【課題】本発明の目的は、液浸露光プロセスにおいて、露光時には大きい動的接触角を示すことにより、レジスト膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト膜を形成可能なフォトレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］酸解離性基を有する重合体、［Ｂ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有し、フッ素原子を含む重合体、［Ｃ］酸発生体、及び［Ｄ］溶媒を含有するフォトレジスト組成物である。Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基である。但し、Ｒ^４とＲ^５とが互いに結合して、これらが結合している炭素原子と共に炭素数３〜２０の環構造を形成してもよい。
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【課題】孔径について現像時間依存性を低く抑えながら、真円性に優れる微細な孔径（例えば、６０ｎｍ以下）のホールパターンを形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ｐ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）窒素原子を有し、かつ活性光線又は放射線の照射により変化しない塩基性化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全固形分に対する前記化合物（Ｃ）の含有量が１．０質量％以上であり、かつ前記化合物（Ｃ）の前記化合物（Ｂ）に対するモル比率［Ｃ］／［Ｂ］が０．４０以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】フルオロポリマーの製造に好適な新規組成物、及び、この組成物を使用したフルオロポリマー水性分散液を製造するための新規な製造方法を提供する。
【解決手段】炭素数が１０〜２０の全フッ素化飽和炭化水素、及び、含フッ素界面活性剤を含むことを特徴とする組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性等の基本特性のみならず、ＭＥＥＦ、ＤＯＦ等を指標としたリソグラフィー性能に優れ、より良好な断面形状のパターンを形成することができるフォトレジスト組成物、及びこの組成物を用いたネガ型のレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）フォトレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、（２）上記レジスト膜に露光する工程、及び（３）上記露光されたレジスト膜を、有機溶媒含有現像液を用いて現像する工程を含むネガ型のレジストパターン形成方法であって、上記フォトレジスト組成物が、［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有する。
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【課題】本発明の目的は、感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ、ＤＯＦ、ＬＷＲ等のリソグラフィー性能に優れ、さらには現像欠陥を抑制することができるフォトレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、［Ｂ］酸発生体、及び［Ｃ］界面活性剤を含有するフォトレジスト組成物である。また［Ｃ］界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤であることが好ましい。さらに［Ｃ］界面活性剤は、フッ素原子又はケイ素原子を含むノニオン系界面活性剤であることが好ましい。
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【課題】組成物の保存時におけるパーティクル発生の抑制能に優れ、且つ、経時による線幅変動が抑制されたパターン形成を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びこの組成物の製造方法を提供することにある。更に、本発明の目的は、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する第１樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤として少なくともアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、該組成物中に溶存する酸素の濃度と窒素の濃度の合計が０．１８０μｇ／μｌ以下である組成物。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｘ、ＹはＣＨ又は窒素原子、ｍは１又は２、Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０又は１である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】耐光性や耐熱性及び形状保持性にも優れた成形体を短時間で形成することができる樹脂組成物の提供。
【解決手段】該組成物は、脂肪族（メタ）アクリレート系オリゴマー（Ａ）と、（メタ）アクリレート系モノマー（Ｂ）及び／又はα−メチレンラクトン構造を有するモノマー（Ｃ）とを含み、モノマー（Ｃ）は、下記一般式（１）；[化１]


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、同一若しくは異なって、水素原子、炭素数が１〜２０のアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ^５基、又は、−Ｃ−Ｏ−Ｒ^６基を表す。Ａｃ基はアセチル基を表す。）で表されるモノマーである成形用アクリル樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】重合に続くポリマー回収に際して、ポリマー中の残存モノマー量が少なく、且つポリマー回収時間、貧溶媒使用量及び生産性を考慮した効率的な回収方法を提供する。
【解決手段】ポリマーに対する貧溶媒が添加された完全混合槽中に、ポリマーを溶媒に溶解したポリマー溶液を、内径が２ｍｍ以下の滴下チューブを使用して供給すると共に、該完全混合槽中に貧溶媒を供給して、ポリマーを沈殿させてポリマーのスラリーを形成するスラリー形成工程と、該ポリマーのスラリーを、完全混合槽から連続的に排出させるスラリー排出工程とを有するポリマーの回収方法。 （もっと読む）

【課題】増強された抗菌効力を維持し得る医療デバイス、パッケージ材料および布を提供すること。
【解決手段】本開示は、ヒドロキサメートと組み合わせたフラノンを有するコポリマーを含む組成物、このようなコポリマーまたは組成物で形成またはコーティングされた物品、ならびにこのような組成物および物品を作製する方法を提供する。１つの実施形態において、本開示は、少なくとも１つのビニル基を有する少なくとも１種のリン脂質を含む第一の成分、ビニル基および／またはアクリレート基を有するフラノンを含む第二の成分、ならびにヒドロキサメートを含む第三の成分を含む、組成物を提供する。上記成分のコポリマーおよびブレンドを含む組成物、医療デバイス、およびコーティングもまた提供される。 （もっと読む）

【課題】重合速度及び重合性の低下を抑制し、工業的な重合体の製造原料として好適に用いることができるメチレンラクトン単量体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）；[化１]


