【課題】１７０nm以下の波長の光に対する透過率に優れ、特にＦ₂ エキシマレーザーリソグラフィに適したレジスト組成物を提供する。
【解決手段】バインダー樹脂及び感放射線化合物を含有し、該バインダー樹脂が、それ自身アルカリ可溶性であるか又は放射線照射後の該感放射線化合物の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式（Ｉ）


（式中、Ｑは水素又はメチルを表し、Ｒ¹は少なくとも１個のフッ素で置換された水酸基を有する炭素数１〜１４のフルオロアルキルを表す。）で示されるモノマーから導かれる重合単位を有するバインダー樹脂である化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、低吸水性、電気絶縁特性に優れたノルボルネン系共重合体を提供する。
【解決手段】一般式（１）等


（式中、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキル基を表わし、Ｒ²、はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表わす。）で示されるモノマーユニットを含み、数平均分子量（Ｍｎ）が３００，０００〜２，０００，０００である、極性基を有するノルボルネン化合物の高分子量の付加共重合体、及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】実用可能な感度を有していて、膨潤のない微細なネガ型レジストパターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】レジスト組成物が、下記の反応成分：
（１）アルカリ可溶性の重合体からなる基材樹脂、
（２）結像用放射線を吸収して分解し、酸を発生可能な光酸発生剤、及び
（３）前記光酸発生剤から発生せしめられた酸の存在下、前記基材樹脂の重合体と脱水結合反応を行い得る反応部位を有している脂環族系アルコール、
を組み合わせて含んでなるように構成する。 （もっと読む）

【課題】配向性、耐熱性、成形加工性に優れた架橋性液晶フィルムの作成に必要である新規なオキセタン誘導体とそれを用いて得られる架橋可能な液晶性高分子を提供する。
【解決手段】
式（１）で表される化合物。


但し、式（１）中、Ｒ_１は水素またはメチル基を表し、Ｒ₂は水素、メチル基またはエチル基を表し、Ｌ_１およびＬ_２はそれぞれ個別に単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−のいずれかを表し、Ｍは式（２）、式（３）または式（４）を表し、ｎは同一でも異なってもよくそれぞれ０〜１０の整数を示す。
−Ｐ_１−Ｌ_３−Ｐ_２−Ｌ_４−Ｐ_３− （２）
−Ｐ_１−Ｌ_３−Ｐ_３− （３）
−Ｐ_３− （４）
（上記Ｐ_１〜Ｐ_３はフェニレン基その他の基から選ばれる基を表し、Ｌ_３およびＬ_４はそれぞれ個別に単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−を表す。） （もっと読む）

【課題】低損失絶縁材として多様な応用が可能なノルボルネン系重合体及びこれを用いた絶縁材を提供する。
【解決手段】ノルボルネンの５−位又は６−位に少なくとも一つの下記の群から選択される置換基を有し、


（ここで、Ｒ_５、Ｒ_６、及びＲ_７はそれぞれ独立に水素、Ｃ１−Ｃ６のアルキル基、脂環式基で置換されたＣ１−Ｃ６のアルキル基、置換または非置換のＣ２−Ｃ６のアルケニル基、及び置換または非置換のＣ７−Ｃ３１のアラルキル基からなる群より選択され、ＬはＣ１−Ｃ３のアルキレン基である。）付加重合による繰り返し単位の少なくとも１種を５０〜５００個含むノルボルネン系重合体。 （もっと読む）

【課題】マトリクス樹脂に対する混合、分散性に優れ、マトリクス樹脂中で凝集を起こさず、しかも従来の線状高分子からなる剥離剤と比べて、該組成物の成形加工工程における混合・成形機械や金型への離型性、或いはフィルム等の他の樹脂成形品に対する剥離性等に優れる内部剥離剤を提供すること。
【解決手段】分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡを、該モノマーＡ １モルに対して５モル％ないし２００モル％の量の重合開始剤Ｂの存在下で重合させることで得られる高分岐ポリマーからなる内部剥離剤並びに該内部剥離剤を含有する樹脂組成物、それから得られる樹脂成形品。 （もっと読む）

【課題】効率良くかつ簡便に製造できる新規ノルボルネンの提供。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｂ¹〜Ｂ³は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシル基から選ばれる基を示し、、ｍは０又は１の整数を示す。）
で表される化合物。 （もっと読む）

【課題】工業的生産が容易であり、優れた気体透過性、熱安定性、機械強度を持つ環状オレフィン付加重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）の化合物、又は式（１）の化合物と式（２）の化合物とを、触媒（Ａ）と助触媒（Ｂ）を用いて付加重合して得られ、式（１）由来の構造単位の割合が重合体中３５〜１００モル％であり、Ｍｎが２十万〜１００万である環状オレフィン付加重合体。
〔触媒（Ａ）〕
式（３）で表される遷移金属錯体。
ＭＬ_nＫ¹_xＫ²_yＫ³_z （３）
（ＭはＮｉ又はＰｄ、Ｌはシクロペンタジエニル系配位子。Ｋ¹、Ｋ²、Ｋ³は陰性配位子又は中性配位子。ｎは１〜３、ｘ、ｙ、ｚは０〜７、ｘ＋ｙ＋ｚは０〜７。）
〔助触媒（Ｂ）〕
（ａ）有機Ａｌ化合物、（ｂ）触媒（Ａ）と反応してカチオン性遷移金属化合物を生成できるイオン性化合物、（ｃ）触媒（Ａ）の配位子の解離を促進する化合物。 （もっと読む）

