【課題】露光感度が高く優れ、現像欠陥が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される化合物、及び（Ｂ）樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


上記一般式（Ｉ）中、Ｘは、酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（Ｒｘ）−を表す。Ｒ_１〜Ｒ_８及びＲｘは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリールカルボニルオキシ基を表す。Ｒ_１〜Ｒ_８はそれぞれ互いに連結して環を形成していても良い。但し、Ｒ_１〜Ｒ_８のうち、少なくとも２つが下記一般式（ＩＩ）で表される構造を表す。
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【課題】高感度、良好なラフネス特性、良好なパターン形状、及び現像欠陥の低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】フッ素原子を含有する繰り返し単位を含む樹脂（Ａａ）と、酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂であって、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位（Ｂ）を含む樹脂（Ａｂ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、通常露光（ドライ露光）によるパターニングにおいて、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、プロファイル形状、パターン倒れ、露光ラチチュード性能に優れ、液浸露光によるパターニングにも優れたポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）エステル結合が窒素原子に結合した構造を有するアミン化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤現像時のパターン部の意図しない溶解に起因する解像性及び矩形性の低下を防ぎ、ドライエッチング耐性に優れ、特にＫｒＦ露光に好適なパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰返し単位を有する樹脂（Ａ）、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）、及び溶剤（Ｃ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型パターンを形成する工程を有するパターン形成方法であって、樹脂（Ａ）中の全繰返し単位に対して、下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位の含有量が２０モル％未満で、かつ一般式（Ｉ）以外の非フェノール系芳香族基を有する繰返し単位を有する、パターン形成方法。
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【課題】組成物の保存時におけるパーティクル発生の抑制能に優れ、且つ、経時による線幅変動が抑制されたパターン形成を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びこの組成物の製造方法を提供することにある。更に、本発明の目的は、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する第１樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤として少なくともアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、該組成物中に溶存する酸素の濃度と窒素の濃度の合計が０．１８０μｇ／μｌ以下である組成物。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好であり、あるいはマスクエラーファクター（ＭＥＦ）に優れ、欠陥の発生数が少ないレジストパターンを製造できるレジスト組成物などを提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び溶剤を含有するレジスト組成物。


［式（ａ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基；Ａ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基又は式（ａ−ｇ１）；ｓは０又は１；Ａ¹⁰及びＡ¹²は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基；Ａ¹¹は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は単結合；Ｘ¹⁰及びＸ¹¹は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基；ただし、Ａ¹⁰、Ａ¹¹、Ａ¹²、Ｘ¹⁰及びＸ¹¹の合計炭素数は６以下；Ｒ^２は置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性及び混練加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】（Ａ）ムーニー粘度（ＭＬ）：４０〜４９、（Ｂ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：３．０〜３．９及び（Ｃ）ムーニー粘度の速度依存性指数：２．３〜３．０の要件を満足し、かつシス含量が９５質量％以上のハイシスポリブタジエンと、共役ジエンに基づく構成単位及びケイ素原子上に炭素数が１から６の置換基を有しても良いアミノ基、水酸基ヒドロカルビル基から選ばれるビニルシラン化合物から誘導される構成単位を有し、下式（ＩＩ）で表される基を有する化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体と、シリカとを含有するゴム組成物に関する。
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【課題】被処理液中の重金属の濃度が低く、カルシウムイオンが存在していても、重金属を効率よく捕捉可能で、回収率を向上することができる水処理剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）に示す部分構造を有する重合体を含有する水処理剤。
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【課題】生産性が高く、ガラス転移温度の均一性に優れ、変性率が高く、粘弾性特性が良好で、ビニル結合量が高い変性共役ジエン系共重合体が得られる、変性共役ジエン系共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】共役ジエン系単量体とビニル芳香族単量体とを、有機リチウム化合物開始剤を用いて共重合させる重合工程と、前記重合工程により得られる共役ジエン系共重合体に、官能基含有化合物を反応させる変性工程と、を有し、 前記重合工程において、下記化合物（１）、（２）をモル比で（２）／（１）＝０．０１以上０．１未満とし、かつモル比で（２）／有機リチウム化合物＝０．０２〜０．２として共存させる変性共役ジエン系共重合体の製造方法。
（１）酸素原子を２個以上有し、少なくとも１個の酸素原子が環状エーテル構造を構成するエーテル系化合物。
（２）ナトリウムアルコキシド。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、重合性液晶組成物の硬化性の改善による生産性及び信頼性の向上、プレチルト角の安定性向上等の表示特性を改善した液晶表示素子を提供することであり、硬化速度が速く、液晶相温度範囲が広くかつ耐熱性が高い、偏向板、位相差板等の用途に有用な光学異方体を提供することである。
【解決手段】 一般式（I）
【化１】


