【課題】ポリオレフィン樹脂と極性基をもつ熱可塑性樹脂の相溶性を改善し、安定なドメイン分散構造をとり、有機溶剤耐性、機械的強度および外観に優れる樹脂組成物を与える相溶化剤、該相溶化剤を含有する樹脂組成物、その成形体を提供する。
【解決手段】α−オレフィンモノマーと下記一般式（１）：
【化１】


（式中、Ｘは重縮合系樹脂の連結基とエステル交換反応またはアミド交換反応し得る官能基を示し、ｎは０〜１０の整数を示し、ｍは０〜１０の整数を示し、ｏは１〜４の整数を示す。）
で表される化合物との共重合体からなることを特徴とする熱可塑性樹脂用相溶化剤、該相溶化剤とポリオレフィン樹脂と極性基をもつ熱可塑性樹脂とを含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で表されるスピロ環構造を有する酸脱離性エステル型単量体。


（Ｚは重合性二重結合を有する１価の基、Ｘはこれが結合する炭素原子と共に置換又は非置換のシクロペンタン環、シクロヘキサン環、又はノルボルナン環を形成する２価の基、Ｒ²は水素原子、又は１価炭化水素基を表す。Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、又は１価炭化水素基を表し、又は、Ｒ³とＲ⁴は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に置換又は非置換のシクロペンタン環、又はシクロヘキサン環を形成する２価の基を表す。ｎは１又は２を表す。）
【効果】本発明のスピロ環構造を有する酸脱離性エステル型単量体は、機能性材料の原料等として有用であり、酸脱離反応における極めて高い反応性を有し、解像性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。 （もっと読む）

本明細書に記載し、開示され、説明されている本発明は、ゲストのリン光を発する金属錯体のための両極性小分子ホスト材料に関する。この両極性小分子の製造方法も記載されている。オキサジアゾールおよび1つまたは複数のカルバゾール基の両方を含むこれらの両極性小分子は、(I) R¹、R²、およびR³基の少なくとも1つが、場合によって置換されていてもよいカルバゾール基である本発明の材料を含んでいる予想外に効率的なOLEDデバイスの発光層を作製するために使用することができる。
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【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法及びこれに用いるネガ型化学増幅レジスト組成物及びレジスト膜を提供する
【解決手段】（ア）架橋反応によりネガ化する化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法であり、前記レジスト組成物が、（Ａ）ヒドロキシスチレンに由来する繰り返し単位を含有しない樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするパターン形成方法、該方法に用いるネガ型化学増幅レジスト組成物及びレジスト膜。 （もっと読む）

【課題】ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、粗密バイアスにも優れ、保存安定性が良好な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、感放射線性の酸発生剤（Ｂ）と、酸拡散抑制剤（Ｃ）と、溶剤（Ｄ）とを含有し、前記酸発生剤（Ｂ）が下記一般式（Ｉ）で示される化合物であり、前記溶剤（Ｄ）がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを全溶剤に対して５０〜９０質量％含有する感放射線性樹脂組成物。


（一般式（Ｉ）中、Ｍ^＋はスルホニウムカチオンまたはヨードニウムカチオンを示す。） （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、更にその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に用いることができる樹脂及び重合性化合物を提供する。
【解決手段】特定の基を有する樹脂、及び、特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂。 （もっと読む）

【課題】３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、および液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に使用する樹脂であって、撥水性、特に後退接触角の大きい樹脂を提供する。
【解決手段】 下記一般式（２）で示される繰り返し単位（ａ）を含む質量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】


（式中、Ｒ¹は、重合性二重結合含有基を表し、
Ｒ²は、フッ素原子または含フッ素アルキル基を表し、
Ｒ⁸は、置換もしくは非置換のアルキル基などを表し、
Ｗ¹は、単結合、非置換もしくは置換メチレン基などを表す。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の視野角特性改善に有用であり、またリワーク性に優れ、かつ、粘着剤を介して偏光板やガラスセルなど他の部材と積層し液晶表示装置として使用したときの耐久性に優れる位相差フィルムを提供する。
【解決手段】２層の外層の間に内層を有する位相差フィルムであって、両外層はそれぞれ非スチレン系重合材料からなり、内層は負の固有複屈折値を有する重合材料からなり、該位相差フィルムの固有複屈折値が負であり、かつＨａｚｅが０〜１％である位相差フィルムであって、内層を構成する重合材料が、下記の群（Ａ）から選択された化合物、群（Ｂ）から選択された化合物、および群（Ｃ）から選択された化合物を共重合して得られた共重合体を含む重合体を含有する位相差フィルム。
群（Ａ）：炭素原子数２以上のα−オレフィン
群（Ｂ）：芳香族ビニル化合物
群（Ｃ）：環状オレフィン （もっと読む）

【課題】官能性置換基を有するポリノルボルネンをバルク重合で合成できる感光性組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性組成物は、光酸発生剤と、該光酸発生剤が放出するプロトンの作用により分子構造の少なくとも一部が離脱し得る離脱性基を有するノルボルネン系モノマーと、該ノルボルネン系モノマーの付加重合のための触媒とを含んでなり、該離脱性基をexo位に有するexo体ノルボルネン系モノマーが、該離脱性基をendo位に有するendo体ノルボルネン系モノマーよりも過剰に存在する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性および機械的強度に優れた架橋重合体を提供する。
【解決手段】下記式（１）


