【課題】軟化温度が高く、高温条件で使用した場合においても機械的強度が保持されうる重合体からなる固体高分子形燃料電池用の電解質材料を提供する。
【解決手段】ラジカル重合反応性を有する含フッ素モノマーに基づく繰り返し単位を含むポリマーからなり、該繰り返し単位は、式（Ａ）で表され（Ｑ^ａ＝炭素鎖長１〜６のペルフルオロアルキレン基、Ｒ^ａ１〜Ｒ^ａ５＝ペルフルオロアルキル基又はフッ素原子、ａ＝０〜１、Ｒ^ｆ＝ペルフルオロアルキル基、Ｘ＝酸素原子等、Ｘが酸素原子の場合ｇ＝０）、ポリマーの軟化温度が１２０℃以上である固体高分子形燃料電池用電解質材料。
［化１］
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【課題】軟化温度が高く、かつ、酸素透過性及びプロトン伝導性に優れた高分子電解質及びその製造方法、このような高分子電解質の原料として使用することが可能なイミドモノマ、並びに、このような高分子電解質を用いた電池を提供すること。
【解決手段】高分子の主鎖又は側鎖に、脂環式１，３−ジスルホンイミドを有する含フッ素構造を備えた高分子電解質及びこれを用いた電池。重合反応又は重合反応＋フッ素化反応により、高分子の主鎖又は側鎖に脂環式１，３−ジスルホンイミドを有する含フッ素構造を導入可能なイミドモノマ。重合反応又は重合反応＋フッ素化反応により、高分子の主鎖又は側鎖に脂環式１，３−ジスルホンイミドを有する含フッ素構造を導入可能な１種又は２種以上のイミドモノマを含む原料を重合させる重合工程を備えた高分子電解質の製造方法。 （もっと読む）

【課題】軟化温度が高く、かつ、酸素透過性及びプロトン伝導性に優れた高酸素透過電解質及びその製造方法、並びに、このような高酸素透過電解質の原料として使用することが可能なスルホンイミドモノマを提供する。
【解決手段】（Ａ）式で表される構造を備えた高酸素透過電解質。但し、Ｐは脂環式構造を備えたパーフルオロカーボン。Ｐ'は脂環式構造、又は、脂環式構造及び鎖式構造を備えたパーフルオロカーボン。Ｑは、直接結合、又は、鎖式構造若しくは脂環式構造を備えたパーフルオロカーボン。ａは、１以上の整数。ｎは、１以上の整数であり、繰り返し単位の中のｎは互いに異なっていても良い。Ｒ¹は、ＯＨ又はスルホンイミド基を介したパーフルオロカーボン基（−ＮＨＳＯ₂Ｒf¹）。
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【課題】新規なフッ素化化合物及びフッ素化ポリマーの製造方法を提供すること。
【解決手段】２−クロロ−２，２−ジフロロエタン−１，１−ジオールと、下記式（３）で表される化合物の少なくとも１種との反応によって製造される、下記式（４）で表されるフッ素化化合物の製造方法。式（３）中、Ｘは水酸基、フッ素原子、又は臭素原子を表す。
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微粉タイプの真正のテトラフルオロエチレン(TFE)コポリマーが提供され、そのコポリマーは、少なくとも1.0質量パーセント又は1.0質量パーセント超の濃度で、TFE以外の少なくとも１つの他のコモノマーの重合コモノマーのユニットとを含有し、そして、5.0質量パーセント超でもよく、そのコポリマーは延伸性であり、すなわち、そのコポリマーは延伸されてよく、その結果、頑強であって、有用である延伸TFEコポリマー物品を作り出し、その物品はフィブリルによって相互連結されるノードの微細構造を有する。延伸性コポリマーから作製された物品は、テープ、膜、フイルム、ファイバー等を含んでよく、医療デバイスを含めた、様々な最終用途に適切である。
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式（Ｉ）
Ｒ_fＣＨ₂ＯＣＦ（ＣＦ₃）Ｃ（Ｏ）ＯＭ （Ｉ）
を有するフルオロ界面活性剤と開始剤とを含む水性媒質中で少なくとも１つのフッ素化モノマーを重合するステップを含む方法において、式中Ｒ_fは、２〜５個の炭素原子を有する線状または分岐ペルフルオロアルキル基であり、ＭはＨ、ＮＨ₄、Ｌｉ、ＮａまたはＫである、方法。 （もっと読む）

【課題】製造効率が良好で、使用化合物の選択範囲の広い修飾擬ポリロタキサンおよび修飾ポリロタキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】修飾シクロデキストリンの環状分子の穴部に軸分子を貫通させ包接錯体を形成させる反応により修飾擬ポリロタキサンを製造し、次いで得られた修飾擬ポリロタキサンの軸分子とキャッピング剤とを反応させて、前記軸分子の両末端にブロック基を付加する修飾ポリロタキサンの製造方法において、前記包接錯体を形成させる反応の溶媒に、有機溶媒を用いる。 （もっと読む）

