【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】本発明の有機薄膜トランジスタゲート絶縁層材料は、フッ素原子を含む基を有する繰り返し単位と、光二量化反応性基を有する繰り返し単位と、電磁波もしくは熱の作用により、活性水素と反応する第２の官能基を生成する第１の官能基を有する繰り返し単位とを、有する高分子化合物（Ａ）、及び活性水素化合物（Ｂ）を含有する。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基；Ａ^１は、単結合、脂肪族炭化水素基等；Ａ^２は炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基；環Ｗ^１は炭素数４〜３６の脂肪族環；環Ｗ^２は、炭素数４〜１８のラクトン環；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基；Ｙは置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた耐光性と、樹脂との高い相溶性を有し、樹脂に添加した場合に長期の光曝露による樹脂の劣化と、それ自体のブリードアウトを効果的に抑制することができる紫外線吸収剤として有用な重合体を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される単量体に由来する構造単位を有することを特徴とする重合体。


［Ｒ^１ａ〜Ｒ^１ｐの少なくとも１つは、重合性基を有する。］ （もっと読む）

【課題】現像欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、および該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）疎水性樹脂を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、疎水性樹脂（Ｃ）が、下記一般式（１）で表される単量体に由来する繰り返し単位を含むことを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（式中の各記号は、特許請求の範囲に記載の意味を表す。）
【化１】
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【課題】 パーフルオロエラストマーを調製するための硬化性フルオロエラストマー組成物。
【解決手段】 組成物には、（１）過酸化物硬化反応に関与することができるハロゲンおよび／またはニトリル基から選択された１つ以上の硬化部位を有するパーフルオロポリマーと、（２）有機過酸化物および／または前記ニトリル基を通じてパーフルオロポリマーを硬化することができる化合物と、（３）任意にポリ不飽和架橋助剤と、が含まれる。組成物中のパーフルオロポリマーは、本質的にイオン性末端基を有さず、組成物中の金属陽イオンの総量は、１０μｇ／ｇパーフルオロポリマー以下である。このパーフルオロエラストマーは、金属陽イオンの量が十分に少ない組成物を硬化し、フルオロエラストマーを半導体産業で用いるのに適するようにすることで得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、芳香環およびラクトン構造を有する繰り返し単位（Ｃ）を含む樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ブリッジ前寸法等の解像力、ＤＯＦに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用により分解してアミド基又はチオアミド基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できる有機溶剤系現像液を用いたパターン形成方法及び該方法で用いられるリンス液を提供すること。
【解決方法】（ア）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、及び（エ）有機溶剤を含み、かつ比重が前記現像液より大きいリンス液を用いてリンスを行う工程を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 金属含有量を低減させた含フッ素エラストマーを含む組成物からなる成形品を提供する。
【解決手段】 金属含有量が５０ｐｐｍ以下の含フッ素エラストマーを含む組成物から得られ、金属含有量が５０ｐｐｍ以下である成形品。この成形品は半導体製造装置用のシール材などに有用である。 （もっと読む）

【課題】本発明の第一の目的は、水溶液による現像が可能で、優れた現像性を示し、かつ、高温高湿環境下に曝されてもその表面上に形成されるめっき膜（金属膜）と高密着性を示す被めっき層を形成し得る被めっき層形成用組成物を提供することにある。
【解決手段】式（Ａ）で表されるユニット、および、式（Ｂ）で表されるユニットを少なくとも有するポリマー、を含有する被めっき層形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率異方性と優れた青色レーザー耐光性を有し、膜厚むらおよび配向乱れが抑制された共重合体と光学素子、およびそれらを得るための新規な化合物を提供する。
【解決手段】
新規なビニルエーテル化合物は下式で表される。
CH₂=CH-O-(CH₂)_m-R-(CH₂)_n-O-w¹-(E¹)_h-w²-(E²)_j-(E³)_k-E⁴-R¹………（１）
式中、Ｒはアルキレン基、ポリフルオロアルキレン基等、Ｒ^１はアルキル基、シアノ基等、Ｅ^１は１，４−フェニレン基、Ｅ^２、Ｅ^３、Ｅ^４は１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、またはトランス−２，６−デカヒドロナフタレニル基、
ｗ^１，ｗ^２はカルボニル基または単結合を示す。 （もっと読む）

