【課題】ラフネス特性、露光ラチチュード（Exposure Latitude）、及び現像欠陥性能の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）と、酸の作用により脱離する基を備え且つ下記一般式（Ｃ−Ｉ）より表される化合物、又は、酸の作用により脱離する基を備え且つ前記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物の複数が連結基を介して結合された構造を有する化合物とを含有している。
【化１】

【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）と、
酸の作用により脱離する基を備え且つ下記一般式（Ｃ−Ｉ）より表される化合物、又は、酸の作用により脱離する基を備え且つ前記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物の複数が連結基を介して結合された構造を有する化合物と
を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【化１】

一般式（Ｃ−Ｉ）中、
ｐ及びｑの各々は、ｐ＋ｑ＝３なる関係を満足する１以上の整数を表す。
Ｒ_１７は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又は前記連結基を表す。ｐ＝２の場合には、２つの前記Ｒは、互いに同一であってもよく、互いに異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
Ｒ_１８乃至Ｒ_２０は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又は前記連結基を表す。Ｒ_１８乃至Ｒ_２０のうち少なくとも２つは、互いに結合して、環を形成していてもよい。
【請求項２】
前記構造部位（Ｓ２）はラクトン構造を含んでいる請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記構造部位（Ｓ１）は、前記ラクトン構造を構成しているエステル基に隣接した２つの炭素原子の少なくとも一方に結合している請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記繰り返し単位（Ａ）は、下記一般式（１）により表される構造を備えている請求項１乃至３の何れか１項に記載の組成物。
【化２】

式中、
Ｒ_３は、ｋ≧２の場合には各々独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。ｋ≧２の場合、前記Ｒ_３の少なくとも２つが互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｘは、アルキレン基、酸素原子又は硫黄原子を表す。
Ｙは、ｍ≧２の場合には各々独立に、前記構造単位（Ｓ１）を表す。
ｋは、０〜５の整数を表す。
ｍは、ｍ＋ｋ≦６なる関係を満たす１〜５の整数を表す。
【請求項５】
疎水性樹脂を更に含有した請求項１乃至４の何れか１項に記載の組成物。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか１項に記載の組成物を用いて形成されたレジスト膜。
【請求項７】
請求項１乃至５の何れか１項に記載の組成物を用いて膜を形成することと、
前記膜を露光することと、
前記露光した膜を現像することと
を含んだパターン形成方法。
【請求項８】
前記露光は液浸液を介して行われる請求項７に記載の方法。

【公開番号】特開２０１１−２０３６４５（Ｐ２０１１−２０３６４５Ａ）
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−７２８４１（Ｐ２０１０−７２８４１）
【出願日】平成２２年３月２６日（２０１０．３．２６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】