【課題】高い重合反応性を有するフルオロスルホニル基含有化合物の製造方法の提供。
【解決手段】例えば下記化合物（３−１０）をフッ素化した後、液相熱分解反応を行うことにより下記化合物（５−１０）の製造方法。


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【課題】−ＳＯ_２Ｆ基の含有比率が高く、かつ高分子量であるパーフルオロカーボン重合体を効率良く得ることが可能なパーフルオロカーボン重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）の液状モノマー（Ａ）と、ＴＦＥを含む原料モノマーを、式（２）の開始剤（Ｘ）を逐次的に添加して２５〜４５℃の重合温度で重合させる。CF₂=CF(OCF₂CFX^１)_ｋ-O_ｌ-(CF₂)_ｍ-(CF₂CFX^２)_ｎ-SO₂F（１）（ただし、式（１）において、X^１、X^２はフッ素原子又はトリフルオロメチル基であり、互いに同一であっても異なっていてもよい。また、ｋは０〜３の整数であり、ｌは０又は１であり、ｍは０〜１２の整数であり、ｎは０〜３の整数である。）[CF₃CF₂CF₂O(CF(CF₃)CF₂O)_pCF(CF₃)COO]₂（２）（ただし、式（２）において、ｐは０〜８の整数である。） （もっと読む）

少なくとも１つのフルオロ界面活性剤が分散剤として用いられる非弾性フルオロポリマーの製造のための乳化重合法であって、前記フルオロ界面活性剤が式Ｘ−Ｒｆ−（ＣＨ₂）_n−Ｏ−Ｐ（Ｏ）（ＯＭ）₂（式中、ｎは１または２であり、Ｘ＝ＨまたはＦであり、Ｍ＝一価のカチオンであり、ＲｆはＣ₄〜Ｃ₆フルオロアルキルまたはフルオロアルコキシ基である）のフルオロアルキルリン酸エステルである乳化重合法が開示される。任意選択的に、第２の分散剤が重合に用いられてもよく、前記第２の分散剤は、カルボン酸、その塩、スルホン酸およびその塩、リン酸およびその塩からなる群から選択される少なくとも１つの末端基を有するパーフルオロポリエーテルである。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、１９３ｎｍ以下、特に１５７ｎｍ用であって、このような短波長でも高透明性であるばかりでなく、例えば優れたプラズマエッチング耐性および接着性を含むその他鍵となる特性をも有する別の新規なレジスト組成物の提供である。
【解決手段】本発明は、フッ素含有コポリマーであって、（ｉ）エチレン性不飽和炭素原子に共有結合している少なくとも１個のフッ素原子を含む少なくとも１個のエチレン性不飽和化合物から誘導された反復単位と、（ｉｉ）ＣＨ₂＝ＣＨＯ₂ＣＲ¹⁵、ＣＨ₂＝ＣＨＯＣＨ₂Ｒ¹⁵およびＣＨ₂＝ＣＨＯＲ¹⁵からなる群から誘導された反復単位であり、式中、Ｒ¹⁵は、炭素原子が約４個から約２０個の飽和アルキル基であり、炭素原子対水素原子の比が０．５８より大きいかまたは同じであるという条件付きで、１個または複数のエーテル酸素を任意で含有している反復単位と、を含むことを特徴とするフッ素含有コポリマーに関する。 （もっと読む）

微粉タイプの真性テトラフルオロエチレン(TFE)コポリマーの重合方法が提供され、そのコポリマーは、少なくとも1.0質量パーセント又は1.0質量パーセント超の濃度で、TFE以外の少なくとも１つのコモノマーの重合コモノマーユニットを含有する。そしてその重合コモノマーユニットの濃度は5.0質量パーセントを超えてもよい。そのコポリマーは延伸可能であり、すなわち、そのコポリマーは、フィブリルによって相互連結されるノードの微細構造を有する、強くて、有用である延伸TFEコポリマー物品を生産するために延伸されてよい。
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【課題】高い重合反応性を有しかつフルオロスルホニル基を複数有するフルオロスルホニル基含有モノマーを提供する。また、このモノマーを使用して得られる、フルオロスルホニル基含有ポリマーおよびスルホン酸基含有ポリマーを提供する。
【解決手段】２つのフルオロスルホニル基を有するパーフルオロ（２−メチレン−１，３−ジオキソラン）誘導体、その製造方法およびその合成中間体。この化合物を単独でまたはコモノマーと重合して得られるフルオロスルホニル基含有ポリマー、および該ポリマーのフルオロスルホニル基を加水分解して得られるスルホン酸基含有ポリマー。 （もっと読む）