【課題】 感度及びラフネス特性に優れた半導体用レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る半導体用レジスト組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される化合物を含有している。
【化１】
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【課題】感度、ラフネス特性、孤立パターンの解像性及びドライエッチング耐性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位（Ｂ）とを備えた樹脂を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。


一般式（Ｉ）中、ＡＲは、アリール基を表す。Ｒｎは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。ＲｎとＡＲとは互いに結合して非芳香族環を形成してもよい。
Ｒ_１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。 （もっと読む）

【課題】高温高湿下で優れた電気絶縁性を有し、かつ長期間の信頼性に優れたアクリル系エラストマー及びこれを用いたアクリル系エラストマー組成物を提供する。
【解決手段】構造単位として、少なくとも下記一般式（I）、炭素数１−１０の炭化水素基を有するアクリル系エステルモノマー、及び特定の官能基を有するアクリル系モノマーの３種を含むアクリル系エラストマー。


（Ｘは、炭素数５〜２２の脂環式炭化水素を含む置換基を示す。Ｒ１は水素又はメチル基を示す。） （もっと読む）

【課題】ネガティブトーン現像によるフォトリソグラフィパターン形成に有用なフォトレジスト組成物の提供、及び、ネガティブトーン現像プロセスによってフォトリソグラフィパターンを形成する方法、並びに当該フォトレジスト組成物でコーティングされた基体の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）の酸感受性である第１のポリマー；


光酸発生剤；並びに溶媒：を含むフォトレジスト組成物。当該組成物、方法およびコーティングされた基体は半導体デバイスの製造に特に適用可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、屈折率異方性等の光学的性質を変化させることなく、耐熱性や強度に優れた光学部材を形成するために用いることができる重合性化合物を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、Ｐ−Ｘ−Ｍ−Ｘ−Ｐ（ここで、Ｍはコア部であり、Ｐは重合性基を含む末端部であり、Ｘは結合基である。）で表され、４官能以上であり、直鎖のみのアルキル鎖が比較的短い重合性化合物を提供することにより、上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を含む化合物（Ａ）と、−ＳＯ_２−を含む環式基を有し、かつ酸解離性溶解抑制基を有さない化合物（Ｈ）とを含有し、化合物（Ａ）及び化合物（Ｈ）以外に酸発生剤成分を含有しないポジ型レジスト組成物；化合物（Ｈ）は、一般式（３−１）で表される基を含有する化合物であることが好ましい［式中、Ａ’は酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい炭素数１〜５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり、ａは０〜２の整数であり、Ｒ^８はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である］。
［化１］
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【課題】光反応性重合体およびこの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、より迅速な光反応速度および優れた配向性を示す光反応性重合体、この製造方法およびこれを含む配向膜に関する。前記光反応性重合体は、アゾ系官能基が含まれている特定の繰り返し単位を全体の重合体中に５０モル％以上の含量で含むものである。 （もっと読む）

【課題】高湿高温の条件で保管した場合の耐性（耐湿熱性）に優れた光学フィルム、及び、該光学フィルムの作製に好適な組成物を提供する。
【解決手段】本発明の組成物は、式（Ａ）で表される化合物、酸化防止剤及び光重合開始剤を含むことを特徴とする。


［式（Ａ）中、Ｘ¹は、−Ｓ−等を表す。Ｙ¹は、芳香族炭化水素基等を表す。Ｑ¹及びＱ²は、水素原子等を表す。Ｄ¹及びＤ²は、−ＣＯ−Ｏ−等を表す。Ｇ¹及びＧ²は、脂環式炭化水素基等を表す。Ｌ¹及びＬ²は、１価の有機基等を表す。］ （もっと読む）

【課題】ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含み、繰り返し単位（Ａ）の含有率が樹脂中の全繰り返し単位に対し、３０ｍｏｌ％以上である樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）