【課題】 解像性を向上させることができるレジスト組成物に関わる技術を提供する。
【解決手段】
酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、下記一般式（Ａ０）
【化１】


［式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立して水素原子又は低級アルキル基を示し（但し、Ｒ^１〜Ｒ^２が同時にアルキル基となる場合は除く）、Ｒ^５は低級アルキル基、又はハロゲン化低級アルキル基を示し、ｓ，ｔはそれぞれ独立して０又は１〜３の整数を示し、ｕは１〜３の整数を示し、Ｘは環式基を示す。］
で示される構成単位（ａ０）とを含む高分子化合物を用いてレジスト組成物とし、レジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 反射型偏光板、位相差板などの光学異方性を示す光学補償薄膜には、波長分散の小さな光学異方性を有する成形体が求められている。また重合性液晶組成物から光学異方性を示す成形体を製造する場合、他の液晶性化合物と良好な相溶性を持つ重合性の液晶性化合物が必要である。すなわち光学異方性の波長分散が小さく、他の液晶性化合物と良好な相溶性を持つ重合性の液晶性化合物が求められている。
【解決手段】 下記の式（１）または式（２）で表されるトリプチセン環を有する化合物、それらを含む液晶組成物、およびそれら液晶組成物を重合することで製造できる光学異方性を有する成形体である。


上式において、Ａはトリプチセン−１，４−ジイル、１，４−フェニレンなどで、少なくとも１つのＡはトリプチセン−１，４−ジイルであり、Ｘは単結合、アルキレンなどであり、Ｒはハロゲン、−ＣＮ、アルキルなどであり、Ｚは単結合、−ＣＯＯ−などであり、ｍは１〜６の整数であり、Ｐは重合性の基である。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターン形状が良好で、微細なレジストパターンを形成できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含む液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分（Ａ）が、水素原子を有するアルカリ可溶性基（ｉ）を有し、かつ該アルカリ可溶性基（ｉ）の一部において、その水素原子が下記一般式（Ｉ）［上記式中、Ｚは脂肪族環式基を表し；ｎは０または１〜３の整数を表し；Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜５の低級アルキル基を表す。］で表される酸解離性溶解抑制基（Ｉ）で置換されている樹脂（Ａ１）を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
【化１】
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【課題】 感度、解像度が高いフォトレジスト、耐熱性および電気特性に優れる硬化物を得ることができるエポキシ硬化剤、各種基材への密着性、耐熱性、耐水性に優れる塗料、フォトレジスト用樹脂として有用な重合体を提供する。
【解決手段】 式（Ｉ）の構成単位を有する重合体を含有するフォトレジスト、エポキシ硬化剤、塗料（Ｒ¹ は水素原子またはメチル基、Ｒ² は炭素数１〜４のアルキル基、ｉは０〜４の整数を表す）；および、式（II）の構成単位を有する重合体（Ｒ³ は水素原子またはメチル基、Ｒ⁴ は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ⁵ は酸で脱離する保護基、ｊは０〜４の整数を表す）。
【化１】
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【課題】 屈折率、特に３００ｎｍ以下の波長の光源に対する屈折率が高く、かつ解像性にも優れたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物用として好適な高分子化合物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 一般式（ａ０−１）［Ｒは水素原子または低級アルキル基、Ｒ^１〜Ｒ^７はそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル基、Ｚは２価の環式基、Ｘはカルボニル基、ｓ，ｔ，ｕ，はそれぞれ独立して０または１〜３の整数、ｖは０または１、ｗは０または１〜３の整数。］で表される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有することを特徴とする高分子化合物。
【化１】
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【課題】接着強度、透明性、皮膜強度、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性が良好で、更に長期保存が可能な熱硬化性の一液型カラーフィルター用保護膜組成物、および前記組成物を利用して製造された、平坦性、密着性及び膜強度に優れる保護膜を含むカラーフィルターを提供する。
【解決手段】熱硬化性の一液型カラーフィルター用保護膜組成物は、側鎖にエポキシ環の構造を有する１種または２種の（メタ）アクリレートと末端水酸基を有する（メタ）アクリレートの共重合による自己硬化性の共重合体及び有機溶剤を含む。 （もっと読む）

