【課題】ポリカーボネート系樹脂の原料モノマーであるカーボネート基含有化合物及びその（共）重合体を効率よく製造する方法の提供。
【解決手段】ノルボルネン系置換基を有するエポキシ化合物と二酸化炭素とを反応させることによるノルボルネン系置換基を有するカーボネート基含有化合物の製造方法、及び該ノルボルネン系置換基を有するカーボネート基含有化合物を重合又は共重合（特に、付加重合、付加共重合、開環メタセシス重合又は開環メタセシス共重合）させることによるノルボルネン系（共）重合体の製造方法。該エポキシ化合物は、ノルボルネン系アルデヒドと式（４）で表される硫化メチレン化合物とを反応させて得ることができる。


該硫化メチレン化合物は、トリメチルスルフィドと強塩基とを反応させて得ることができる。 （もっと読む）

【課題】短波長の結像照射に対して透明であり、かつドライエッチング法に対して耐性のあるフォトレジスト組成物に有用な多環式ポリマー及び多環式ポリマー組成物を提供する。
【解決手段】ポリマー主鎖に沿って繰返し芳香族ペンダント基を含有する多環式ポリマーからなるレジスト組成物を用いる。このポリマーは深ＵＶ波長に対し光透明性の性質を示し、高解像度光平板法への応用に有用である。これらのポリマーは特に化学増幅型ポジおよびネガ型階調レジストに特に有用である。 （もっと読む）

【課題】カーボネート基含有ノルボルネン系（共）重合体を効率よく且つ簡便に製造する方法の提供。
【解決手段】エポキシ基含有ノルボルネン系単量体のホモモノマー、もしくは他のノルボルネン系単量体とのコモノマーの付加重合体もしくは開環重合体を、ハロゲン化リチウムの存在下、二酸化炭素と反応させ、カーボネート基含有ノルボルネン系（共）重合体を得ることを特徴とするカーボネート基含有ノルボルネン系（共）重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】熱、湿度による透過率、偏光度の変化が小さい偏光板を提供すること。さらには、透湿度の異なる保護フィルムを偏光子の両側に配置した偏光板を液晶表示装置に用いることで、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】第１の保護フィルム、偏光子、第２の保護フィルムがこの順に積層してなる偏光板であって、前記第１の保護フィルムは、環状オレフィン系樹脂を含有し、平均厚さが５〜５００μｍ、４０℃９０％ＲＨでの透湿度が０．１〜２００ｇ／ｍ^２／ｄａｙであり、前記第２の保護フィルムは、液晶セル側保護フィルムであって、環状オレフィン系樹脂を含有し、平均厚さが５〜５００μｍ、４０℃９０％ＲＨでの透湿度が１００〜１０００ｇ／ｍ^２／ｄａｙであり、かつ、前記第１の保護フィルムの透湿度が前記第２の保護フィルムの透湿度よりも小さい偏光板。 （もっと読む）

【課題】吸湿性や透湿性が低く、適度な弾性を有し、脆さがなく、機械的強度に優れたフィルム、これを用いた偏光板および画像表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）プロピレンから誘導される構造単位と、（Ｂ）炭素数４〜２０のα−オレフィンから誘導される構造単位と、（Ｃ）下記一般式（１）で表される環状オレフィンから誘導される構造単位とを含む共重合体であって、（Ａ）から誘導される構造単位を１０〜６９モル％、（Ｂ）から誘導される構造単位を１〜５０モル％、（Ｃ）から誘導される構造単位を３０〜８９モル％含み、かつ、重量平均分子量が５０，０００〜１，０００，０００である共重合体。


