【課題】液浸露光プロセスにおいて、露光時には大きい動的接触角により、レジスト膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより、現像欠陥の発生が抑制される液浸露光用感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】［Ａ］フッ素原子及びアルカリ解離性基を有し、主鎖に脂環式基を有する重合体、及び［Ｃ］酸発生体を含有する液浸露光用感放射線性樹脂組成物。［Ａ］は、下記式（１）の構造単位（Ｉ）を含むことが好ましい。
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【課題】伝送効率および受発光素子等に対する光結合効率が高く、信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】光導波路１は、その光入射端部１Ａ近傍が、横断面上に線を引いたときその線上における屈折率分布がステップインデックス型になっているＳＩ部で構成され、光入射端部１Ａ近傍以外の部位は、屈折率分布がグレーデッドインデックス型になっているＧＩ部で構成されている。なお、ステップインデックス型の屈折率分布とは、屈折率が階段状に変化した分布を指し、グレーデッドインデックス型の屈折率分布とは、屈折率が高い領域とその両側にそれぞれ隣接する屈折率が低い領域とを有し、かつ屈折率が連続的に変化している分布を指す。 （もっと読む）

【課題】相対的に移動する投影レンズに水が十分に追従し、液浸露光工程を安定して実施できるレジスト保護膜を提供する。
【解決手段】下記式（ａ３）で表される化合物の重合により形成される繰り返し単位（Ａ３）、下記式（ａ４）で表される化合物の重合により形成される繰り返し単位（Ａ４）、および下記式（ａ５）で表される化合物の重合により形成される繰り返し単位（Ａ５）から選択される少なくとも一種の繰り返し単位を有する第１の重合体を含む液浸露光用レジスト保護膜用組成物を提供する。
ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_３Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ ………（ａ３）
ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_３Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ………（ａ４）
ＣＦ_２＝ＣＦＯ（ＣＦ_２）_３Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＨ （ａ５） （もっと読む）

【課題】幅広い温度で高い制振性を有する防振性組成物を提供する。
【解決手段】鎖状オレフィン−環状オレフィン共重合体からなるオレフィン系エラストマーと、このオレフィン系エラストマーと非相容であり、かつ前記オレフィン系エラストマーと異なるガラス転移温度を有するオレフィン系樹脂とを含む組成物で防振性組成物を調製する。前記オレフィン系樹脂は、オレフィン系エラストマーよりもガラス転移温度が高い環状オレフィン系樹脂及び／又はオレフィン系エラストマーよりもガラス転移温度が低い鎖状オレフィン系樹脂であってもよい。前記オレフィン系エラストマーのガラス転移温度が３０℃以下であり、オレフィン系樹脂のガラス転移温度との差が１０℃以上であってもよい。前記オレフィン系エラストマーとオレフィン系樹脂との割合（重量比）は、前者／後者＝９８／２〜５０／５０程度であってもよい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ペレットハンドリング可能なエチレン・α−オレフィン・非共役ポリエン共重合体を提供しようとしてなされたものである。
【解決手段】本発明のエチレン・α−オレフィン・非共役ポリエン共重合体は、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）により測定した吸熱曲線のピーク（融点）を一つ以上有するエチレン・α−オレフィン・非共役ポリエン共重合体であって、少なくとも１つの融点が、４０℃以上であることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】極性基を有するノルボルネン系モノマーの高分子量付加共重合体を製造可能な高活性のノルボルネン系モノマー重合用触媒、及びノルボルネン系（共）重合体の効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるパラジウム錯体（Ａ）を含有するノルボルネン系重合用触媒、及び前記触媒の存在下に一般式（３）及び一般式（４）で示されるモノマーユニットを有するノルボルネン系共重合体を製造する方法。パラジウム錯体（Ａ）としては、一般式（２）で示される錯体が好ましい。


