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Fターム[4J100BA40]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 構成元素 (28,779) | N含有基 (5,481) | −CN基 (732)

Fターム[4J100BA40]に分類される特許

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【課題】線幅バラツキに優れたパターンを形成できるとともに、露光ラチテュード及び、感度に優れたパターン形成方法及びこれに用いる化学増幅レジスト組成物を提供する。
【解決手段】(A)樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、下記一般式(I)又は(II)で表される化合物、(C)架橋剤、及び、(D)溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の膜を露光し、有機溶剤を含む現像液を用いて現像するパターン形成方法。


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【課題】パターン形状とラフネス特性との双方に優れたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、下記一般式(1)により表される繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が2.38質量%未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。
【化1】
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【課題】ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる構造部位(S1)と、アルカリ現像液の作用によりアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位(S2)とを備えた繰り返し単位を含んだ樹脂、
(B)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、及び、
(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィプロセスにおいて使用されうる感放射線性ポリマーおよび組成物が提供される。このポリマーおよび組成物は活性化放射線に対して向上した感受性を提供する。
【解決手段】第1の形態に従って、ポリマーが提供される。ポリマーはポリマー骨格およびポリマー骨格に共有結合したモノマー系光酸発生剤を含む。光酸発生剤は、重合性スルホナートアニオンを有するスルホニウム塩またはヨードニウム塩の1種以上に由来する。 (もっと読む)


【課題】孤立パターンの形成においても、高感度、高解像性、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する樹脂(P)を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。
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【課題】特に露光光源として電子線、X線またはEUV光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位(A)と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する、少なくとも2種の繰り返し単位(B1)および(B2)を含有する樹脂(P)を含む感活性光線性または感放射線性樹脂組成物において、繰り返し単位(B1)で発生するアルカリ可溶性基と、繰り返し単位(B2)で発生するアルカリ可溶性基とが異なることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位と酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた繰り返し単位とを含んだ感活性光線性又は感放射線性樹脂を高純度で製造可能とする技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂の製造方法は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた第1単量体と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた第2単量体とを含んだ反応系を、塩基性化合物の存在下で重合させることを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し得る高分子化合物であって、下記一般式(2)(式中、R1は炭素数20以下の脂肪族環式基であり、nは0または1〜5の整数を表し、R2は水素原子、フッ素原子又は炭素数20以下の低級アルキル基又は炭素数20以下のフッ素化低級アルキル基を表す。)で示される化合物から誘導される構成単位(a1)と、ラクトン含有単環または多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)と、を含有することを特徴とする高分子化合物。
[化1]
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【課題】従来の添加剤と比較して改善された潤滑油及びバイオディーゼル燃料の流動特性を低温で達成できる添加剤を提供することである。
【解決手段】本発明は、ATRP法によって得られるコポリマー、これらのコポリマーを含有する濃縮物及び潤滑油、これらのコポリマーの製造方法により、この課題は解決できた。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ、露光により酸を発生する基材成分(A’)を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分(A’)が、一般式(a0−1)で表される構成単位(a0−1)と、露光により酸を発生する構成単位(a0−2)と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有する樹脂成分(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物[式中、Rは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基または炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基であり、Rは2価の連結基であり、Rは、その環骨格中に−SO−を含む環式基である。]

[化1]
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【課題】優れた解像度及び露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物に由来する構造単位及び式(II)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。


[式中、R及びR31は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基;Xは複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、炭化水素基等で置換されていてもよい;Tは骨格に−SO−を含む複素環基を表し、該複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基等で置換されていてもよい;複素環基に含まれる−CH−は−CO−、−O−等で置き換わっていてもよい。] (もっと読む)


【課題】感度及び解像力が高く、線幅バラツキ(LWR)が小さく、露光ラチチュード(EL)及びパターン形状に優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。
【解決手段】(ア)(A)2個以上の水酸基を有する繰り返し単位を有する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)架橋剤、及び(D)溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜。 (もっと読む)


