣＦＣＨ₂−ＣＨＱ−Ｒ²・・・（１）ただし、式（１）中Ｑは（ＣＨ₂）_nＣ（ＣＦ₃）₂ＯＲ¹（ｎは０または１であり、Ｒ¹は水素、炭素数２０以下のアルキル基、炭素数１５以下のアルコキシカルボニル基またはＣＨ₂Ｒ³（Ｒ³は炭素数１５以下のアルコキシカルボニル基）であり、Ｒ²は環状不飽和炭化水素基または少なくとも１つの水素原子が環状不飽和炭化水素に置換されたアルキル基を表す。Ｒ²において、環状不飽和炭化水素基中の炭素原子の一部はヘテロ原子やカルボニル基に置換されていてもよく、また環状不飽和炭化水素基中の水素原子の一部はフッ素原子、アルキル基、フルオロアルキル基に置換されていてもよい。 （もっと読む）

真空紫外領域における透明性に優れ、フォトレジスト用として、特にＦ２レジスト用として超微細パターンを形成することができる含フッ素重合体であって、炭素数２または３のエチレン性単量体であって少なくとも１個のフッ素原子を有する含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）に由来する繰り返し単位（Ｍ１）および／または重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得るフッ素原子を含んでいてもよい単量体（ｍ２）に由来する繰り返し単位（Ｍ２）を有し、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Ｙ^１または酸反応性基Ｙ^１に変換可能な基Ｙ^２を有する含フッ素重合体を得るに当たり、該含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）および／または該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体（ｍ２）をフッ素原子を有する重合開始剤を用いてラジカル重合することを特徴とする真空紫外光の透明性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法。 （もっと読む）