本発明は、光反応性ノルボルネン系単量体を含む光反応性ノルボルネン系重合体、その製造方法及びこれを利用した配向膜に関する。前記光反応性ノルボルネン系重合体は、ハロゲン系、特にフッ素系置換基を有する光反応性作用基を含んでおり、配向膜内の組成斜面を与え、配向速度、配向性、及び接着性を向上させることができる。
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【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するためのパターン形成において欠陥を著しく低減できる有機溶剤を含有する現像液を用いたパターン形成方法及びその方法に用いるリンス液。
【解決手段】酸の作用により極性が増大し、有機溶剤を含有する現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有する有機溶剤系現像用レジスト組成物によりレジスト膜を形成する工程、露光工程、有機溶剤を含有する現像液を用いた現像工程、並びに、溶剤Ｓ１及びＳ２の少なくともいずれかを含有するリンス液を用いた洗浄工程（Ｓ１：分岐及び環状構造の少なくもいずれかを含むアルキル鎖を有し、該アルキル鎖における２級又は３級炭素原子が水酸基と結合している、炭素数が少なくとも５であるアルコール、Ｓ２：炭素数が少なくとも５であるアルキル基及び炭素数が少なくとも５であるシクロアルキル基の少なくともいずれかを有するジアルキルエーテル）を用いるパターン形成方法及び該リンス液。 （もっと読む）

【課題】高屈折性、低分散性（高アッベ数）、耐熱性を有する光学材料用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】波長５８９ｎｍにおける屈折率ｎＤが１．３７以上であり、アッベ数νＤがνＤ≧６３およびνＤ≧４３０−２５０×ｎＤを満たし、ガラス転移温度が１００℃以上である光学材料用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】光酸発生剤、この光酸発生剤を含む共重合体、この共重合体を含む化学増幅型レジスト組成物およびこの化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】共重合体の主鎖には光酸発生剤が連結している。これにより、光酸発生剤をレジスト膜内に均一に分散させることができ、レジストパターンのラインエッジ照度特性などを向上させることができる。 （もっと読む）

【解決手段】(Ａ)一般式(１)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物、(Ｂ)ラクトン環及び／又は水酸基及び／又は無水マレイン酸由来の骨格を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、(Ｃ)高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、(Ｄ)有機溶剤を含有するレジスト材料。


【効果】本発明のレジスト材料は、波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、樹脂構造の選択により液浸リソグラフィーにおける各種性能の調整が可能で、入手及び取り扱いが容易な原料からの製造が可能である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、接着力、厚さ精度、高さ均一性に優れ、かつ、段差埋め込み性に優れた樹脂組成物および該樹脂組成物を用いて作製した平坦性、機械強度に優れる半導体装置を提供することにある。
【解決手段】 （Ａ）環状オレフィンの重合体またはその水素添加物および（Ｂ）下記一般式（１）で示される構造を有する化合物を含むことを特徴とする樹脂組成物、および該該樹脂組成物を用いて作製したことを特徴とする半導体装置である。
【化１】
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【課題】 透明性、耐熱性、靭性に優れ、かつモノマー転化率が高く、分子量分布の広い環状オレフィン／α−オレフィン付加共重合体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】 環状オレフィン（Ａ）単量体単位、炭素数５以上のα−オレフィン（Ｂ）単量体単位をハロゲン系有機溶剤中、重合温度６０℃以上、周期表第４族遷移金属化合物の共存下で共重合することによって、少ない触媒量でもモノマー転化率が高く、単峰性でかつ１．５以上４以下の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を持ち、耐熱性、透明性及び機械物性を有する環状オレフィン／α−オレフィン付加共重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】剥離層材料、それを含む基板構造およびその作製方法を提供する。
【解決手段】特定の構造を有する、フレキシブル電子デバイスに適用される環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）の剥離層材料。及び、キャリア１２、１つまたはそれ以上のブロックでキャリアを第１の面積で覆う、特定の構造を有する環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）を含む剥離層１４、ならびに、剥離層およびキャリアを第２の面積で覆うフレキシブル基板１６、を含み、第２の面積は第１の面積より大きく、かつフレキシブル基板１６は、剥離層１４のキャリア１２に対する密着度よりも高い密着度を有する基板構造１０。 （もっと読む）

【課題】水の後退角が大きいレジスト膜を与えることが可能な重合体、及び、これを配合したフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】１分子内に少なくとも２個のトリフルオロメチル基と、式（１）で表される１価の不飽和環状基と、水酸基とを有する単量体に由来する構造単位を含有する重合体。酸の作用によりアルカリ可溶性に変化するフォトレジスト樹脂、酸発生剤、及び、前記重合体を含有するフォトレジスト組成物。


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【解決手段】（Ａ）式（１）の繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。


【効果】本発明により、環状アセタール構造を有する新規高分子添加剤を用いたレジスト材料が提供される。この高分子材料は撥水性、滑水性、脂溶性、酸分解性、加水分解性など各種性能の調整が可能である。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）で表される環状アセタール構造を有する含フッ素単量体。


（Ｒは、水素原子の一部がハロゲン原子で置換されていてもよく、又は、メチレン基の一部が酸素原子又はカルボニル基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、Ｚは、両端で結合するアルキレンオキシ基と共に五員環又は六員環を形成し、重合性不飽和基を含む二価の有機基）
【効果】本発明により、光機能性材料、コーティング材料等の原料として有用な、環状アセタール構造を有する新規含フッ素単量体が提供される。中でも、該単量体を用いた重合体は波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、また優れた撥水性を有すると共に構造の選択により撥水性、脂溶性、酸分解性、加水分解性など各種性能の調整が可能である。 （もっと読む）

【課題】十分な感度を有すると共に、高い透過率の塗膜又はパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】バインダー樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有し、光重合開始剤（Ｃ）が、アセトフェノン骨格を含有する化合物（Ｃ１）と、少なくとも２個のチオール基を有する化合物（Ｃ２）とを含んでなる光重合開始剤である、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）