【課題】転がり抵抗と耐摩耗性が高いレベルでバランスした空気入りタイヤを与える、カーボンブラック含有ゴム組成物、及びそれを含む空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】（Ａ）燃焼ガス生成帯域と、反応帯域と、反応停止帯域と連設されてなる反応装置を用い、前記燃焼ガス生成帯域内で高温燃焼ガスを生成させ、次いで前記反応帯域にて、多段急冷媒体導入手段により、該反応ガス流を急冷して、反応を終結させることにより得られた特定の性状を有するゴム配合用カーボンブラックと、（Ｂ）天然ゴム分子のリン脂質を加水分解した後、極性基含有化合物を付加又は縮合して天然ゴム分子に極性基を導入した変性天然ゴムを含むゴム成分とを、特定の割合で含有するゴム組成物、及び該ゴム組成物を用いてなる空気入りタイヤである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、上記実情に鑑みて、工業的なスケールで適用でき、親水性有機溶媒やポリマー合成時に発生した親水性の反応副生成物などの親水性化合物などの除去性が高く、ポリマーの回収率も高く、塗布液としても使用可能なポリマー溶液の製造方法、及びポリマーの精製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】一般式（Ａ）で表されるユニット及び一般式（Ｂ）で表されるユニットを含有するポリマーと、炭素数とＯＨ基数との比（炭素数／ＯＨ基数）が４〜７のアルコールとを含有するポリマー溶液の製造方法であって、
前記ポリマーを溶解し、前記アルコールと相溶する有機溶媒と、前記ポリマーとを含むポリマー溶液Ａに、前記アルコールを加えて、ポリマー溶液Ｂを得る添加工程と、
前記ポリマー溶液Ｂに水を用いた抽出処理を施す抽出工程とを備える、とを備える、ポリマー溶液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 塗布欠陥、塗布膜厚均一性、ＰＥＢＳ性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含む樹脂（Ｐ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、前記溶剤として、下記Ｘ群およびＹ群に列挙された溶剤のうち少なくとも１種を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（Ｘ群）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、乳酸アルキルエステル類、アルコキシ酢酸アルキル類、アルコキシプロピオン酸アルキル類、ピルビン酸アルキル類、酢酸アルキルエステル；
（Ｙ群）環状ラクトン類、アルキレンカーボネート類。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングプロセスにおいて、２回目以降のパターニングの影響を受けにくいレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法、及びこれに用いる樹脂の精製方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、樹脂（Ａ１）と有機溶剤（Ｓ１）とを含有する第一のレジスト材料を用いて第一のレジストパターンを形成する工程と、前記第一のレジストパターンが形成された前記支持体上に、樹脂（Ａ２）と、該樹脂（Ａ２）を溶解し且つ前記樹脂（Ａ１）を溶解しない有機溶剤（Ｓ２）とを含有する第二のレジスト材料を用いてレジストパターンを形成する工程とを含むレジストパターン形成方法であって、前記樹脂（Ａ１）を、該樹脂（Ａ１）を溶解せず且つ前記樹脂（Ａ２）を溶解する有機溶剤（Ｗ）を含有する洗浄液で洗浄することにより精製して前記第一のレジスト材料に配合することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】転がり抵抗と耐摩耗性が高いレベルでバランスしたタイヤを提供する。
【解決手段】燃焼ガス生成帯域内で高温燃焼ガスを生成させ、次いで反応帯域に原料を噴霧導入してカーボンブラックを含む反応ガス流を形成させたのち、反応停止帯域にて、多段急冷媒体導入手段により、該反応ガス流を急冷して、反応を終結させることにより得られたゴム配合用カーボンブラックを含み、かつゴム成分として、天然ゴムを酸化した後、極性基含有ヒドラジド化合物を天然ゴムの分子鎖の末端に付加させてなる変性天然ゴムを特定の割合で含むゴム組成物であって、（１）前記ゴム配合用カーボンブラックが、下記の関係式、（１）１０＜Ｘ＜４０、および（２）９０＜Ｚ＜１００を満足する。Ｘは原料導入位置から、第１番目の急冷媒体導入後のカーボンブラックのトルエン着色透過度（％）を示し、Ｚは最後の急冷媒体導入後のカーボンブラックのトルエン着色透過度（％）を示す。 （もっと読む）

