【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する含フッ素化合物、および（Ｆ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物自体の熱安定性・保存安定性が良好で、ＣｌやＮａなどのイオン性の不純物が少なく、広い波長領域で透明性に優れ、厚膜かつアスペクト比の高いレジストパターンが得られるイオンビーム描画用ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】次の成分（Ａ）および（Ｂ）を含有するイオンビーム描画用ネガ型レジスト組成物並びに上記のネガ型レジスト組成物を利用するパターン形成方法。（Ａ）下記式（１）または環状オレフィンを開環重合した後水素添加した重合体単位、ビニルエーテル重合体単位から選ばれ、イオンビームの照射により現像液に難溶又は不溶となる樹脂、（Ｂ）樹脂（Ａ）を溶解する少なくとも一種以上の有機溶剤。
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【課題】１回のジェッティングで比較的厚い膜（２μｍ以上）を形成することができる、ポリイミド形成成分を高濃度で含有するインクジェット用インクを提供すること。
【解決手段】酸無水物基を有する化合物（ａ１）と、該化合物（ａ１）以外の、下記一般式（１）で表されるモノアミン化合物（ａ２）とを用いて得られるアミド酸（Ａ）、およびアミノ基を有する化合物（ｂ１）と、該化合物（ｂ１）以外の、下記一般式（２）で表される、酸無水物基を１つ有する化合物（ｂ２）とを用いて得られるアミド酸（Ｂ）からなる群より選ばれる少なくとも１種のアミド酸を含む熱硬化性組成物：
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【課題】優れた離型性や、アンチブロッキング性を有するポリブテン樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】ポリブテン樹脂を含む１００質量部のベース樹脂（Ａ）と、０．１以上２０質量部以下の４-メチル-１-ペンテン系重合体（Ｂ）と、を含む樹脂組成物であって、前記４-メチル-１-ペンテン系重合体（Ｂ）の、デカリン溶媒中１３５℃で測定した極限粘度［η］（ｄｌ/ｇ）が、０．０１以上０．５０未満の範囲にある、樹脂組成物；および当該樹脂組成物からなるフィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】優れた露光マージン及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する繰り返し単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。［Ｒ^１及びＲ^３１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいＣ_１−６アルキル基を表す。Ｚ^１は、単結合又は＊−［ＣＨ₂］_ｓ３−ＣＯ−Ｌ^４−基を表す。Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｔは、骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表す。］
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【課題】パターン上の現像欠陥を低減できる化学増幅型レジスト組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が変化する樹脂、（Ｃ）塩基性化合物、（Ｄ）界面活性剤、（Ｅ）溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の製造方法において、（Ａ）成分の溶液と（Ｂ）成分の溶液を準備し、（Ｂ）成分の溶液をフィルターでろ過する工程、（Ａ）成分の溶液と（Ｂ）成分の溶液を混合する工程を含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物の製造方法及びその方法により得られた化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

本発明は、レジスト下層膜用芳香族環含有重合体およびこれを含むレジスト下層膜組成物を提供する。
前記芳香族環含有重合体は、化学式１で表される単位構造を含む。前記化学式１の定義は、明細書に記載されたとおりである。 （もっと読む）

【課題】高周波領域での誘電正接が極めて小さく、配線埋め込み性、及び耐熱性に優れた積層体の製造に有用な、重合性組成物、架橋性樹脂成形体及び架橋樹脂成形体、並びに、それらを用いて得られる積層体を提供すること。
【解決手段】シクロオレフィンモノマー、重合触媒、架橋剤、ビニリデン基を１つ有する一官能化合物、ビニリデン基を２つ有する二官能化合物、及びビニリデン基を３つ有する三官能化合物を含有してなり、かつ前記一官能化合物、前記二官能化合物、及び前記三官能化合物の含有割合が重量比（一官能化合物：二官能化合物：三官能化合物）で１０〜８０：１０〜８０：５〜４０である、重合性組成物、該組成物を用いてなる架橋性樹脂成形体及び架橋樹脂成形体、並びに、少なくとも、前記架橋性樹脂成形体、又は前記架橋樹脂成形体からなる層を有してなる積層体。 （もっと読む）

【課題】高活性の単一活性点触媒組成物を用いて高温溶液重合状態でも触媒活性を維持できるエチレンとα−オレフィンの共重合体を製造する方法の提供。
【解決手段】単一反応器又は直列あるいは並列式の２次連続反応器中において、シクロペンタジエン誘導体とオルト（ortho-）位にアリール誘導体が置換されたアリールオキシ基を有する陰イオン性リガンドを少なくとも１つ含む遷移金属触媒含む触媒組成物及びＣ３〜Ｃ２０の有機溶媒の存在下で、エチレン及び少なくとも１つのα−オレフィン共単量体を溶液重合させることを含む、芳香族単量体の含量が０．１〜９０重量％であるエチレンとα−オレフィンの共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】オレフィンに対する高い重合活性と高い共重合性を有し、かつ分子量の高い重合体を製造するオレフィン重合用触媒、および該オレフィン重合用触媒を用いたオレフィンの重合方法の提供。
【解決手段】オレフィン重合用触媒は、下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物（Ａ）を含んでなる。


（式中、Ｍは周期律表４〜６族の遷移金属原子を示し、Ｒ¹は炭素原子数７〜３０のアルキル置換アリール基であり、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁵は水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基等から選ばれ、Ｒ⁴およびＲ⁶は塩素原子である。） （もっと読む）

