感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
【課題】 塗布欠陥、塗布膜厚均一性、ＰＥＢＳ性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含む樹脂（Ｐ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、前記溶剤として、下記Ｘ群およびＹ群に列挙された溶剤のうち少なくとも１種を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（Ｘ群）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、乳酸アルキルエステル類、アルコキシ酢酸アルキル類、アルコキシプロピオン酸アルキル類、ピルビン酸アルキル類、酢酸アルキルエステル；
（Ｙ群）環状ラクトン類、アルキレンカーボネート類。
【解決手段】 酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含む樹脂（Ｐ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、前記溶剤として、下記Ｘ群およびＹ群に列挙された溶剤のうち少なくとも１種を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（Ｘ群）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、乳酸アルキルエステル類、アルコキシ酢酸アルキル類、アルコキシプロピオン酸アルキル類、ピルビン酸アルキル類、酢酸アルキルエステル；
（Ｙ群）環状ラクトン類、アルキレンカーボネート類。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含む樹脂（Ｐ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、前記溶剤として、下記Ｘ群およびＹ群に列挙された溶剤のうち少なくとも１種を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（Ｘ群）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、乳酸アルキルエステル類、アルコキシ酢酸アルキル類、アルコキシプロピオン酸アルキル類、ピルビン酸アルキル類、酢酸アルキルエステル類；
（Ｙ群）環状ラクトン類、アルキレンカーボネート類。
【請求項２】
さらにアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート類を含む請求項１に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項３】
請求項２に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、Ｘ群から選択される少なくとも１種の溶剤と、Ｙ群から選択される少なくとも１種の溶剤と、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート類との少なくとも３種の溶剤を含有する請求項２に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項４】
前記Ｘ群及びＹ群から選択される溶剤の合計の含有率が、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全質量に対して９２質量％以上である請求項１に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項５】
前記溶剤の合計の含有率が、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全質量に対して９５質量％以上である請求項４に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項６】
前記Ｘ群及びＹ群から選択される溶剤及びアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートの合計の含有率が、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全質量に対して９２質量％以上である請求項２又は３に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項７】
前記溶剤の合計の含有率が、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全質量に対して９５質量％以上である請求項６に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項８】
前記構造部位（Ｓ２）は、ラクトン構造を含んでいる請求項１〜請求項７のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項９】
前記構造部位（Ｓ１）は、前記ラクトン構造を構成しているエステル基に隣接した２つの炭素原子の少なくとも一方に結合している請求項１〜請求項８のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項１０】
前記繰り返し単位（Ａ）は、下記一般式により表される構造を備えている請求項９に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【化１】
式（１）中、Ｒ2は、ｎ≧２の場合には各々独立に、鎖状又は環状アルキレン基を表す。Ｒ3は、ｋ≧２の場合には各々独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。ｋ≧２の場合、前記Ｒ３の少なくとも２つが互いに結合して、環を形成していてもよい。Ｘは、アルキレン基、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｙは、ｍ≧２の場合には各々独立に、前記構造単位（Ｓ１）を表す。Ｚは、ｎ≧２の場合には各々独立に、単結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合又はウレア結合を表す。ｋは、０〜５の整数を表す。ｍは、ｍ＋ｋ≦６なる関係を満たす１〜５の整数を表す。ｎは、０〜５の整数を表す。
【請求項１１】
疎水性樹脂を更に含む請求項１〜１０のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて形成されたレジスト膜。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成すること、該膜を露光すること、露光した膜を現像することを含むパターン形成方法。
【請求項１４】
前記露光は、液浸液を介して行われる請求項１３に記載のパターン形成方法。
【請求項１】
酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含む樹脂（Ｐ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、前記溶剤として、下記Ｘ群およびＹ群に列挙された溶剤のうち少なくとも１種を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（Ｘ群）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、乳酸アルキルエステル類、アルコキシ酢酸アルキル類、アルコキシプロピオン酸アルキル類、ピルビン酸アルキル類、酢酸アルキルエステル類；
（Ｙ群）環状ラクトン類、アルキレンカーボネート類。
【請求項２】
さらにアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート類を含む請求項１に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項３】
請求項２に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、Ｘ群から選択される少なくとも１種の溶剤と、Ｙ群から選択される少なくとも１種の溶剤と、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート類との少なくとも３種の溶剤を含有する請求項２に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項４】
前記Ｘ群及びＹ群から選択される溶剤の合計の含有率が、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全質量に対して９２質量％以上である請求項１に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項５】
前記溶剤の合計の含有率が、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全質量に対して９５質量％以上である請求項４に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項６】
前記Ｘ群及びＹ群から選択される溶剤及びアルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートの合計の含有率が、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全質量に対して９２質量％以上である請求項２又は３に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項７】
前記溶剤の合計の含有率が、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全質量に対して９５質量％以上である請求項６に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項８】
前記構造部位（Ｓ２）は、ラクトン構造を含んでいる請求項１〜請求項７のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項９】
前記構造部位（Ｓ１）は、前記ラクトン構造を構成しているエステル基に隣接した２つの炭素原子の少なくとも一方に結合している請求項１〜請求項８のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項１０】
前記繰り返し単位（Ａ）は、下記一般式により表される構造を備えている請求項９に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【化１】
式（１）中、Ｒ2は、ｎ≧２の場合には各々独立に、鎖状又は環状アルキレン基を表す。Ｒ3は、ｋ≧２の場合には各々独立に、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。ｋ≧２の場合、前記Ｒ３の少なくとも２つが互いに結合して、環を形成していてもよい。Ｘは、アルキレン基、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｙは、ｍ≧２の場合には各々独立に、前記構造単位（Ｓ１）を表す。Ｚは、ｎ≧２の場合には各々独立に、単結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合又はウレア結合を表す。ｋは、０〜５の整数を表す。ｍは、ｍ＋ｋ≦６なる関係を満たす１〜５の整数を表す。ｎは、０〜５の整数を表す。
【請求項１１】
疎水性樹脂を更に含む請求項１〜１０のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて形成されたレジスト膜。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれかに記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成すること、該膜を露光すること、露光した膜を現像することを含むパターン形成方法。
【請求項１４】
前記露光は、液浸液を介して行われる請求項１３に記載のパターン形成方法。
【公開番号】特開２０１１−２１５４１４（Ｐ２０１１−２１５４１４Ａ）
【公開日】平成２３年１０月２７日（２０１１．１０．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−８４１９９（Ｐ２０１０−８４１９９）
【出願日】平成２２年３月３１日（２０１０．３．３１）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月２７日（２０１１．１０．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月３１日（２０１０．３．３１）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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