【課題】 良好な光透過性、アルカリ溶解性を同時に満たし、かつ露光により発生した酸を消費しないフォトレジスト用樹脂として有用な重合体、およびハロゲン化物の廃液を発生させることなく重合性化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】 式（Ｉ）の重合性化合物（Ｒ¹ は水素原子またはメチル基、Ｒ² は酸で脱離する保護基を表す）に由来する構成単位を有する重合体；ｐ−ヒドロキシエチルフェノールと（メタ）アクリル酸無水物との酸触媒下での反応、ｐ−ヒドロキシエチルフェノールと（メタ）アクリル酸エステルとのエステル交換反応、ｐ−ヒドロキシエチルフェノールと（メタ）アクリル酸とのエステル化反応による重合性化合物の製造方法。
【化１】
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【課題】 イミド樹脂中にはアミンなどの残存揮発分が存在していることが多く、そのために以降の加工時に発泡を生じる（熱安定性、悪）などの問題が生じていた。脱揮が十分で、大掛かりな設備を必要としないイミド樹脂の新たな脱揮方法が求められていた。
【解決手段】 押出機を用いてイミド樹脂（例えばアクリル系樹脂と一級アミンを反応させて得られるイミド樹脂等）から残存揮発分を除去する際に、イミド樹脂と二酸化炭素を押出機に供給して、二酸化炭素を超臨界状態にすることなく残存揮発分を減圧除去することで、樹脂の熱安定性を改良する。 （もっと読む）

【課題】 ＬＥＲの低減されたパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有し、かつ該構成単位（ａ１）が、下記一般式（ａ１−０）［式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立して低級アルキル基、Ｒ^３〜Ｒ^６はそれぞれ独立して水素原子または低級アルキル基、ｓは０または１〜３の整数、ｔは１〜３の整数、Ｘは脂肪族環式基であり、低級アルキル基および極性基からなる群から選択される少なくとも１種の置換基を有していてもよく、Ｙは極性基。］で表される構成単位（ａ１−０）を含む高分子化合物。
【化１】
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【課題】 確実に半田接合することができ、半田接合後の残存フラックスの洗浄除去が必要なく、高温、多湿雰囲気でも電気絶縁性を保持し、誘電特性に優れ、信頼性の高い半田接合を可能とする、熱硬化性フラックス、フラックスシートおよび多層配線板を提供する。
【解決手段】 半田接合時にフラックスとして作用する熱硬化性フラックスであって、フェノール性水酸基を有する樹脂(Ａ)、該樹脂の硬化剤である樹脂（Ｂ）および環状オレフィン系樹脂（Ｃ）を含むことを特徴とする熱硬化性フラックスにより達成される。配線パターンと、該配線パターン上に形成された導体ポストと、該導体ポストの先端表面に形成された半田層とを有する接続層と、該導体ポストとの層間接続用ランドを有する被接続層とを、前記熱硬化性フラックスからなるフラックス層を介して、加熱・加圧して熱圧着することにより半田接合させた層間接続部を有する多層配線板。 （もっと読む）

本発明は、重合性混合物、基体に対する改良された接着性を有するポリマーフィルムの製造おけるその使用、そのようなポリマーフィルムの製造方法、そのようなポリマーフィルムを含む多層フィルム、さらに、該混合物またはフィルムの光学、電気光学、装飾または安全保障装置および用途における使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 長期に渡る放電特性（放電量及び放電時間）の維持、電池へ電解液を充填する際の充填量の偏り、耐衝撃性の問題点を改善するアルカリ電池用増粘剤及びアルカリ電池を提供する。
【解決手段】
１時間後のゲル粘度（Ｎ１ｈ）と１２時間後のゲル粘度（Ｎ１２ｈ）との比（Ｎ１ｈ／Ｎ１２ｈ）が０．７〜１．３であることを特徴とするアルカリ電池用増粘剤（ここでゲル粘度は、増粘剤２．０重量部、亜鉛粉末２００重量部及び３７重量％水酸化カリウム水溶液１００重量部からなるゲルのＪＩＳ Ｋ７１１７−１：１９９９に準拠して測定した４０℃における粘度）、並びにこの増粘剤と亜鉛粉末を含有してなるアルカリ電池。 （もっと読む）

【課題】 パターン形状、ドライエッチング耐性、露光後の加熱温度の変化に対する線幅安定性等に優れ、十分な感度を有し、解像度にも優れるレジスト組成物を得ることができるレジスト用重合体、および該重合体を得るためのレジスト用単量体を提供する。
【解決手段】 式（２）で表される構成単位を有する重合体であって、式（２）で表される構成単位のうち、式（２−１）で表される構成単位の比率が５０モル％以上であるレジスト用重合体。
【化１】