Ｒ^１〜Ｒ^４は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ｍは０または１を表す。 （もっと読む）

【課題】本発明は極性基を有する環状オレフィン系モノマーと炭素数２〜１２のα−オレフィン系モノマーとの共重合体で耐熱性、強度と成形加工性に優れた共重合体を提供することを目的とする。更に、その製造方法で触媒由来の黒色の金属の生成の無い製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】共重合体として、特定構造の環状オレフィン系モノマーと炭素数２〜１２のα−オレフィン系モノマーとの共重合体であり、環状オレフィン系モノマー由来の繰り返し単位の含有率が４７モル％以上、７０モル％以下であり、かつ数平均分子量（Ｍｎ）が２万以上、１００万以下である環状オレフィン系共重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】光学材料に好適なガラス転移点を有するシクロオレフィンコポリマーおよび生産性、表面性状の良好なフィルムを提供する。
【解決手段】エチレン及び炭素数３〜２０のα−オレフィン化合物から選ばれる少なくとも１種の非シクロオレフィンモノマー（Ａ）と、特定構造のノルボルネン系化合物（Ｂ）との付加共重合により得られるシクロオレフィンコポリマーであって、数平均分子量が５００００〜１００００００であり、かつノルボルネン系化合物（Ｂ）に由来する繰り返し単位が前記コポリマー中の５５〜８０モル％であることを特徴とするシクロオレフィンコポリマーおよび該コポリマーを用いてなるフィルム。 （もっと読む）

【課題】式（３）で表されるエポキシ基含有ノルボルネン化合物及びその（共）重合体を効率よく製造する方法の提供。


【解決手段】下記式（１）


で表されるノルボルネンカルバルデヒドと硫化メチレン化合物とを反応させることを特徴とする式（３）で表されるエポキシ基含有ノルボルネン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、イットリウム化合物を触媒とした、１，４−シス構造含有率の高い共役ジエン重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）イットリウム化合物、（Ｂ）非配位性アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物、（Ｃ）周期律表第２族、１２族及び１３族から選ばれる元素の有機金属化合物、並びに（Ｄ）シラザン化合物から得られる触媒を用いて共役ジエン化合物を重合させることを特徴とする共役ジエン重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】吸湿性や透湿性が低く、適度な弾性を有し、脆さがなく、機械的強度に優れたフィルム、これを用いた偏光板および画像表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）炭素数２以上のα−オレフィンの少なくとも１種、（Ｂ）特定構造の環状オレフィンの少なくとも１種、および（Ｃ）特定構造の非共役ジエンの少なくとも１種からなり、（Ａ）から誘導される繰返し単位のモル分率が３０モル％≦（Ａ）＜７０モル％、（Ｂ）から誘導される繰返し単位のモル分率が３０モル％≦（Ｂ）＜７０モル％、（Ｃ）から誘導される繰返し単位のモル分率が０モル％＜（Ｃ）≦１モル％の範囲にあり、かつ、重量平均分子量が５０，０００〜１，０００，０００である共重合体を含むフィルムを用いる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、イットリウム化合物を触媒とした、１，４−シス構造含有率の高い共役ジエン重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）イットリウム化合物、（Ｂ）非配位性アニオンとカチオンとからなるイオン性化合物、（Ｃ）周期律表第２族、１２族及び１３族から選ばれる元素の有機金属化合物、並びに（Ｄ）ピロールから得られる触媒を用いて共役ジエン化合物を重合させることを特徴とする共役ジエン重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】触媒組成物、およびその製造方法ならびにエチレン性不飽和モノマーからポリマーを製造するための使用方法を提供する。
【解決手段】少なくとも１．５オングストロームかつ２０オングストローム以下のスルースペース核間距離を有する第一金属原子Ｍ^１、および第二金属原子Ｍ^２を含む、特定の中性金属対錯体を含む触媒組成物とその製造法が開示される。当該触媒組成物を用いたエチレン性不飽和モノマーの重合法、およびこれにより製造される付加ポリマーも開示される。 （もっと読む）

