【課題】本発明は、高圧下でヨウ素移動重合を行うことにより、重合開始剤が少ないにもかかわらず重合速度が大幅に増大し、非ヨウ素移動重合法に匹敵する生産性の高い含フッ素エラストマーの製造方法を提供する。さらに、この方法によって製造した含フッ素エラストマーを提供する。
【解決手段】反応槽内の気相部分における各モノマーの臨界温度、臨界圧力、およびそれぞれの組成比からＰｅｎｇ−Ｒｏｂｉｎｓｏｎ式を用いて算出した臨界定数の換算温度が０．９５以上、換算圧力が０．８０以上の条件下で行なわれる、バッチ式共重合法による含フッ素エラストマーの製造方法であって、一般式（１）：
Ｒ_f¹・Ｉ_x （１）
で示されるヨウ素化合物の存在下に、少なくとも１種のフルオロオレフィンを含むエチレン性不飽和化合物と、一般式（２）：
【化１】


で示される化合物および／または、一般式（３）：
ＣＦ₂＝ＣＦ（ＣＸ¹Ｘ²）_p（ＣＸ³Ｘ⁴）_qＩ （３）
で示される化合物とを共重合させる含フッ素エラストマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガス及び薬液のバリア性に優れるテトラフルオロエチレン共重合体の提供。
【解決手段】テトラフルオロエチレンに基づく繰り返し単位（ａ）、及びＣＦ_２＝ＣＦＯＲ^ｆ（ここで、Ｒ^ｆはシクロヘキサン骨格を含むペルフルオロアルキル基である。）で表されるペルフルオロ（アルキルビニルエーテル）に基づく繰り返し単位（ｂ）を含有し、（ａ）／（ｂ）＝９０／１０〜９９．８／０．２（モル比）であり、３８０℃における容量流速が０．１〜１０００ｍｍ^３／秒であるテトラフルオロエチレン共重合体（例えば、テトラフルオロエチレン／ペルフルオロ（シクロヘキシルメチルビニルエーテル）共重合体。）。 （もっと読む）

【課題】2,2-ビス(メルカプトフェニル)ヘキサフルオロプロパンの新規な用途を見出し、これを含フッ素エラストマーの架橋剤として用いた含フッ素エラストマー組成物を提供する。
【解決手段】架橋性基としてハロゲノフェニル基を有する含フッ素エラストマーおよび一般式


(ここで、Rfは炭素数1〜10のパーフルオロアルキリデン基である)で表わされる架橋剤を含有する含フッ素エラストマー組成物。ハロゲノフェニル基を有する含フッ素エラストマーとしては、約30〜70モル％のテトラフルオロエチレン、約65〜25モル％のパーフルオロ(低級アルキルビニルエーテル)またはパーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテル)および約0.1〜5モル％のハロゲノフェニル基含有ビニルエーテル化合物よりなる3元共重合体が用いられる。 （もっと読む）

真空紫外領域における透明性に優れ、フォトレジスト用として、特にＦ２レジスト用として超微細パターンを形成することができる含フッ素重合体であって、炭素数２または３のエチレン性単量体であって少なくとも１個のフッ素原子を有する含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）に由来する繰り返し単位（Ｍ１）および／または重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得るフッ素原子を含んでいてもよい単量体（ｍ２）に由来する繰り返し単位（Ｍ２）を有し、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Ｙ^１または酸反応性基Ｙ^１に変換可能な基Ｙ^２を有する含フッ素重合体を得るに当たり、該含フッ素エチレン性単量体（ｍ１）および／または該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体（ｍ２）をフッ素原子を有する重合開始剤を用いてラジカル重合することを特徴とする真空紫外光の透明性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法。 （もっと読む）

少なくとも一つの複素環を有し、プロトン交換膜（ＰＥＭ）の製造に使用できるポリマー、ポリマー先駆体及び他の材料を記載する。代表的な例において、該複素環はフッ素化されたイミダゾール環である。該複素環は低い値のｐＫａを有するために選択でき、及びトリアゾール環、他の窒素含有複素環又はこれらの誘導体であってもよい。ポリマー及び複合物が優秀なプロトンで伝導性をもって調製された。これら材料の適用は、燃料電池及び他のイオン伝導性用途を含む。 （もっと読む）