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、同一又は異なって、水素原子、又は、１価の有機基を表す。）で表されるメチレンラクトン単量体であって、該メチレンラクトン単量体は、溶存酸素量が０．０２ｍｇ／Ｌ以上で、重合禁止剤を共存させた溶液であり、メチレンラクトン単量体に実質的に作用する重合禁止剤量のメチレンラクトン単量体の質量に対する割合として表される重合禁止剤濃度が、０．１質量％以下であるメチレンラクトン単量体。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度及びドライエッチング耐性といったレジスト性能、有機溶媒に対する溶解性に優れ、ラインエッジラフネスが少ないレジスト組成物用樹脂を提供する。
【解決手段】下記式（７）等で表される構成単位を１種以上含む（共）重合体。
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【課題】ラインウィズスラフネスが小さいパターンを得られるとともに、露光ラチチュードが広いパターンを形成することができるポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する繰り返し単位を少なくとも２種含有し、該２種の繰り返し単位は酸分解性基の反応活性化エネルギーが互いに異なり、該反応活性化エネルギーの差が４０．０ｋＪ／ｍｏｌ以下である樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物を提供する。
【解決手段】 少なくともカルボキシル基の水素原子が下記一般式（２）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、パターン形成方法、及び、このような高分子化合物を得るための新規重合性化合物。
【化８４】
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【課題】耐熱性および透明性に優れたメチルメタクリレート系共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】特定のラクトン化合物とメタクリル酸メチルと不活性溶媒と開始剤と連鎖移動剤とを、反応槽に連続的に供給して塊状重合法にて重合を行う工程と、反応槽から反応混合物を連続的に取り出して揮発物除去工程に供給する工程と、反応混合物から揮発物を連続的に分離除去する工程を有するメチルメタクリレート系共重合体の製造方法において、不活性溶媒として特定の溶解性パラメーター（ＳＰ値）を持つものを用い、ラクトン化合物とメタクリル酸メチルと不活性溶媒（Ｆ）の配合比を特定の範囲とし、重合反応域における反応混合物中の単量体転化率を５０〜９０質量％とする。 （もっと読む）

【課題】プラスチック光ファイバの芯材に好適な透明性および耐熱性に優れた共重合体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるラクトン化合物（Ａ）由来の三量体化合物、四量体化合物、五量体化合物および六量体化合物の合計含有量が、ガスクロマトグラフィによる面積比率で０．５％以下であるラクトン化合物（Ａ）の精製物と、（メタ）アクリル酸エステル（Ｂ）単量体を質量比（Ａ／Ｂ）が５／９５〜５０／５０の範囲で含む単量体混合物を重合する重合工程と、この重合工程で得られた重合体組成物中の揮発物を分離除去する揮発物除去工程を有する、（メタ）アクリレート系共重合体の製造方法。
【化１】
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【課題】
＜１＞粘度が低く取り扱い性、作業性に優れた硬化性組成物であり、
＜２＞硬化後の成形物または塗膜の硬度が高く、傷つきにくい硬化物であり、
＜３＞収縮性が小さく、例えば成型品の歪精度が良好、または基材へ塗布した際には積層体の反りやカールが少ない、
＜４＞硬化物の耐熱性が高く、
＜５＞硬化物の樹脂成分の透明性に優れた
硬化製組成物および硬化物を提供することにある。
【解決手段】
（ａ）１分子中に２つ以上の不飽和重合性官能基を有する化合物、
（ｂ）α‐メチレンラクトン構造を有する単量体
を含む硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、靱性に優れると共に、光学等方性に優れ、かつ高温多湿等の外部環境の変化に対する耐久性に優れた光学等方性アクリル樹脂フィルムを提供する。
【解決手段】（ｉ）ラクトン環含有単量体単位を含有する熱可塑性共重合体を含有し、下記（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を満たすことを特徴とする光学等方性アクリル樹脂フィルム。（ａ）ガラス転移温度が１２０℃以上。（ｂ）引張り破断伸度が１０％以上。（ｃ）面内位相差（Ｒｅ）の絶対値が１０ｎｍ以下、かつ厚み位相差（Ｒｔｈ）の絶対値が１０ｎｍ以下。 （もっと読む）

【課題】微細パターン（特に線幅１００ｎｍ以下）の形成においても、ラインエッジラフネスが改良されたレジスト組成物を調製することができる、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を重合によって製造する方法であって、溶媒として、特定の、スルホン構造を有する化合物を用いる樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性および透明性に優れたメチルメタクリレート系共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】特定のラクトン化合物と、メタクリル酸メチルと、アゾ系化合物及びパーオキサイド系化合物から選ばれる開始剤と、連鎖移動剤とを、反応槽に連続的に供給して塊状重合法にて重合を行う重合工程と、反応槽から反応混合物を連続的に取り出して揮発物除去工程に供給する工程と、反応混合物から揮発物を連続的に分離除去する工程を有するメチルメタクリレート系共重合体の製造方法において、ラクトン化合物とメタクリル酸メチルとを特定の比率で配合し、ラクトン化合物として特定の比率の（Ｒ）体と（Ｓ）体からなる混合物を用い、特定の重合温度において、反応槽中の平均滞留時間θと開始剤の半減期時間τの比（θ／τ）と、開始剤濃度Ｃとが特定の関係を満たし、重合反応域における反応混合物の重合体含有率を３０〜６０質量％とする。 （もっと読む）