（式中の記号は、明細書に記載の通り） （もっと読む）

【課題】パターン形成性、ＭＥＥＦ性能及びエッチング耐性に優れる感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、重合体及び化合物を提供すること。
【解決手段】式（１）を有する重合体及び酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】ノルボルナジエンのような高価なモノマーを用いることなく、剪断による粘度変化の大きいポリマーを提供すること。
【解決手段】エチレン、少なくとも１種のα−オレフィンモノマーおよび少なくとも１種のジエンモノマーを含み、少なくとも１０の加工レオロジー比（ＰＲＲ）｛ＰＲＲ＝（１９０℃で剪断速度０．１ｒａｄ／ｓｅｃで測定したインターポリマー粘度）／（１９０℃で剪断速度１００ｒａｄ／ｓｅｃで測定したインターポリマー粘度）＋［３．８２−インターポリマームーニー粘度（ＭＬ１＋４＠１２５℃）］×０．３｝、少なくとも２．２の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）、および少なくとも１５のムーニー粘度（１２５℃でのＭＬ１＋４）を有する共重合体。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、液浸露光においてレジスト膜の露光部から酸が液浸液に溶出することを低減し、ウォーターマーク欠陥及び現像欠陥を抑制できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）スルホンアミド構造を有する疎水性樹脂、及び、
（Ｄ）２種以上の溶剤からなり、沸点が２００℃以上の溶剤を含有する混合溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】無機基材との密着性、誘電特性、耐熱性、成形性に優れた、付加型ノルボルネン系樹脂、該樹脂を含む成形体、該成形体を備える複合部材等を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系モノマー、１０族遷移金属触媒、および式（１）で表されるシラン化合物、を含む反応液を塊状重合せしめて得られ、ケイ素原子の含有率０．０１質量％〜２．０質量％、数平均分子量５万〜１０００万である付加型ノルボルネン系樹脂。
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【課題】優れたフォーカスマージンで、レジストパターンを製造できるレジスト組成物及び該レジスト組成物に有用な樹脂などを提供する。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔２〕の提供。〔１〕式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂及び当該構造単位を誘導する化合物。


［式（ａａ）中、Ｔ^１は、置換基を有していてもよい炭素数４〜３４のスルトン環基。Ｒ^aは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基。Ｚ^１は、＊−Ｘ^１−ＣＯ−（但し、Ｘ^１は、炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基）で表される基などを表す。］〔２〕前記樹脂と、酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性などの特性が改善された新規なポリマー（特に熱可塑性ポリマー）およびこのポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】重合性不飽和結合を有する非フルオレン系モノマー（例えば、単官能性（メタ）アクリル酸エステル）に、重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基など）を有するフルオレン化合物（例えば、２以上の重合性不飽和結合を有する９，９−ビスアリールフルオレン類）を共重合させる。このような方法では、少量の（例えば、重合成分全体の１０モル％未満の割合で）フルオレン化合物を共重合させるだけでも、ベースとなる重合性不飽和結合を有する非フルオレン系モノマーの単独重合体に比べて、耐熱性などの特性を十分に改善又は向上できる。 （もっと読む）

【課題】対象物を強固に接着して支持しつつ、支持体を対象物から分離可能な積層体およびその積層体の分離方法を提供すること。
【解決手段】本発明の積層体は、光透過性の支持体と被支持基板と接着層と支持体および被支持基板との間に設けられ、光吸収性を有している構造をその繰返し単位に含んでいる重合体を含有している分離層とを備えており、重合体は支持体を介して照射される光を吸収することによって変質する。 （もっと読む）

