【課題】現像欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、および該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）疎水性樹脂を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、疎水性樹脂（Ｃ）が、下記一般式（１）で表される単量体に由来する繰り返し単位を含むことを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（式中の各記号は、特許請求の範囲に記載の意味を表す。）
【化１】

【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）疎水性樹脂を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、
疎水性樹脂（Ｃ）が、下記一般式（１）で表される単量体に由来する繰り返し単位を含むことを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【化１】

式（１）中
Ｒ_１は、ｍ＝２の場合は各々独立に、水素原子、フッ素原子または有機官能基を表す。
Ｒ_２は、ｎ＝２の場合は各々独立に、水素原子、フッ素化されていてもよいアルキル基、フッ素化されていてもよいシクロアルキル基、又はフッ素化されていてもよいアリール基を表す。
Ｒ_３は、酸素原子または単結合を表す。
Ｒｆは、ｍ＝２の場合は各々独立に、フッ素化されていてもよいアルキレン基、フッ素化されていてもよいシクロアルキレン基、フッ素化されていてもよいアリーレン基を表す。
Ａは、スチレン性二重結合を有する有機官能基を表す。
Ｂは、単結合、フッ素化されていてもよいアルキレン基、フッ素化されていてもよいシクロアルキレン基、またはスルホニル基を表す。ここで、前記アルキレン基は、炭素原子の一部が酸素原子で置き換えられていてもよい。
ｍは、Ｂが単結合またはアルキレン基であるとき１又は２を表し、Ｂがスルホニル基であるとき０〜２の整数を表す。
ｎは、０〜２の整数であり、ｎ＝２−ｍの関係を満たす。
【請求項２】
疎水性樹脂（Ｃ）の含有率が、前記組成物中の全固形分に対し、０．０１〜２０質量％の範囲である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
疎水性樹脂（Ｃ）が、更に、アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基を有する繰り返し単位を含む請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
疎水性樹脂（Ｃ）が、更に、下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位を含む請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【化２】

式中、
Ｒ_１は、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表す。
Ａｒ^１は、芳香環を表す。
Ｒ_２は、ｘ≧２の場合には各々独立に、置換基を表す。
Ｚは、単結合又は２価の連結基を表す。
ｘは、０以上の整数を表す。
ｙは、１以上の整数を表す。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載の組成物を用いて膜を形成すること、前記膜を露光すること、および、露光した膜を現像することを含むパターン形成方法。
【請求項７】
前記露光は液浸液を介して行われる請求項９に記載の方法。

【図１】

【公開番号】特開２０１２−７３５０８（Ｐ２０１２−７３５０８Ａ）
【公開日】平成２４年４月１２日（２０１２．４．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２１９５１５（Ｐ２０１０−２１９５１５）
【出願日】平成２２年９月２９日（２０１０．９．２９）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】