【課題】得られるパターンの解像性が良好なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】フェノール性水酸基を含むモノマーに由来する構造単位を含む樹脂と、式（Ｉ）で表される酸発生剤と、式（ＩＩ）で表される化合物及び式（ＩＩＩ）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物と、を含むレジスト組成物。［Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。］
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【解決手段】(I)酸でアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位及びラクトン構造含有繰り返し単位を有する高分子化合物をベース樹脂として含むポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第1レジスト膜を形成し露光、アルカリ現像して短辺が200nm以上のポジパターンである大面積パターンを含む第1レジストパターンを形成する工程、
(II)第1レジストパターン上に共役酸pKaが4以上の塩基性含窒素化合物を有するレジスト変性用組成物を塗布し、加熱して第1レジストパターンの変性処理を行う工程、
(III)その上に第2ポジ型レジスト材料を塗布し露光、アルカリ現像して第2レジストパターンを形成する工程
を含む多重パターン形成方法であり、第2レジストパターン形成後の第1レジストパターン中の大面積パターン残膜率が50%以上のパターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト変性用組成物を用いたダブルパターニングプロセスにおいて、有効なアライメントマークの形成が可能。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される構造を備えた樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含んでいる。
【化１】
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【課題】リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できる、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに当該レジスト組成物用として有用な含窒素高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ０）［式中、Ｒ^２１は水素原子又は有機基である。Ｒ^２７はアルキレン基、２価の脂肪族環式基又は２価の芳香族炭化水素基である。Ｒ^２８はアルキル基、１価の脂肪族環式基又は１価の芳香族炭化水素基である。ただし、Ｒ^２７とＲ^２８とは相互に結合して式中のＮ−Ｃ（＝Ｏ）と共に環を形成している。］で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する含窒素高分子化合物を含有するレジスト組成物。
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【課題】 ＬＷＲ、現像欠陥及びＤＯＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）下記一般式（１）で表される構造を含む繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）プロトンアクセプター性官能基を有し、且つ、活性光線又は放射線の照射により分解してプロトンアクセプター性が低下、消失、又はプロトンアクセプター性から酸性に変化した化合物を発生する化合物（ＰＡ）、及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（一般式（１）中の各符号は、本明細書及び特許請求の範囲に記載の意味を表す。）
【化１】
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【課題】 本願発明の目的は、二軸性フィルム用の材料として供される重合性液晶組成物において、紫外線照射時に不活性ガスで雰囲気を置換することなく、空気中で硬化が可能であり、得られた正面位相差の熱安定性に優れる二軸位相差フィルムを実現できる材料を提供することにある。
【解決手段】 本願発明は、重合性液晶化合物、キラル化合物、光吸収剤及び光重合開始剤を含有する重合性液晶組成物において、重合性液晶化合物として、2つの6員環を有する単官能重合性液晶化合物及び光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール化合物を含有し、光吸収剤の光吸収帯が波長280〜400nmであり、キラルネマチック相を示す重合性液晶組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】ベーストレッドに、変性共役ジエン系重合体とカーボンブラックとを含むゴム組成物を用いてなるタイヤであって、耐亀裂成長性と低発熱性の両方を向上させたタイヤを提供する。
【解決手段】（Ａ）シス−１，４−結合量が７５％以上であり、且つ窒素原子を含む変性基を有する変性共役ジエン系重合体１０質量％以上を含むゴム成分と、その１００質量部に対して、（Ｂ）カーボンブラック１０〜６０質量部を含有するゴム組成物を、ベーストレッドに用いたことを特徴とするタイヤである。 （もっと読む）

【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与える新しい化合物の提供。
【解決手段】式（１）で表される２価の基を含む化合物。［Ｑ^１〜Ｑ^４は、−ＣＲ^１＝又は−Ｎ＝を表す。Ｔ^１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−又は−ＮＲ^２−を表す。Ｙ^１は、単環系芳香族炭化水素基、単環系芳香族複素環等を表す。Ｄ^１及びＤ^２は、単結合又は２価の連結基を表す。Ｇ^１及びＧ^２は、２価の脂環式炭化水素基を表す。該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基等で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換わっていてもよい。］
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【課題】面内方向および膜厚方向のレターデーションの湿熱耐久性に優れ、十分ヘイズが小さいセルロースアシレートフィルムの提供。
【解決手段】セルロースアシレート樹脂と、スチレン−無水マレイン酸共重合体の部分開環体とを含有する溶液を流涎することを特徴とするセルロースアシレートフィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位ａ、スルホニウム塩を有する繰り返し単位ｂ１及びｂ２のいずれか１つ以上、アミノ基を有する繰り返し単位ｃを有する高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【化１】
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【課題】半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、その他のフォトファブリケーション工程等に使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する為のパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により極性が増大する樹脂を含有し、活性光線又は放射線の照射により、アルカリ現像液であるポジ型現像液に対する溶解度が増大し、有機溶剤を含有するネガ型現像液に対する溶解度が減少するレジスト組成物を塗布することで、膜を形成し、前記膜を液浸媒体を介して露光し、ネガ型現像液を用いて現像を行うことを含み、前記組成物が、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有し、かつ、アルカリ可溶性基、アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する基、及び特定の繰り返し単位、のいずれかを有する樹脂を含有するパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】架橋速度が改善され、機械的強度に優れた架橋成形品を与える硬化性パーフルオロエラストマー組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）テトラフルオロエチレンとパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）と窒素含有単量体との共重合体であるパーフルオロエラストマー、および（Ｂ）４０〜３３０℃でアンモニアを発生させる化合物を含む硬化性組成物を製造するに当り、アンモニア発生化合物（Ｂ）をアンモニア発生化合物（Ｂ）に親和性を有する溶媒（Ｃ）の存在下で他の成分と混合することを特徴とする硬化性パーフルオロエラストマー組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、優れた機械的物性を有するＰＴＦＥ樹脂の成形体を提供することにある。
【解決手段】
上記課題は、高分子量架橋性ＴＦＥ重合体と、低分子量架橋性ＴＦＥ重合体とを含有する架橋性ＰＴＦＥ組成物から成形されたＰＴＦＥ樹脂の成形体によって解決される。
なし （もっと読む）

