【課題】ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含み、繰り返し単位（Ａ）の含有率が樹脂中の全繰り返し単位に対し、３０ｍｏｌ％以上である樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含み、繰り返し単位（Ａ）の含有率が樹脂中の全繰り返し単位に対し、３０ｍｏｌ％以上である樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項２】
前記構造部位（Ｓ２）は、ラクトン構造を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項３】
前記構造部位（Ｓ１）は、前記ラクトン構造を構成しているエステル基に隣接した２つの炭素原子の少なくとも一方に結合していることを特徴とする請求項２に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項４】
前記樹脂（Ｐ）が、更に、繰り返し単位（Ａ）とは異なる、アルカリ現像液の作用で分解しアルカリ現像液中への溶解速度が増大する基を有する繰り返し単位（Ｃ）及び水酸基又はシアノ基で置換された脂環炭化水素構造を有する繰り返し単位（Ｄ）から選択される少なくとも１種の繰り返し単位、を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項５】
前記繰り返し単位（Ｃ）が、ラクトン構造を含んでいることを特徴とする請求項４に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項６】
前記繰り返し単位（Ａ）は、下記一般式（１）により表される構造を備えていることを特徴とする請求項1〜５のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【化１】

式中、
Ｒ_３は、ｋ≧２の場合には各々独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。ｋ≧２の場合、前記Ｒ_３の少なくとも２つが互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｘは、アルキレン基、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｙは、ｍ≧２の場合には各々独立に、前記構造単位（Ｓ１）を表す。
ｋは、０〜５の整数を表す。
ｍは、ｍ＋ｋ≦６なる関係を満たす１〜５の整数を表す。
【請求項７】
更に、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを含む樹脂を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて形成された感活性光線性又は感放射線性膜。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成すること、該膜を露光すること、露光した膜を現像することを含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項１０】
前記露光が液浸露光である請求項９に記載のパターン形成方法。

【公開番号】特開２０１２−１３８３５（Ｐ２０１２−１３８３５Ａ）
【公開日】平成２４年１月１９日（２０１２．１．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１４８９０２（Ｐ２０１０−１４８９０２）
【出願日】平成２２年６月３０日（２０１０．６．３０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】