【課題】酸素透過性及び化学的耐久性に優れ、電解質構造を壊すことなく、Ｆ₂ガスによるフッ素化が可能であり、しかも、安価な電解質を提供すること。
【解決手段】次の（１）式及び（２）で表される構造を備えた電解質。但し、Ｐは、側鎖又は主鎖に多環式骨格を含む多環式構造。Ｑは、Ｒfsと結合する第１パーフルオロカーボンＱ₁を含む構造。Ｍは、水素、又は、アルカリ金属。ａは、０以上１００以下の整数。Ｒf₆、Ｒf₇は、それぞれ、フッ素、又は、炭素数が１〜１０のパーフルオロカーボン。ｔは、１以上１０以下の整数。Ｒfは、ＯＭ（ａ≧０の時）又は炭素数が１〜１０のパーフルオロカーボン（ａ≧１の時）。多環式骨格とは、２以上の環を持ち、前記環を構成する少なくとも１つの炭素が、２以上の前記環の一部となっている構造をいう。
【化１】
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【課題】 離型性に優れ、さらには、低ソリ性、低反射率、優れた耐傷性を有する硬化性樹脂組成物、その硬化物、このような硬化性樹脂組成物の硬化物を有してなる微細凹凸構造物品、および反射防止板を提供する。
【解決手段】
下記式（１）：
【化１】


（式中、Ｒ^１は炭素数２〜８のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子またはメチル基、ｍは正の整数である）で示される繰り返し単位を有するビニル系重合体を含有するナノインプリント用硬化性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、大きな屈折率異方性を有し、重合性液晶組成物を構成した場合に高い保存安定性と高い配向性を有する重合性化合物及び当該重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を提供することである。更に、当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。
【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される重合性化合物を提供し、当該化合物を構成部材とする重合性液晶組成物、更に、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【化１】
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【課題】従来の重合体と比較して十分な再汚染防止能を有する重合体を提供することを目的とする
【解決手段】
１質量％以上、８９質量％以下のヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート由来の構造単位（ａ）、１０質量％以上、９８質量％以下のカルボキシル基含有単量体（Ｂ）由来の構造単位（ｂ）、及び、１質量％以上、８９質量％以下のポリアルキレングリコール系単量体（Ｃ）由来の構成単位（ｃ）、を必須構造単位として有する共重合体である。 （もっと読む）

【課題】現像液への溶解性が高い着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、バインダー樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
バインダー樹脂が、メタクリル酸に由来する構造単位、アクリル酸に由来する構造単位並びにメタクリル酸及びアクリル酸と共重合可能な単量体に由来する構造単位を有する共重合体を含む樹脂である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ゲルおよびオリゴマー成分をほとんど含まず、塗料、分散剤、感光性樹脂などに使用することができる高分子量の水溶性重合体の提供。
【解決手段】ヒドロキシエチル基を含む特定の構造のアクリル酸エステル又はＮ−置換アクリルアミド単量体（Ａ）と、単量体（Ａ）と共重合可能な単官能単量体（Ｂ）（単量体（Ａ）を除く。）とをモル比（Ａ）／（Ｂ）＝７０／３０〜１００／０で重合して得られ、重量平均分子量が５００，０００〜１０，０００，０００であり、ゲル分率が１％以下である水溶性重合体。 （もっと読む）

【課題】糖鎖および／または糖の誘導体を含む生体試料の分析に用いられる糖鎖捕捉物質の製造方法およびこの製造方法に用いることができるモノマー、このモノマーを重合して得られるポリマーを提供する。また、その試料調製方法の用途を提供する。
【解決手段】下記の（式１３）で表される構造を有するモノマー。


（Ｒ2はＨ，ＣＨ3，または炭素数２〜５の炭化水素鎖，Ｒ6は−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，−ＣＯ−，−ＣＯＮＨ−で中断されてもよい炭素数１〜２０の炭化水素鎖，[P]は保護基を示す。） （もっと読む）

【課題】
溶融加工性テトラフルオロエチレンポリマー、又は２種類以上のテトラフルオロエチレンポリマーの溶融加工性ブレンドを含む組成物の提供。
【解決手段】
溶融加工性テトラフルオロエチレンポリマー、又は２種類以上のテトラフルオロエチレンポリマーの溶融加工性ブレンドを含む組成物であって、該ポリマー又は該２種類以上のポリマーのブレンドは１０％より大きい破断点伸びを有し、該ポリマー又は該２種類以上のポリマーのブレンドの少なくとも1種類のポリマーは、テトラフルオロエチレンモノマー単位とは異なる少なくとも１種類以上のフルオロ−モノマー単位を少量含み、該ポリマー中の又は該２種類以上のポリマーのブレンドの少なくとも1種類のポリマー中の、該少なくとも1種類以上のフルオロ−モノマー単位の量が３モル％未満である、上記組成物。 （もっと読む）

【課題】タイヤ用のゴム材料として有用な新規架橋ゴム組成物、及び該架橋ゴム組成物を得るための新規ゴム組成物を提供する。
【解決手段】オレフィン性二重結合を有するゴム成分と、下記式（１）で表される構造単位及び下記式（２）で表される構造単位を有するイソブチレン系重合体と、を含有するゴム組成物。