【課題】光に対する感度が高く、パターンニング性に優れた樹脂組成物を提供する。特に、半導体素子の機能面側に接合して設けられ、前記半導体素子の前記機能面側に形成される空隙を定めるためのスペーサの形成や、半導体素子の保護膜、絶縁膜等の形成に好適に用いることが可能な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ基を有するノルボルネン系重合体と、特定構造のオニウム塩である感光剤とを含むことを特徴とする。ノルボルネン系重合体は、付加重合体であるのが好ましい。感光剤の含有量は、ノルボルネン系重合体１００重量部に対して、０．１〜１０重量部であるのが好ましい。さらに、酸捕捉剤を含むのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においても、高解像性、大きなブリッジマージンを示すネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のジカルボニルメチレン構造を有する繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する化合物及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】短波長放射光１９３ｎｍ以下で十分に低い光学密度を有する新しいフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】（ａ）多環式オレフィンモノマーを含むモノマー配合物、非オレフィン系連鎖移動剤および任意の活性剤化合物を合わせて混合物を形成すること；（ｂ）混合物を加熱すること；および（ｃ）Ｎｉおよび／またはＰｄを含有する重合触媒を加えることを含む、多環式オレフィンモノマーの重合方法。非オレフィン系連鎖移動剤には、Ｈ_２、アルキルシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルゲルマン、アルキルアルコキシゲルマン、アルキルスタナン、およびアルキルアルコキシスタナンからなる群より選択される１種以上の化合物が含まれる。活性剤は、ｐＫａが少なくとも５の活性水素を有することを特徴とする。得られる多環式オレフィンポリマーはフォトレジスト組成物に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】剥ぎ取り性が良好な生産性の高いノルボルネン系重合体フィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式（I）で表されるノルボルネン系化合物由来の繰り返し単位（１）を、全繰り返し単位のうち、０．０１〜２．００モル％含むノルボルネン系重合体。
【化１】


（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、または置換基を有していてもよいアリール基を表す。ただし、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴のうち少なくとも１つは前記アリール基を表す。） （もっと読む）

【課題】環状オレフィン官能性ポリシロキサンを含む環状オレフィン付加共重合体及びその製造方法、架橋用組成物、架橋体及びその製造方法を提供。
【解決手段】環状オレフィン官能性ポリシロキサンを含む環状オレフィン付加共重合体式（２）のポリシロキサンに由来する構造単位が、共重合体中０．５〜３５モル％である環状オレフィン付加共重合体。


｛Ｒ¹は脂肪族不飽和結合を有さない一価有機基、ｓは０〜２、ｊは０又は１。｝ （もっと読む）

【課題】優れたアルカリ解像性、フッ酸耐性を有するとともに、ガラス基板との密着性にも優れるため、ガラス基板のエッチングの際にサイドエッチング量を抑制することができる、ガラスエッチング用放射線硬化性レジスト樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明のガラスエッチング用放射線硬化性レジスト樹脂組成物は、（Ａ）不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、（Ｃ）感放射線性ラジカル重合開始剤および（Ｄ）シランカップリング剤を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】種々な用途で有用な両末端官能性ポリマーの製造法を提供すること。
【解決手段】第4〜5族遷移金属含有化合物(A)を含むオレフィン重合触媒の存在下で、下
記の工程1、工程2および工程1をこの順番で実施した後、必要に応じて工程3を実施することによって得られ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で求められる分子量
分布(Mw/Mn)が1.0〜1.5であることを特徴とする両末端官能性ポリオレフィンの製造方法
。 [工程1]極性基含有オレフィン(C)を接触混合する工程。[工程2] エチレンおよび炭素
数3〜20のオレフィンから選ばれる少なくとも1種のオレフィン(D)をn回（nは1以上の整数） 接触混合する工程。（ただし、nが2以上の整数である場合は、各回で用いるオレフィ
ン(D)の種類または組成が異なる。）[工程3] 化学変換工程。 （もっと読む）

【課題】種々な用途で有用な片末端官能性ポリマーの製造方法を提供すること。
【解決手段】第4〜5族遷移金属含有化合物(A)を含むオレフィン重合触媒の存在下で、次
の工程1および工程2を実施し、その後、必要に応じて工程3を実施することにより得られ
る、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で求められる分子量分布(Mw/Mn)が1.0〜1.5である片末端官能性ポリオレフィンの製造方法。 [工程1]極性基含有オレフィン(C)を接触混合する工程。 [工程2] エチレンおよび炭素数3〜20のオレフィンから選ばれる
少なくとも1種のオレフィン(D)をn回（nは1以上の整数）接触混合する工程。（ただし、nが2以上の整数である場合は、各回で用いるオレフィン(D)の種類または組成が異なる。）[工程3] 化学変換工程。 （もっと読む）