【課題】水の後退角が大きいレジスト膜を与えることが可能な重合体、及び、これを配合したフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】１分子内に少なくとも２個のトリフルオロメチル基と、式（１）で表される１価の不飽和環状基と、水酸基とを有する単量体に由来する構造単位を含有する重合体。酸の作用によりアルカリ可溶性に変化するフォトレジスト樹脂、酸発生剤、及び、前記重合体を含有するフォトレジスト組成物。


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【課題】露光光に極紫外線を用いるパターン形成において、現像コントラストが高い微細パターンを得られるようにする。
【解決手段】基板１０１の上に、酸不安定基を含まず且つラクトンを含む第１のポリマーと、酸不安定基を含む第２のポリマーと、光酸発生剤とを含むレジスト材料からなるレジスト膜１０２を形成する。その後、レジスト膜１０２に、極紫外線からなる露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。続いて、パターン露光が行われたレジスト膜に対して現像を行って、レジスト膜からレジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高温条件下において、高分子量のβ−ピネン重合体を有利に製造することが出来る方法を提供すること。
【解決手段】β−ピネン、又はβ−ピネンとカチオン重合性単量体とからなる単量体群を、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン及び下記一般式（Ｉ）にて表わされる化合物の存在下、カチオン重合又はカチオン共重合せしめる。
ＣＨ₃ＣＲ_AＲ_B−ＯＲ_C ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒ_A は置換基を有していてもよいアリール基を、また、Ｒ_B は水素原子、炭 素数が１〜１０のアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を、更に
、Ｒ_C は水素原子又は炭素数が１〜１０のアルキル基を、それぞれ示す。） （もっと読む）

【課題】ノルボルネン系重合体を生産性高く製造する方法および該方法における触媒として好適に用いられる新規なパラジウム錯体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される少なくとも一種の金属化合物成分（Ａ）を触媒として使用するノルボルネン系重合体の製造方法および下記式（ＩＶ）で表される化合物。


（上記一般式（Ｉ）において、Ｘ^１は置換基を有さない炭素数１〜２０のアルキル基、Ｒは各々独立に炭素数３〜８の２級アルキル基もしくは炭素数４〜８のシクロアルキル基であり、Ｘ^２は水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、置換基を有してもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン、アセトキシ基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、ニトロ基、カルボニル、トリフルオロメタンスルホニル基、またはトリフルオロアセトキシ基を表し、Ｍは周期律表第１０族の元素を表す。） （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト用重合体およびこれを含む化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】化学式（１）において、Ｘはビニルエーテル誘導体またはオレフィン誘導体であり、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、およびＲ₄は、それぞれ、水素原子、エーテル基、エステル基、カルボニル基、アセタール基、エポキシ基、ニトリル基、およびアルデヒド基のうちの少なくとも１つの官能基を含む炭素数１〜３０のアルキル基であり、ｌ、ｍ、ｎ、ｏ、およびｐはそれぞれの反復単位を示す。なお、ｌは０．０５〜０．５の実数であり、ｍおよびｎはそれぞれ０．１〜０．７の実数であり、ｏおよびｐはそれぞれ０〜０．７の実数であり、ｌ、ｍ、ｎ、ｏ、およびｐの合計は１である。
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【課題】耐酸化性や曲げ強度特性に優れたノルボルネン系重合体の効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】ノルボルネン系モノマー、第１０族遷移金属化合物、及びラジカル発生剤を含有する重合性組成物を型内に注入し重合後、該ラジカル発生剤の１分間半減期温度以上の温度で加熱することを特徴とするノルボルネン系成形体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】機械強度や靭性に優れ、かつ耐酸化性にも優れた積層体を生産効率良く製造するのに有用な、重合性組成物及びプリプレグ、並びに該積層体を提供すること。
【解決手段】ノルボルネン系モノマー、第１０族遷移金属化合物、及びラジカル発生剤を含有してなる重合性組成物、前記重合性組成物を強化繊維に含浸させた後に重合してなるプリプレグ、及び前記プリプレグと、当該プリプレグ及び／又は他の材料とを積層した後、硬化してなる積層体。 （もっと読む）

【課題】冷却流延製膜法に適用可能なノルボルネン系付加重合体を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの下記一般式（１Ｂ）で表される繰り返し単位を含むノルボルネン系付加重合体。