［式中、ｎは０又は１を示し、Ｘは二価の基を示し、Ｙは環外に不飽和結合を有する脂環基を示す。］ （もっと読む）

【課題】良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、マスクブランクス、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。
【化１】
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【課題】解像度及び耐溶剤性に優れるパターンを得ることができる硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
樹脂が、式（１）：


［式（１）中、Ｒ^１は炭素数２〜８の２価の炭化水素基を表し、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す；ｍは１〜２０の整数を表し、ｍが２以上の整数である場合、複数のＲ^１は互いに同一でも異なっていてもよい］で表される単量体に由来する構造単位、及び、カルボキシ基とビニルオキシ基とを有する単量体に由来する構造単位を含む樹脂である硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】リンの酸を含むモノマーから懸濁重合プロセスによって形成された新規ポリマービーズ組成物を提供する。
【解決手段】１）少なくとも２０〜９９．９重量パーセントのリン含有有機モノマー；および２）３０〜１０００μｍの平均サイズ；を有するポリマービーズ組成物。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性が高い塗膜を得ることができる高分子化合物を提供すること。
【解決手段】式（１）：


［式（１）中、Ｒ^１は炭素数２〜８の２価の炭化水素基を表し、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す；ｍは１〜２０の整数を表し、ｍが２以上の整数である場合、複数のＲ^１は互いに同一でも異なっていてもよい］
で表される単量体（ａ）に由来する構造単位、及び
カルボキシ基とビニルオキシ基とを有する単量体（ｂ）に由来する構造単位
を含む高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストコポリマーおよびフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式を有するコポリマー


式中、Ｒ_１〜Ｒ_５は、Ｈ、Ｃ_１−６アルキルもしくはＣ_４−６アリール、Ｒ_６はフッ素化もしくは非フッ素化Ｃ_５−３０酸分解性基；各Ａｒは単環式、多環式もしくは縮合多環式Ｃ_６−２０アリール基；Ｒ_７およびＲ_８は−ＯＲ_１１もしくは−Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＲ_１１基、Ｒ_１１はＨ、フッ素化もしくは非フッ素化Ｃ_５−３０酸分解性基；各Ｒ_９はＦ、Ｃ_１−１０アルキル、Ｃ_１−１０フルオロアルキル、Ｃ_１−１０アルコキシ、もしくはＣ_１−１０フルオロアルコキシ基；Ｒ_１０はカチオン結合Ｃ_{１０−４０}光酸発生剤含有基ある。 （もっと読む）

【課題】 水性分散体として塗布乾燥しても割れの無い可塑化されたポリ塩化系ビニル系皮膜を提供するものであり、更にはブリードアウトを起こさない皮膜や成型体等を提供するものである。
【解決手段】 変性ポリ塩化ビニル樹脂粒子の水性分散体（Ａ）と、ポリウレタン樹脂粒子の水性分散体（Ｂ）とを混合して得られる水性複合樹脂組成物であって、（Ａ）／（Ｂ）が、樹脂固形分換算の重量比で、５０／５０〜８０／２０の範囲であること、並びに変性ポリ塩化ビニル樹脂粒子の水性分散体（Ａ）が、水酸基とビニル基を含有する単量体（ａ１）と塩化ビニル単量体（ａ２）とを共重合させて得られるものであって、（ａ１）／（ａ２）が、重量比で、２／９８〜２０／８０の範囲であることを特徴とする水性複合樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】含フッ素共重合体を含有する熱可塑性樹脂粉末を使用した場合においても、樹脂粉末同士の結着が起こらない含フッ素粉体塗料用組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】含フッ素共重合体を含有する熱硬化性樹脂粉末とフレーク状顔料と溶媒を含有する混合物から溶媒を除去する粉体塗料用組成物の製造方法において、１，１，２，２−テトラフルオロ−１−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）エタンおよび１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンの少なくとも一方を含有する溶媒を使用する。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｘ、ＹはＣＨ又は窒素原子、ｍは１又は２、Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０又は１である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】洗浄時に優れた再汚染防止能を発揮することができ、界面活性剤との相溶性にも優れたポリアルキレングリコール系重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】特定の構造を有するポリアルキレングリコール系単量体（Ａ）に由来する構造単位（ａ）と、カルボキシル基含有単量体（Ｂ）に由来する構造単位（ｂ）とを必須とし、構造単位（ａ）及び構造単位（ｂ）を所定の割合で含むポリアルキレングリコール系重合体。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光に於いても、プロファイルの劣化が少なく、パターン倒れが改良され、スカムの発生が抑制された、レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）疎水性樹脂及び
（Ｄ）溶剤を含有し、樹脂（Ａ）の重量平均分子量と疎水性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量との差が、下記式を満たすレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
樹脂（Ａ）の重量平均分子量 − 疎水性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量 ≧３０００ （もっと読む）

【課題】高温での処理を行わないで架橋させることが可能な有機素子材料を提供すること。
【解決手段】フッ素原子を含む基を有する繰り返し単位と、光二量化反応性基を有する繰り返し単位とを有する高分子化合物を含む有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。フッ素原子を含む基の好ましい例は、水素原子がフッ素で置換されたアリール基、水素原子がフッ素で置換されたアルキルアリール基、特に水素原子がフッ素で置換されたフェニル基、水素原子がフッ素で置換されたアルキルフェニル基である。光二量化反応性基の好ましい例は、２位の水素原子がアリール基で置換されたビニル基、２位の水素原子がアリールカルボニル基で置換されたビニル基である。 （もっと読む）