（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｒ¹ は、酸素原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０の１価の炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】 比較的穏和な条件で硬化し、かつ二液に分割しなくても保存安定性の良い、アクリル系（共）重合体をベース樹脂として含む硬化性組成物およびそのベース樹脂原料となる化合物を提供する。
【解決手段】 (1)一般式（Ｉ）


〔式中の記号は明細書に記載の意味を表わす。〕で示される新規重合性ピラゾール系化合物、(2)一般式（Ｉ）で示される化合物と、分子内に水酸基、アミノ基、またはカルボキシル基を持つ重合性不飽和化合物とをモノマー成分として含む共重合体を含有する硬化性組成物、および(3)一般式（Ｉ）で示される化合物をモノマー成分とする共重合体と分子内に水酸基、アミノ基、またはカルボキシル基を持つ重合体とを含有する硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。
【解決手段】（Ａ）特定のスチレン骨格を有する繰り返し単位を２種含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）有機塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】洗濯添加剤としての疎水的に変性されたポリマーの提供
【解決手段】本発明は、少なくとも以下のモノマー成分：
（Ｉ）２０ないし９９．９質量％、好ましくは５０％ないし９９質量％の式（１）
【化１】


に従う少なくとも１種のカチオン性モノマー、及び（ＩＩ）０．１ないし８０質量％の、開始剤の存在下で重合する疎水性不飽和ノニオン性モノマー；所望により、モノマー（Ｉ）及びモノマー（ＩＩ）のいずれとも異なる水溶性モノマー（ＩＩＩ）、及び所望により架橋剤（ＩＶ）から誘導される主鎖を含むポリマー化合物に関する。前記化合物は、洗濯プロセスにおける染料ブリード及び／又は染料転移の問題を克服するために特に有益である。
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【課題】 透明性、耐熱性、光学等方性がいずれも高く、各種光学用途に応じた特性を十分に発揮できる、光学用面状熱可塑性樹脂成形体を提供する。
【解決手段】 本発明にかかる光学用面状熱可塑性樹脂成形体は、ラクトン環含有重合体を主成分として含む。本発明にかかる光学用面状熱可塑性樹脂成形体は、好ましくは、光学用保護フィルム、光学フィルム、あるいは光学シートである。 （もっと読む）

【課題】 得られる組成物の取り扱いが良好であり、且つ硬化時の収縮率が小さく、被塗物との密着性に優れる活性エネルギー線硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ及びＲ’は同一でも異なっていても良い水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基である。）
で表される４，４’−オキシジシクロヘキサノールの不飽和カルボン酸ジエステル（Ａ）と光重合開始剤（Ｂ）とを含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 現像時のクラックの発生やパターンの剥離を低減可能な化学増幅型レジスト材料を提供することを目的とする。
【解決手段】 脂環式炭化水素基を含有しかつその基の炭素原子に低級アルキル基が結合している部分を含む保護されたアルカリ可溶性基を有し、そしてそのアルカリ可溶性基が酸により脱離して当該化合物をアルカリ可溶性とならしめる構造単位を含む酸感応性化合物と、放射線露光により酸を発生する酸発生剤とを含んでなるように、構成する。 （もっと読む）

【課題】 光学補償機能を有する偏光板に用いられ液晶セルを光学的に補償する光学補償シート、とりわけ、大型の液晶表示装置に適用した場合でも、ムラを生じることなく、表示品位の高い画像を表示することができる光学補償シートを提供する。さらに上記特性に優れる光学補償シートを備えた偏光板及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 連続走行するウェブに光学異方性層を塗布した直後にウェブを囲むケーシングを有するドライヤにより、塗布面近傍の風の乱れを防止し乾燥中の塗布面側において塗布液中の溶剤蒸気を高い濃度で保ったまま乾燥を行い形成される光学補償シートであって、該光学異方性層がフルオロ脂肪族基を含有する特定構造のモノマーから導かれる繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有ポリマーを少なくとも１種と液晶性化合物を含有することを特徴とする光学補償シート、その製造方法、該光学補償シートを備えた偏光板、及び液晶表示装置。 （もっと読む）