（一般式（１Ｂ）中、Ｒ^３は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｒ^２およびＲ^４は、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜１２のアルキル基もしくはアリール基を表し、このうち少なくともひとつが水酸基を含有するアルキル基もしくはアリール基である。Ｌ^２は単結合、または２価の連結基を表す。ｐは０または１、ｑは１〜４の整数を表す。ｓは１〜３の整数を表す。なお、ｓが２以上の場合は、複数あるＲ^３は同一でも異なっていてもよい。ｑが２以上の場合は、複数あるＲ^２およびＲ^４は同一でも異なっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】冷却流延製膜法に適用可能なノルボルネン系付加重合体を提供する。
【解決手段】少なくとも一種の下記一般式（１Ａ）で表される繰り返し単位と、少なくとも一種の下記一般式（１Ｂ）で表される繰り返し単位とを含むノルボルネン系付加重合体。


（一般式（１Ａ）および一般式（１Ｂ）中、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｌ^１、Ｌ^２はそれぞれ独立に単結合、または２価の連結基を表す。ｍ、ｐはそれぞれ独立に０または１の整数、ｎ、ｑはそれぞれ独立に１〜４の整数、ｒ、ｓはそれぞれ独立に１〜３の整数を表す。なお、ｒ、ｓが２以上の場合は、Ｒ^１、Ｒ^３は各々同一でも異なっていてもよい。ＡはＣＯＯＲ^５またはＯＣＯＲ^５を表し、Ｒ^５は置換基を表す。） （もっと読む）

【解決課題】簡便な光導波路の製造方法を提供すること。更には、鮮明なコアパターンが得られる光導波路の製造方法を提供すること。
【解決手段】活性放射線を照射することによりマレイミド基と反応する低分子量化合物を含有するマレイミド基を有する活性放射線硬化性ポリマー層を作製する活性放射線硬化性ポリマー層作製工程と、該活性放射線硬化性ポリマー層に、パターン形状のマスクをし、活性放射線を照射する第一の照射工程と、加熱下又は減圧下で、該活性放射線硬化性ポリマー層のうちの活性放射線が照射されなかった未露光部から、該低分子量化合物を揮発させる低分子量化合物揮発工程と、該活性放射線硬化性ポリマー層全体に、活性放射線を照射する第二の照射工程と、を有することを特徴とする光導波路の製造方法。 （もっと読む）

【課題】低誘電率、低損失特性、及び優れた工程性を有する低損失絶縁材として有用である新規なノルボルネン系重合体、これを用いた絶縁材、印刷回路基板、及び機能性素子を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される繰り返し単位を少なくとも１種含む、ノルボルネン系重合体である。


（式中、Ｒ１〜Ｒ４の少なくとも一つは独立に置換または非置換のＣ４〜Ｃ３１の線状または分枝状のアラルキル基であり、残りのＲ１〜Ｒ４はそれぞれ独立に水素あるいは置換または非置換のＣ１〜Ｃ３の線状または分枝状のアルキル基であり、ｎは２５０〜４００の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】本発明は、極性官能基を含む高分子量環状オレフィン重合体を高収率で製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】極性官能基を含む環状オレフィン重合体の製造方法が開示される。本発明の製造方法は、触媒混合物の製造工程を含み、この触媒混合物にはｉ）金属と結合した酸素イオンを含有する配位子を有する１０族遷移金属を含有する前置触媒；ii）１５族元素を含有する有機化合物からなる第１共触媒；およびiii）前記前置触媒の金属に弱く配位すると共に陰イオン供与能力がある第２共触媒；が含まれ、また、単量体溶液の付加重合反応工程を含み、この単量体溶液には極性官能基含有ノルボルネン系化合物が含まれ、有機溶媒および前記触媒混合物の存在下、８０〜２００℃の温度で反応させ、前記有機溶媒の総量が前記単量体溶液中の前記単量体の総重量に対して５０〜８００重量％であり、前記重合体の製品収率は前記単量体の総重量に対して５０重量％以上である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フィルムに成形した場合、高い透明性を保持しつつ、さらに金属との密着性に優れる環状オレフィン樹脂およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による重量平均分子量〔Ｍｗ〕が、ポリスチレン換算で５万〜２０万であり、−ＣＯＯＨ基を１つ以上有する構造単位を含有することを特徴とする環状オレフィン樹脂。 （もっと読む）