【課題】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト保護膜およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】イマージョン液が非水系液状媒体であるイマージョンリソグラフィー法に用いられるレジスト保護膜用のアルカリ溶解性のレジスト保護膜用材料であって、重合体状含フッ素化合物（Ｆ）を含みデカリンに対する後退角が４０°以上であるレジスト保護膜用材料、前記イマージョンリソグラフィー法によるレジストパターンの形成方法であって、感光性レジストを基板上に塗布して基板上にレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜上に前記レジスト保護膜用材料を含むレジスト保護膜形成組成物を塗布してレジスト膜上にレジスト保護膜を形成する工程、イマージョンリソグラフィー工程、および、現像工程をこの順に行う、基板上にレジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】異物の少ない重合体粉末を得ることができる重合体粉末の製造方法、異物の少ない重合体粉末およびレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体が分散媒に分散した分散液をろ過して重合体湿粉を製造する工程と、減圧乾燥装置５０を用いて重合体湿粉を乾燥させる工程とを有し、前記減圧乾燥装置５０内に気体を流入させる際、孔径が０．１〜１．０μｍのフィルター５２を通過した気体を流入させる重合体粉末の製造方法。 （もっと読む）

【課題】目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体の分散液をろ過して重合体湿粉を製造する工程と、該重合体湿粉を容器５２に入れて乾燥させる工程とを有し、容器５２として、容器浸漬後の水の電気伝導度（Ｘ）と容器浸漬前の水の電気伝導度（Ｙ）との差（Ｘ−Ｙ）が、１．８μＳ／ｃｍ以下であるものを用いる重合体の製造方法。ただし、容器浸漬前の水としては、電気伝導度が０．５μＳ／ｃｍ以下である純水を用い、容器浸漬後の水の電気伝導度（Ｘ）は、容器の内面積１ｍ² あたり２０Ｌの純水に容器を浸漬し、浸漬開始から１５分後に容器を浸漬した状態で測定した水の電気伝導度とする。 （もっと読む）

【課題】従来以上に優れたキラル識別能力と高い加溶媒分解耐性を兼ね備えたキラルな高分子化合物、及び、従来以上に分離能が高く耐久性に優れた光学異性体分離用クロマト充填剤を提供する。
【解決手段】
下記の構造式１で表されるキラルな高分子化合物。円偏光二色性スペクトル吸収のモル楕円率最大値の絶対値が、溶液試料の測定において１０００ｄｅｇ・ｃｍ^２・ｄｍｏｌ^−１以上である点が特徴。


式中のＡｒは芳香環、Ｒ_１及びＲ_２は水素原子又は有機基、Ｒ_３及びＲ_４は水素原子又は有機基（Ｒ_３とＲ_４が同時に水素原子となることはない）、ｎは２以上の整数、−Ｘ−は−（ＣＨ_２）ｑ−，芳香族基、ビニル基、ヘテロ原子又はヘテロ原子を含む基、ｑは０以上の整数である。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造に於いて、露光ラチィチュード、ＰＥＢ温度依存性改良、プロファイル改良、スカム低減について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される環構造を主鎖に有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
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【課題】新規な含フッ素エポキシ化合物、その製造方法、ペルフルオロ（２−メチレン−１，３−ジオキソラン）構造とフルオロスルホニル基とを有する化合物の製造方法、およびペルフルオロ（１，３−ジオキソール）構造とフルオロスルホニル基とを有する化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】下式（ａ１）で表される化合物、下式（ｂ１）で表される化合物を酸化させる該化合物の製造方法、下式（ａ）で表される化合物を用いた下式（ｍ）で表される化合物の製造方法および下式（ａ）で表される化合物を用いた下式（ｐ）で表される化合物の製造方法（ただし、Ｑ^Ｆ１は単結合または炭素数１〜１０のペルフルオロアルキレン基を、Ｑ^Ｆは単結合またはペルフルオロ２価有機基を、示す。）。
【化１】


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【課題】新規な、ペルフルオロ（２−アルキリデン−１，３−ジオキソラン）構造を有する化合物およびペルフルオロ（２−アルコキシメチレン−１，３−ジオキソラン）構造を有する化合物、ならびに、これらの化合物が重合したモノマー単位を含む新規な含フッ素重合体を提供する。
【解決手段】下式（ａ）で表される化合物、および該化合物が重合したモノマー単位を含む含フッ素重合体。ただし、Ｙ^Ｆは、炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基または炭素数１〜３のペルフルオロアルコキシ基である。Ｒ^Ｆ１、Ｒ^Ｆ２、Ｒ^Ｆ３およびＲ^Ｆ４は、それぞれ独立に、フッ素原子、フルオロスルホニル基または式−Ｑ^ＦＸで表される基である。Ｑ^Ｆは、炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基または炭素数２〜６のペルフルオロ（アルキレンオキシアルキレン）基である。Ｘは、フッ素原子またはフルオロスルホニル基である。
【化１】
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