【課題】スピロサイクリックオレフィンポリマー、スピロサイクリックオレフィンポリマーの調製方法、スピロサイクリックオレフィン樹脂バインダーを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合単位としての１以上のスピロサイクリックオレフィンモノマー及び任意に１以上のエチレン性又はアセチレン性不飽和モノマーを含むポリマーであって、そのスピロサイクリックオレフィンモノマーがオレフィン性炭素を介してポリマー骨格に結合されているポリマーであり、更に、１以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーとパラジウム（ＩＩ）重合触媒、ニケッル（ＩＩ）重合触媒及びフリーラジカル重合触媒から選択される１以上の触媒を接触させる工程を含む、１以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーを重合して、重合単位として１以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーを含むポリマーの形成法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性と柔軟性とを両立できるオレフィン系エラストマーを提供する。
【解決手段】鎖状オレフィン−環状オレフィン共重合体で構成されたオレフィン系エラストマーを架橋して架橋オレフィン系エラストマーを調製する。前記鎖状オレフィン−環状オレフィン共重合体は、α−鎖状Ｃ_２−４オレフィンと多環式オレフィンとを重合成分とする共重合体であってもよい。前記オレフィン系エラストマーを構成する鎖状オレフィンと環状オレフィンとのモル比は、鎖状オレフィン／環状オレフィン＝８５／１５〜９７／３程度であってもよい。架橋方法は電子線で架橋する方法であってもよい。 （もっと読む）

【課題】ネガティブトーン現像プロセスによってフォトリソグラフィパターンを形成するのに有用なフォトレジスト組成物、フォトリソグラフィパターンを形成する方法、並びにフォトレジスト組成物でコーティングされた基体を提供する。
【解決手段】フォトレジスト組成物、およびネガティブトーン現像プロセスを用いて微細パターンの形成を可能にするフォトリソグラフィ方法に関し、このフォトレジスト組成物は一部分が特定のアセタール部分を含むモノマーから形成されるコポリマーを含む。本発明の好ましい組成物および方法は、フォトリソグラフィ処理における厚さ損失の低減およびパターン崩壊マージンの向上をもたらす。この組成物、方法およびコーティングされた基体については、半導体デバイスの製造における特別な適用性が見いだされた。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、熱伝導性、絶縁性、成形時の流動性、成形時の機器磨耗性に優れ、得られる成形品が割れにくく、安価な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】結晶性熱可塑性樹脂（Ａ）と、非晶性α−オレフィン系共重合体（Ｂ）と、熱伝導率が１０〜１００Ｗ／ｍ・Ｋである充填剤（Ｃ）とを含有する樹脂組成物であって、非晶性α−オレフィン系共重合体（Ｂ）は、エチレン、プロピレンおよび炭素原子数４〜２０のα−オレフィンからなる群から選ばれる少なくとも２種のオレフィンに由来する単量体単位を含有し、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１〜４である非晶性α−オレフィン系共重合体であり、結晶性熱可塑性樹脂（Ａ）の含有量が０．３〜４０容量％、非晶性α−オレフィン系共重合体（Ｂ）の含有量が１５〜８０容量％、充填剤（Ｃ）の含有量が２０〜７０容量％である樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高効率、且つ簡便な工程によって重合体溶液に含まれる金属成分を効果的に除去し、含有金属成分が充分に低減された重合体溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】金属触媒残渣を含む粗重合体より該金属触媒残渣を除去して得られる重合体の製造方法であって、上記粗重合体が溶媒に溶解している粗重合体溶液と、上記溶媒と液液分離が可能なジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、および／またはＮ−メチル−２−ピロリドンからなる非プロトン性極性溶媒とを液液接触させる工程を含む。 （もっと読む）

【課題】材料の表面に塗布する抗菌剤用組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）：


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２はフルオロアルキル基を、Ｒ^３Ｒ^５は水素原子等を、Ｒ⁶は単結合、２価の有機基を表す。）で表される含フッ素重合性化合物を含む抗菌剤用組成物。 （もっと読む）

【課題】混練することなく、材料の表面等の必要な場所に限定して存在させることが可能で、溶出、揮発等することなく、有効成分の含有が低濃度であっても、抗菌性を抗菌性、防カビ性、抗ウィルス性に優れた効果を持続的に発揮する抗菌剤を提供する。
【解決手段】一般式（１）：


（式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜４のフルオロアルキル基である。ＣとＡは共有結合またはイオン結合で結合し、Ａは水素原子または陽イオンである。）で表される有機基を有する樹脂を有効成分として含有する抗菌剤。 （もっと読む）