【課題】高感度、密集パターンおよび孤立ラインの高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、良好なブリッジマージン、孤立スペースの高解像性を同時に満足する感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）炭素数５から８の単環の酸解離性シクロアルキル（メタ）クリレート単位と置換スチレン単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、炭素数３以上の炭化水素基を置換基を芳香環に有する構造のスルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とする、感活性光線または感放射線樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性及びマスクエラーファクターをさらに向上させることができるレジストパターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】レジストパターンの製造方法であって、酸の作用によりアルカリ可溶となる樹脂（Ａ）と酸発生剤（Ｂ）とを含有するレジスト組成物を、基体上に塗布してレジスト膜を得る工程と、レジスト膜を温度Ｔ_PBでプリベーク（ＰＢ）する工程と、プリベークしたレジスト膜を露光する工程と、露光したレジスト膜を温度Ｔ_PEBでポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）する工程と、ポストエクスポージャーベークしたレジスト膜をアルカリ現像液で現像してレジストパターンを得る工程とを含み、８５℃＜Ｔ_PEB、Ｔ_PEB＜Ｔ_PB、且つＴ_PB＜１００℃であることを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

【課題】窒素含有硬化部位とフッ素化モノマーから誘導される単位とを含むフルオロプラスチック（以下ＦＰ）またはラテックスを提供する。
【解決手段】窒素含有硬化部位とフッ素化モノマーから誘導される単位とを含むＦＰまたはラテックス、ＦＰおよびフルオロエラストマーゴムを含む硬化可能な混合物、硬化された成形物品、ラテックス混合物、およびＦＰを調製する方法である。該方法は：（ａ）重合反応器の中に、少なくとも６０重量パーセントの、フッ素化モノマーを含む第１の重合性組成物を導入する工程（ｂ）前記反応器の中で前記組成物を重合させる工程；（ｃ）少なくとも８０重量％の前記第１の重合性組成物の添加の後に、少なくとも７０重量パーセントの、窒素含有硬化部位モノマーを含む第２の重合性組成物を前記反応器の中に導入する工程；および（ｄ）前記窒素含有硬化部位モノマーを前記フッ素化モノマーと共重合させて、ＦＰの形成工程、を含む。 （もっと読む）

【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを与える新しい化合物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物。［Ｚ^１及びＺ^２は、置換基を表す。Ｑ^１及びＱ^２は、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^１ａ）−、−Ｓ−又は−Ｃ（Ｏ）−を表す。Ｙは、＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ^２ａ、＝ＰＲ^３ａ、＝ＣＲ^４ａＲ^５ａ又は＝ＳｉＲ^６ａＲ^７ａを表す。Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、単結合又は連結基を表す。Ｂ^１及びＢ^２は、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表す。Ｄ^１及びＤ^２は、単結合又は又は連結基を表す。］
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【課題】ＣＤ均一性及びマスクエラーファクターをさらに向上させることができるレジストパターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】レジストパターンの製造方法であって、酸の作用によりアルカリ可溶となる樹脂（Ａ）と酸発生剤（Ｂ）とを含有するレジスト組成物を、基体上に塗布してレジスト膜を得る工程と、レジスト膜を温度Ｔ_PBでプリベーク（ＰＢ）する工程と、プリベークしたレジスト膜を露光する工程と、露光したレジスト膜を温度Ｔ_PEBでポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）する工程と、ポストエクスポージャーベークしたレジスト膜をアルカリ現像液で現像してレジストパターンを得る工程とを含み、Ｔ_PEB≦８５℃且つ０℃＜Ｔ_PB−Ｔ_PEB＜２５℃であることを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

本発明は、液晶相を有する重合性液晶化合物（Ｉ）、及び化合物（Ｉ）を含む液晶組成物、複屈折層としてのそれらの使用に関する。
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【課題】露光により発生した酸の拡散制御性に優れた樹脂組成物層を形成でき、露光量が少ない場合であっても基板上に多種類の高分子を高密度、かつ安定して正確に形成できるバイオチップの製造に適した樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合体と、（Ｂ）光の作用によりスルホニルアニオンが発生する感放射線性酸発生剤であって、該スルホニルアニオンが光学純度１０％ｅｅ以上のビシクロ化合物である感放射線性酸発生剤とを含有するバイオチップ製造用樹脂組成物。 （もっと読む）