で表わされる重合性化合物を提供し、併せて当該重合性化合物を含有する液晶組成物及び当該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】めっき後に細線乃至小ドットの金属パターンを高解像度で形成できる金属パターン材料及び金属パターン材料の製造方法の提供。
【解決手段】特定のめっき形成用光感応材料を６μｍ未満のピッチで露光する際に、６μｍピッチ露光時の最適パワーに対し、１００％未満であり、かつ〔（ピッチ（μｍ）×７５／６＋２５）−３０〕〜〔（ピッチ（μｍ）×７５／６＋２５）＋１５〕％のレーザーパワーで露光する露光工程と、露光後のめっき形成用光感応材料を現像液で現像する現像工程と、現像後のパターンが形成されためっき形成用光感応材料を、めっき浴比が１０未満でめっきを行うめっき工程とを含む金属パターン材料の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】屈折率が向上して反射防止膜としての効果に優れ、コーティング膜の親水性と疏水性を調節することにより、レジストとの互換性に優れた有機反射防止膜用共重合体、単量体、及びそれを含む有機反射防止膜組成物を提供する。
【解決手段】本発明による有機反射防止膜用共重合体、単量体、及びそれを含む有機反射防止膜組成物は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含むことを特徴とする。
【化１】



（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ａ、ｍ及びｎに関する定義は発明の詳細な説明に記載した通りである。） （もっと読む）

【課題】シアノエチル化置換率が高く、高い誘電率を示す２−シアノエチル基含有有機化合物の製造法を提供する。
【解決手段】アクリロニトリルと水酸基含有有機化合物とのマイケル付加反応による２−シアノエチル基含有有機化合物を製造する方法であって、第４級アンモニウム塩を触媒とすることを特徴とする２−シアノエチル基含有有機化合物の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れが少ないレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、環Ｔ^１は置換基を有していてもよいスルトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】パターン倒れが少ないレジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１はスルトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】高感度で、良好な形状のパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により極性が増大する構成を有する（メタ）アクリル酸エステル単位と、−ＳＯ_２−含有環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル単位及び、一般式（ａ５−１）で表される（メタ）アクリル酸エステル単位とを有する高分子化合物（Ａ１）、及び露光により酸を発生する成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】本発明の目的は、基材や下地などとの密着性が良好であり、表面硬度、耐熱性および耐酸性が高く、かつ透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い感光性樹脂組成物と、それを用いたタッチパネル用絶縁膜を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、多官能単量体（Ｃ）と、を含有する感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が一般式（１）で表される化合物（ａ１）と、化合物（ａ１）と共重合可能な他の化合物（ａ２）とを共重合してなる樹脂（Ａ１）を含み、多官能単量体（Ｃ）が、１分子中に７個以上のエチレン性不飽和二重結合を有することを特徴とする感光性樹脂組成物によって解決される。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、大きな屈折率異方性を有し、重合性液晶組成物を構成した場合に高い保存安定性と高い配向性を有する重合性化合物及び当該重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を提供することである。更に、当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。
【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される重合性化合物を提供し、当該化合物を構成部材とする重合性液晶組成物、更に、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【化１】
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【課題】微細なパターンの形成においてもＣＤＵ等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］γ−ブチロラクトン環を含む構造単位を有するアダマンチル基及びアダマンタン環を含む酸解離性基含有重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有するフォトレジスト組成物であって、上記構造単位の含有割合が６０モル％を超えることを特徴とするフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 本願発明の目的は、光学異方体の材料として供される重合性液晶組成物において、紫外線照射による重合と加熱による重合を併用したパターン化膜作製の際に、ひび割れの無い良好な膜が得られる材料を提供することにある。
【解決手段】 重合性液晶化合物、光重合開始剤、及び熱重合開始剤を含有する重合性液晶組成物において、該熱重合開始剤の１０時間半減温度が７０℃以上９３℃以下であることを特徴とする重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物を硬化させた光学異方体を提供する。 （もっと読む）