【課題】高いΔｎを示す重合性液晶の提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合性化合物である。式中、Ｐ¹及びＰ²は、重合性基；ｍ１及びｍ２は、１〜１０の整数；Ａは、５〜１８員環の芳香族炭化水素環又は５〜１８員環の芳香族複素環を含む２価基；Ｌ³及びＬ⁴はそれぞれ、炭素原子数１〜１０のアルキル基、又は炭素原子数１〜１０のアルコキシ基；ｋ１及びｋ２はそれぞれ、０〜４の整数；Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴はそれぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ−、又は−ＳｉＲ⁰Ｒ⁰⁰−；ｎ１及びｎ２はそれぞれ、０又は１を表し、但し少なくとも一方は１であり、Ｌ^1a、Ｌ^1b、Ｌ^2a及びＬ^2bはそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、又は−ＯＣＮを表し、但し、ｎ１が１で且つＬ^1a及びＬ^1bの双方が水素原子であり、及びｎ２が１で且つＬ^2a及びＬ^2bの双方が水素原子の時、並びにｎ１が１で且つＬ^1a及びＬ^1bの双方が水素原子であり、及びｎ２が０の時に限り、Ｘ²及びＸ³の双方が−Ｏ−で表される化合物、並びにＸ²及びＸ³の一方が−Ｏ−であり且つ他方が−ＮＨ−又は−ＮＲ−で表される化合物を除く。
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【課題】高いΔｎを示す重合性液晶の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物である。Ｒ⁰及びＲ¹はそれぞれ、水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基；Ｌ⁰及びＬ¹はそれぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基；Ａ⁰及びＡ¹はそれぞれ、５〜１２員の環状構造を有する２価基；Ｂ⁰及びＢ¹はそれぞれ、単結合、又は環状構造を有する２価の基；Ｄ⁰及びＤ¹はそれぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＮＲ²−；Ｘ⁰及びＸ¹はそれぞれ、水素原子、アシル基、又はシアノ基；Ｙ⁰及びＹ¹はそれぞれ、単結合、又は所定の二価基；Ｑ⁰及びＱ¹はそれぞれ炭素数１〜２０の２価の脂肪族基；Ｚ⁰及びＺ¹はそれぞれ、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、又は重合性の基を表し；ｎ及びｍはそれぞれ独立して、０〜２の整数を表す。
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【課題】現像欠陥性能、液浸欠陥性能、及び限界解像力に優れ、且つ良好な形状を有したパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた第１繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、疎水性樹脂とを含有している。 （もっと読む）

【課題】高いΔｎ及び高い耐光性を示す重合性液晶化合物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物である。Ｒ⁰及びＲ¹はそれぞれ独立して、水素原子、又は置換基を有してもよい炭素数１〜４のアルキル基を表し、但し、Ｒ⁰及びＲ¹の少なくとも一方は、置換基を有してもよい炭素数１〜４のアルキル基を表し；Ａ⁰、Ａ¹、Ｂ⁰及びＢ¹はそれぞれ独立して、単結合、又は置換基を有していてもよい環状構造を有する２価の基を表し；Ｘ⁰、Ｘ¹、Ｙ⁰及びＹ¹はそれぞれ独立して、単結合、又は所定の二価の基を表し；Ｑ⁰及びＱ¹はそれぞれ独立して、単結合、もしくは置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の２価の脂肪族基を表し；Ｚ⁰及びＺ¹はそれぞれ独立して、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、又は重合性の基を表し、Ｚ⁰、Ｚ¹の少なくともどちらか一方は、重合性の基を表し；ｎ及びｍはそれぞれ独立して、０から２の整数を表す。
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【課題】エッチング耐性及びＰＥＤに対する安定性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含んだ樹脂と、活性光線又は放射線の照射によりｐＫａ≧−１．５の酸を発生する化合物とを含有している。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性等の安定性、親水性及び溶媒に対する溶解性に優れる高機能性高分子化合物の提供。
【解決手段】高分子化合物は、下記式（I-2）


［Ｘ²はメチレン基、酸素原子又は硫黄原子を、n1は１又は２を示す。］で表されるモノマー単位等を有する。 （もっと読む）

【課題】ラフネス特性、露光ラチチュード（Exposure Latitude）、及び現像欠陥性能の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）と、酸の作用により脱離する基を備え且つ下記一般式（Ｃ−Ｉ）より表される化合物、又は、酸の作用により脱離する基を備え且つ前記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物の複数が連結基を介して結合された構造を有する化合物とを含有している。
【化１】
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【課題】露光ラチチュード、フォーカス余裕度及びパターン形状の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）と、下記一般式（１）乃至（５）の何れかにより表される化合物（Ｑ）とを含有している。
【化１】
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【課題】経時安定性、現像欠陥性能、及びラフネス特性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤とを含有し、カールフィッシャー法により測定された水分含有率が１．０質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】通常のドライプロセスに加え、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した、ＤＯＦ、パターン倒れ、及び疎密依存性が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のラクトン構造を有する繰り返し単位と、特定のスルホンアミド構造を有する繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有している。 （もっと読む）

【課題】低温での処理においても耐薬品性に優れた硬化されたパターンを製造することができる。また、この硬化されたパターンの製造方法を利用することにより、耐熱性の低い基板等を用いても、高品質の表示装置等を得ることが可能となる。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂、シロキサン化合物、感光物質及び溶剤を含む感光性樹脂組成物を基板に塗布して塗膜を得る工程と、塗膜を加熱及び減圧からなる群から選ばれる少なくとも１種の方法により乾燥する工程と、乾燥した塗膜をフォトマスクを介して露光する工程と、露光した塗膜を５０℃以上１５０℃以下で加熱する工程と、加熱した塗膜を現像してパターンを得る工程と、パターンを５０℃以上１５０℃以下で加熱して硬化されたパターンを得る工程とを含み、溶剤が、ヒドロキシ基含有溶剤を溶剤全量に対して５０質量％より多く含む溶剤である硬化されたパターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造の特にコンタクトホールパターン形成において、現像欠陥を充分に低減できるとともに、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）特定構造を有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）２つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂感光性組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）と、波長１９３ｎｍにおけるモル吸光係数が５５０００以下であり且つ活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｑ）とを含有している。 （もっと読む）

【課題】保存安定性について実用レベルを損なうことなく、優れた感度を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、特には電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いてなるレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含む樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


式中、
Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルコキシカルボニル基を表す。
Ｌ_１は、単結合又は２価の連結基を表し、
Ｌ_２は、電子求引性基を有する、アルキレン基又はアリーレン基を表し、
Ｌ_１又はＬ_２は、Ｒ_３と結合して５員若しくは６員環を形成していても良い。
Ａｒは、芳香族基を表す。 （もっと読む）