燃料電池などの電解槽中で、一般的にポリマー電解質膜として使用される膜の形態の架橋ポリマー電解質を製造する方法、および本方法により製造されたポリマーであり、本方法は、高度にフッ素化されたフルオロポリマーへの紫外線の適用を含み、フルオロポリマーは、テトラフルオロエチレンモノマーから部分的に誘導された主鎖、式−ＳＯ₂Ｘ（式中、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＯＨ、または−Ｏ^-Ｍ⁺（式中、Ｍ⁺は１価の陽イオンである）である）で表される基を含む第１の側基、およびＢｒ、Ｃｌ、またはＩ、を含む第２の側基を含む。膜の厚さは、一般的に９０ミクロン以下、より一般的には６０ミクロン以下、さらに最も一般的には３０ミクロン以下である。 （もっと読む）

本発明の目的は、酸・酸塩型基を有するポリマーからなり、基材に塗布又は多孔質材料に含浸したのち架橋することにより機械特性に優れ水分量による寸法変化の小さい架橋体を製造することができる液状組成物を提供することにある。
本発明は、液状媒体と、架橋性官能基を有する架橋性含フッ素ポリマーとからなる含フッ素ポリマー液（Ａ）からなる含フッ素ポリマー液状組成物であって、上記含フッ素ポリマー液（Ａ）は、酸・酸塩型基、若しくは、加水分解してカルボキシル基に変換する有機基を有する架橋性含フッ素ポリマー（ＰＤ）からなる粒子が液状分散媒に分散している含フッ素ポリマー液状分散液（ＡＤ）、又は、酸・酸塩型基若しくは酸・酸塩型基の前駆体を有する架橋性含フッ素ポリマー（ＰＳ）がフッ素系溶剤若しくはアルコール／水混合溶剤に溶解してなる含フッ素ポリマー溶液（ＡＳ）であり、上記酸・酸塩型基は、スルホン酸基、カルボキシル基、−ＳＯ_２ＮＲ^２Ｒ^３、−ＳＯ_３ＮＲ^４Ｒ^５Ｒ^６Ｒ^７、−ＳＯ_３Ｍ^１_１／Ｌ、−ＣＯＯＮＲ^８Ｒ^９Ｒ^１０Ｒ^１１又は−ＣＯＯＭ^２_１／Ｌ（Ｒ^２は、水素原子又はＭ^５_１／Ｌを表し、Ｒ^３は、アルキル基又はスルホニル含有基を表す。Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１は、同一若しくは異なり、水素原子又はアルキル基を表し、Ｍ^１、Ｍ^２及びＭ^５は、Ｌ価の金属を表す。上記Ｌ価の金属は、周期表の１族、２族、４族、８族、１１族、１２族又は１３族に属する金属である。）であり、上記酸・酸塩型基の前駆体は、−ＳＯ_２Ｆ、−ＳＯ_２ＮＲ^２２Ｒ^２３（Ｒ^２２及びＲ^２３は、同一又は異なって、アルキル基を表す。）又は加水分解してカルボキシル基に変換する有機基であることを特徴とする含フッ素ポリマー液状組成物である。 （もっと読む）

真空紫外領域の光線を利用するフォトリソグラフィープロセスにおいて充分な反射防止効果を有し、かつ現像プロセスにおいても充分な現像特性を有するレジスト積層体を形成する。（Ｉ）基板上にフォトレジスト層（Ｌ１）を形成する工程、および（ＩＩ）フォトレジスト層（Ｌ１）上に、親水性基Ｙを有する含フッ素重合体（Ａ）を含むコーティング組成物を塗布することにより反射防止層（Ｌ２）を形成する工程を含むフォトレジスト積層体の形成方法であって、含フッ素重合体（Ａ）が親水性基Ｙを含有する含フッ素エチレン性単量体由来の構造単位を有し、さらに該含フッ素重合体（Ａ）が、（ｉ）親水性基ＹがｐＫａで１１以下の酸性ＯＨ基を含むこと、（ｉｉ）フッ素含有率が５０質量％以上であること、および（ｉｉｉ）含フッ素重合体（Ａ）１００ｇ中の親水性基Ｙのモル数が０．１４以上であることを特徴とする。
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含フッ素化合物からなるラジカル重合開始剤と、フッ素原子で水素原子の一部が置換されていてもよい炭素数１〜２の飽和炭化水素又は水素からなる連鎖移動剤とを用い、重合媒体中で、−ＳＯ_２Ｘ基（Ｘはフッ素原子又は塩素原子）を有しエチレン性二重結合を有するパーフルオロカーボンモノマー（エーテル結合性の酸素原子を含んでいてもよい）と二重結合を有しかつ炭素原子、ハロゲン原子及び酸素原子以外の原子を含まないパーハロゲノモノマーとを共重合させた後、フッ素化処理するパーフルオロカーボン重合体の製造方法。この方法により得られる−ＳＯ_２Ｘ基を有するパーフルオロカーボン重合体は、分子中に含有する不安定末端基が少なく、安定性に優れる。 （もっと読む）