（Ｂ¹〜Ｂ³はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアルコキシル基、ｍは０または１）で表される化合物を重合させて得られるノルボルネン系（共）重合体と、チオール基を少なくとも２以上有する化合物とを反応させる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であり、ウォーターマーク欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の各々が少ないパターンを形成することが可能、且つ、被覆率依存性が良好な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】フッ素原子を含有する疎水性樹脂（ＨＲ）を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、疎水性樹脂（ＨＲ）が下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される繰り返し単位（ａ）を有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式中の符号は、特許請求の範囲に記載の定義を有する。）
【化１】
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【課題】 レジストパターンの裾引き形状改善に効果があり、パターン倒れ欠陥が少ないパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および、（Ｃ）フッ素原子及びケイ素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基とを有する樹脂を含有し、樹脂成分（Ａ）が下記一般式（１）で示されるエステル化合物から得られる繰り返し単位を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線樹脂組成物。（一般式（１）中の符号は明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
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【課題】コーナー・プロキシミティ（Corner proximity）が良好で、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、液浸液への酸の溶出が少なく、液浸液に対する追随性が良好である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及びケイ素原子の少なくともいずれかを含有する樹脂、および、（Ｄ）下記一般式（１）で表される含窒素ヘテロ環を有する含窒素有機化合物を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線樹脂組成物。（一般式（１）の各符号は明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
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【課題】 本発明の目的は、凹部を有する基板の凹部に樹脂組成物を充填して平坦部を形成し、平坦部と接するように、基板の一端側より他端側に延在する板状体を配置した後、樹脂組成物を加熱することにより、基板と板状体との間に間隙を形成場合において、基板に対するダメージが少なく、また、安価に半導体装置が作製でき、さらに、環境に配慮した製造プロセスで半導体装置を製造することができる樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置を提供することにある。
【解決手段】 樹脂組成物が、加熱により熱分解する樹脂を含むことにより、上記課題を解決解決することができる。 （もっと読む）

【課題】水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖に多環構造を有し、かつ該多環構造が酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する部位を有する繰り返し単位（a）を含む樹脂（ＨＲ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】単一でありながら逆波長依存性を有するフィルムを作製できる重合体、該重合体により作製したフィルム、およびその他の光学材料を提供すること。
【解決手段】エチレンまたは炭素原子数が３〜２０のα−オレフィンから導かれる構成単位（Ａ）を３０〜７０モル％、
所定の化学式で表される環状オレフィンから導かれる構成単位（Ｂ）を２０〜５０モル％、
芳香族ビニル化合物から導かれる構成単位（Ｃ）を０．１〜２０モル％含み、
下記要件［１］〜［３］を同時に満たすことを特徴とする、環状オレフィン系重合体。
［１］移動粘度計によりＡＳＴＭ Ｊ１６０１に準じた測定方法にて測定を行った場合の１３５℃のデカリン中での極限粘度［η］が０．４〜５．０ｄｌ／ｇの範囲にある。
［２］^１Ｈ−ＮＭＲにおいて６．０〜６．８ｐｐｍの範囲にピークが存在する。
［３］示差走査熱量計（ＤＳＣ）より求められるガラス転移温度が１００℃〜２００℃の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】露光部における指紋部の画像抜けや、空気中の水分、塩（Ｎａｃｌ）などによる画像故障が改善された平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、（Ｂ）酸により架橋する架橋剤、（Ｃ）バインダーポリマー、（Ｄ）赤外線吸収剤、及び（Ｅ）（ａ）側鎖にフッ素原子の数が９以上のフルオロアルキル基等含有置換基を有する（メタ）アクリレート（１）と、（ｂ）下記一般式（２）で示される側鎖に、カルボキシル基含有の炭素数３〜３０の脂肪族環状構造を有する（メタ）アクリレート（２）と、を共重合成分として有する高分子化合物、を含有する画像記録層を有するネガ型平版印刷版原版。
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【課題】３００ｎｍ以下および２００ｎｍ以下、たとえば１９３ｎｍおよび１５７ｎｍを含む短波長イメージングに適した新規フォトレジストの提供。
【解決手段】本発明のフォトレジストは、フォト酸レイビル基を有する樹脂、１以上のフォト酸発生化合物、および接着促進添加化合物を含む。本発明のフォトレジストは、ＳｉＯＮおよび他の無機表面層に対して著しい接着性を示すことができる。 （もっと読む）

【課題】屈折性とアッベ数がともに高い成形体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する含硫黄環状構造含有ポリマーを用いる。


（Ｒ¹〜Ｒ⁴は水素原子、アルキル基、あるいは酸素原子または硫黄原子を含有する置換基を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁴のいずれかひとつが硫黄を環構成原子のひとつとする含硫黄環構造を含有する置換基であるか、Ｒ¹〜Ｒ⁴が互いに結合して硫黄を環構成原子のひとつとする含硫黄環構造を形成しているかの、いずれかである。ｍは０または１を表す。） （もっと読む）

【課題】１７０nm以下の波長の光に対する透過率に優れ、特にＦ₂ エキシマレーザーリソグラフィに適したレジスト組成物を提供する。
【解決手段】バインダー樹脂及び感放射線化合物を含有し、該バインダー樹脂が、それ自身アルカリ可溶性であるか又は放射線照射後の該感放射線化合物の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式（Ｉ）


（式中、Ｑは水素又はメチルを表し、Ｒ¹は少なくとも１個のフッ素で置換された水酸基を有する炭素数１〜１４のフルオロアルキルを表す。）で示されるモノマーから導かれる重合単位を有するバインダー樹脂である化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）