【課題】優れた露光マージン及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)及び式(II)で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。[R及びR31は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいC1−6アルキル基を表す。Zは、単結合又は*−[CH2s3−CO−L−基を表す。L、L、L及びLは、それぞれ独立に、−O−又は−S−を表す。Z2は、2価のC1−17飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−CH−は、−CO−、−O−、−S−又は−N(R32)−で置き換わっていてもよい。Tは、骨格に−SO−を含む複素環基を表す。]
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【課題】優れた露光マージン及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物に由来する繰り返し単位及び式(II)で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。[R及びR31は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいC1−6アルキル基を表す。Zは、単結合又は*−[CH2s3−CO−L−基を表す。L、L、L及びLは、それぞれ独立に、−O−又は−S−を表す。Tは、骨格に−SO−を含む複素環基を表す。]
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【課題】金属塩および金属イオンを本質的に含有しない高純度ハロゲン化ポリマーを製造する方法を提供する。
【解決手段】1種または複数種のハロゲン化モノマーおよび少なくとも1種類の硬化部位モノマーの重合単位からなるポリマーを凝集固化する際に、金属イオンおよび金属塩を本質的に含まずに、凝集剤としてオニウム化合物を使用する製造方法。かかる材料は、高純度フルオロポリマーを適用する半導体分野において、有用である。 (もっと読む)


【課題】露光ラチチュード(EL)と、線幅バラツキ(LWR)又はCD(クリティカルディメンジョン)均一性(CDU)とに優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該レジスト組成物により形成されたレジスト膜を提供する。
【解決手段】 (ア)(A)非芳香族環状有機基を有する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)架橋剤、を含む化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び、(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該レジスト組成物により形成されたレジスト膜。 (もっと読む)


【課題】感度、解像度、ドライエッチング耐性、ラインエッジラフネスに優れるレジスト組成物の樹脂原料を提供する。
【解決手段】β−シアンヒドリン類縁体を原料とした(メタ)アクリル酸エステル及び重合体。


(R1はアルキル基を有していてもよい炭素数4〜16の環式炭化水素基を有する炭素数1〜6のアルキル基を示し、R2は、炭素数1〜6のアルキル基を示す。あるいは、R1とR2は結合している炭素原子とともにアルキル基を有していてもよい炭素数4〜16の環式炭化水素基を形成する。ここで前記アルキル基、環式炭化水素基は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のアシル基、または、炭素数1〜6のアルコールとエステル化されたカルボキシ基で置換されていてもよい。アルキル基は直鎖状でも分岐状でもよい。) (もっと読む)


【課題】現像性が良好で且つポストベーク後の表面レチキュレーションの発生を抑制し得る着色感光性樹脂組成物及びパターン形成方法、並びに、表面レチキュレーションがなく、線幅感度、直線性及び耐熱性に優れた着色パターンを有するカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び表示装置を提供する。
【解決手段】着色剤、バインダー樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、及び溶剤を含有し、前記着色剤の含有量が着色感光性樹脂組成物の固形分に対し質量分率で15質量%〜60質量%であり、前記バインダー樹脂が分子内に、アリル基を有する構造単位、N位−置換マレイミド基を有する構造単位、及び環状イミド基を有する構造単位から選択される構造単位と、酸性基を有する構造単位とを有し、前記重合性化合物がカルボキシル基含有多官能性単量体であり、前記光重合開始剤がロフィン系光重合開始剤又はオキシム系光重合開始剤である着色感光性樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】 高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、フォーカス余裕度(DOF)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 感活性光線または感放射線樹脂組成物を基板上に塗布して膜を形成する工程、マスクを介して該膜を選択的に露光する工程、及び有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含むパターン形成方法であり、該感活性光線または感放射線樹脂組成物が、(A)酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射によりフッ素原子を含有する酸を発生する光酸発生剤、および(C)溶剤を含有してなり、光酸発生剤(B)の含有率が、該組成物の全固形分を基準として8〜20質量%であるパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であり、更にパーティクル抑制、パターン形状、バブル欠陥抑制の諸性能も良好なレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂(A)、及び、少なくとも2つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位(c)を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂(C)を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


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