本開示の態様は、Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３ＯＨ部分を包含する反復単位の少なくとも１つのタイプを有するビニル付加およびＲＯＭＰポリマーを包含する。本開示に従った他の態様としては、前記ポリマーの１つから作製されるアルカリアニオン交換膜（ＡＡＥＭ）、前記ＡＡＥＭを包含するアニオン燃料電池（ＡＦＣ）、および、前記ＡＦＣのＡＡＥＭ以外の成分で、前記ポリマーを包含するものが挙げられる。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度及び形状を有するパターンを得ることができるレジスト組成物の樹脂用の化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、環Ｗ^１は、Ｃ_３-３６飽和炭化水素環を表す。環Ｗ^２は、Ｃ_３-３６飽和炭化水素環を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は、Ｃ_1-６アルキル基を表す。Ｒ^３は、Ｃ_1-１２炭化水素基を表す。Ｒ^４は、Ｃ_1-６アルキル基を表す。ｓは、１又は２の整数を表す。ｔは、０〜２の整数を表す。ｕは、０〜２の整数を表す。］
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【課題】非晶質環状オレフィン重合体の透明性、耐熱性及び機械的物性といった特性を維持しつつ、熱インプリント性をさらに改善する。
【解決手段】非晶質環状オレフィン重合体１００重量部に対し、２−ノルボルネンが７５〜１００重量％と置換基含有ノルボルネン類が２５〜０重量％とを含有してなる重合性単量体を開環重合し、水素添加して得られる、融点が５５〜１４５℃である結晶性ノルボルネン系重合体を１〜１０重量部含有する樹脂組成物からなるフィルムであり、非晶質環状オレフィン重合体の重量平均分子量をＭｗ_Ａ、結晶性ノルボルネン系重合体の重量平均分子量をＭｗ_Ｂとしたとき、０．６≦Ｍｗ_Ａ/Ｍｗ_Ｂ≦１．０であることを特徴とする樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、現像性、低損失、耐熱性を同時に兼ね備えた感光性樹脂組成物、光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路形成用フィルム、光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器を提供することである。
【解決手段】 本発明の観光性樹脂組成物は、下記式（１）で表される繰り返し単位を有する環状オレフィン系共重合体を含む樹脂組成物であって、前記環状オレフィン系共重合体の重量平均分子量が３０，０００〜２００，０００であり、かつ、前記環状オレフィン系共重合体において前記下記式（１）で表される繰り返し単位のモル分率をＸとしたときに、Ｘは２０〜５０ｍｏｌ％の範囲であることを特徴とする。また本発明の光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路形成用フィルム、光導波路、光配線、光電気混載基板および電子機器は、上記感光性樹脂組成物を用いるものである。 （もっと読む）

【課題】極めて透明であり、低い誘電率（熱酸化ケイ素膜の誘電率より低いか、または、それと同等の誘電率）を有し、さらに、高い耐熱性（それに続く加工に十分耐える程度の耐熱性）を有する、３０μｍまたはそれより大きい厚さを有するフィルム形成に使用可能な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系ポリマー、光酸発生剤および溶媒を含む、ネガ型の自己結像可能なフィルムを形成するためのポリマー組成物。 （もっと読む）

【課題】各種光学部品及び電子部品の封止材料、絶縁材料として有用な極性基含有環状オレフィン系重合体の原料モノマーであるＮ−アルキル置換イミド基含有脂環式オレフィン単量体の精製方法の提供。
【解決手段】代表例としてＮ−（２−エチルヘキシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド（ＮＥＨＩ）であるＮ−アルキル置換イミド基含有脂環式オレフィン単量体を、陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂とからなる混合イオン交換樹脂に接触させる精製方法。前記混合イオン交換樹脂における、前記陽イオン交換樹脂と前記陰イオン交換樹脂との割合は、陽イオン交換樹脂：陰イオン交換樹脂の重量比で、１：１〜１０：１であることが好ましい。前記単量体を前記混合イオン交換樹脂とは、１０〜１００℃の条件で、接触させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】プロピレンなどのオレフィンを重合する場合に、工業化可能な高温条件下において、重合体の融点が低下せず、優れた重合活性で製造する方法を提供する。
【解決手段】Ａ）下記一般式［１］で表される架橋メタロセン化合物を含むオレフィン重合用触媒の存在下に重合する。
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【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法であり、前記レジスト組成物が、（Ａ）実質的にアルカリ不溶性である樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするパターン形成方法、該方法に用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜。 （もっと読む）

【課題】ＤＯＦ、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により塩基を発生する化合物、（Ｂ）ラクトン構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】薄肉射出充填が可能で高発泡倍率であるがために、軽量性に優れ、表面外観良好な射出発泡成形体を得ることが出来る、射出発泡成形用ポリプロピレン系樹脂組成物および該樹脂組成物からなる射出発泡成形体を提供する。
【解決手段】下記の（Ａ）〜（Ｃ）を含んでなる射出発泡成形用ポリプロピレン系樹脂組成物。（Ａ）歪硬化性を示し、かつメルトテンションが１ｃＮ以上５ｃＮ以下であるポリプロピレン系樹脂、（Ｂ）膨張開始温度が１９０℃以下、最大膨張温度が２１０℃以上である熱膨張性マイクロカプセル、（Ｃ）化学発泡剤および／または物理発泡剤。 （もっと読む）