接着剤組成物はポリファルネセン及び粘着付与剤を含む。ポリファルネセンは、ファルネセン（例えば、α-ファルネセン又はβ-ファルネセン）から誘導されるファルネセンホモポリマーでも、ファルネセン及び少なくとも1種のビニルモノマーから誘導されるファルネセン共重合体でもよい。いくつかの実施態様において、少なくとも1種のビニルモノマーは、エチレン、スチレンなどのα-オレフィン、又は置換もしくは非置換のビニルハライド、ビニルエーテル、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリルアミドもしくはメタクリルアミド、又はそれらの組み合わせである。本明細書に開示される組成物は、ホットメルト接着剤、感圧接着剤などとして使用できる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐薬品性、耐候性、耐ストレスクラック性に優れ、かつ接着性に優れる含フッ素共重合体及びその積層体、被覆物品の提供。
【解決手段】テトラフルオロエチレンに基づく繰り返し単位（ａ）、ＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３に基づく繰り返し単位（ｂ）、ＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_３及び／又はＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_２ＣＦ_３に基づく繰り返し単位（ｃ）、ジカルボン酸無水物基を有する重合性炭化水素モノマーに基づく繰り返し単位（ｄ）を含有し、繰り返し単位（ａ）、繰り返し単位（ｂ）、繰り返し単位（ｃ）、繰り返し単位（ｄ）の合計モル量に対して、繰り返し単位（ａ）が７５〜９９．７９モル％であり、繰り返し単位（ｂ）が０．１〜１０．０モル％であり、繰り返し単位（ｃ）が０．１〜１０．０モル％であり、繰り返し単位（ｄ）が０．０１〜５．０モル％であり、容量流速が０．１〜１０００ｍｍ^３／秒である含フッ素共重合体。 （もっと読む）

【課題】スタックド構造のＭＣＰ製造時における作業性の欠点である接着剤の塗布などの工程を改善し接着剤を使用することなく半導体チップを積層することができ、かつ各種の信頼性に優れた半導体装置を提供する。
【解決手段】エポキシ基を有する環状オレフィン系樹脂（Ａ）と光酸発生剤（Ｂ）を含む感光性樹脂組成物の樹脂層３を半導体チップ２の回路素子形成面上に有し、かつ半導体チップ上に積層する別の半導体チップ６の裏面が樹脂層に直接接触していることを特徴とするスタックド構造のＭＣＰの樹脂封止型半導体装置。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、高透明性、他の部材への接着・密着性が優れ、寸法安定性に関わる線膨張係数が低くかつ汎用溶媒に均一に溶解し透明な溶液を形成できる、ノルボルネン（ビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン）と環状のオレフィン系化合物との付加共重合体を提供する。
【解決手段】全構造単位中にノルボルネン由来の特定の構造単位（ａ）を７０〜９８モル％と、ケイ素原子含有の環状オレフィン系化合物由来の特定の構造単位（ｂ）を２〜２０モル％含み、数平均分子量が３０，０００〜３００，０００、２５℃でトルエンやシクロヘキサンに１０重量％濃度で溶解時に不溶分が０．１重量％以下、光路長１ｃｍ石英セルで測定した該トルエンまたはシクロヘキサン溶液の波長４００ｎｍにおける透過率が８５％以上であることを特徴とする環状オレフィン系付加共重合体。 （もっと読む）

【課題】ノルボルネン系化合物重合用触媒として有用な有機パラジウム錯体含有組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）


（Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４及びＲ_５は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｘはハロゲン原子又は‐ＯＣＯＣＨ_３を表し、ＬはＮヘテロ環カルベンを表す。）（ｂ）有機典型金属化合物（ｃ）塩を含有する有機パラジウム錯体含有組成物。 （もっと読む）

【課題】高い透明性を保持しつつ、さらに耐溶剤性および耐熱変形性に優れるノルボルネン系樹脂フィルムを提供すること。
【解決手段】ある特定の構造を有する化合物を少なくとも１種含む単量体を（共）重合して得られるノルボルネン系樹脂の溶液と、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウムおよび水酸化マグネシウムからなる群より選択される少なくとも１種の水酸化物とを含有する樹脂組成物を加熱してなることを特徴とするノルボルネン系樹脂溶液。 （もっと読む）

【課題】耐候性に優れた帯電防止性を有し、透明性に優れた合成樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（２）で表される繰り返し単位を含む含フッ素重合体。


［式中、Ｗは連結基、Ｒ^１はそれぞれ独立にパーフルオロアルキル基を表し、Ｑは重合性二重結合基含有基の二重結合が開裂して形成した単位構造を表す。Ｍ^＋は、水素カチオン、金属イオンまたは一般式（１５）


（式中、Ｒ^１１〜Ｒ^１４はそれぞれ独立に置換基を有するかまたは有しない炭素数１〜２０のアルキル基またはアリール基を表す。）で表わされる４級アンモニウムカチオンを表す。］ （もっと読む）