【課題】 共役ジエン及び／又は芳香族ビニル化合物の単独ポリマー又はコポリマーのリビング末端にニトロキシドラジカルを選択的に導入して変性ポリマーを得る。
【解決手段】 共役ジオレフィン及び／又は芳香族ビニル化合物の単独ポリマー又はコポリマーであって、そのリビングアニオン末端に式（Ｉ）：
【化１】


（式中、ＲはＣ，Ｏ，Ｎ，Ｓ，Ｐ，Ｃ₁〜Ｃ₃₀のアルキレン基及びＣ₆〜Ｃ₃₀のアリール基のうちの少なくとも１種又は単結合を示し、Ｒ¹〜Ｒ³はそれぞれ独立に水素又はＣ₁〜Ｃ₃のアルキル基もしくはＣ₆〜Ｃ₃₀のアリール基を示すが、Ｒ¹〜Ｒ³のうちの少なくとも一つはＣ₆〜Ｃ₃₀のアリール基であり、Ａは炭素アニオンと反応し得る官能基を示す）
で表わされるアルコキシアミン化合物が反応結合した変性ポリマー。 （もっと読む）

【課題】 高解像性であって、パターン倒れが抑制され、かつ形状が良好なレジストパターンを形成できる高分子化合物およびポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ１−０１）で表される構成単位および下記一般式（ａ１−０２）で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも２種の構成単位（ａ１）を有する高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物。
【化１】


［上記式中、Ｙは脂肪族環式基を表し；ｎは０または１〜３の整数を表し；ｍは０または１を表し；Ｒはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜５の低級アルキル基、フッ素原子または炭素数１〜５のフッ素化低級アルキル基を表し；Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜５の低級アルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】幅広い波長領域において高い透明性を有する含フッ素ポリマーおよびその製造方法の提供、ならびに遠紫外線や真空紫外線に対する透明性に優れ、ＰＥＤ効果を抑制する効果が高く、アルカリ現像液に可溶で現行のレジストプロセスの現像工程にて除去することができ、液浸リソグラフィ工程においてもレジスト膜を液浸溶媒から保護することが可能なレジスト保護膜組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される含フッ素ジエンを環化重合して得られるモノマー単位、を有する含フッ素ポリマー。
ＣＦ₂＝ＣＦＣＦ₂Ｃ（ＣＦ₃）（ＯＲ¹）−（ＣＨ₂）_nＣＲ²＝ＣＨＲ³ ・・・（１）
（式中、Ｒ¹は、カルボキシ基、スルホ基およびスルホニルフルオリド基からなる群より選択される少なくとも１つの置換基を有する炭素数２０以下の有機基を表し、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１２以下のアルキル基を表す。ｎは０〜２の整数である。） （もっと読む）

【課題】環境負荷の少ない含フッ素溶媒を用いた、光リソグラフィー用部材に用いられる含フッ素ポリマーの精製方法の提供。
【解決手段】含フッ素ポリマーが有機溶媒（Ａ）に溶解した含フッ素ポリマー溶液と、ハイドロフルオロエーテル、ハイドロフルオロカーボン及びパーフルオロカーボンからなる群から選ばれる１種以上であり、沸点が１０〜２５０℃であり、該含フッ素ポリマーを実質的に溶解せず、かつ該有機溶媒と相溶する含フッ素溶媒（Ｂ）、とを混合し、含フッ素ポリマーを凝集させ、次いで凝集した含フッ素ポリマーを前記溶媒から分離する含フッ素ポリマーの精製方法。 （もっと読む）

マイケルドナー成分、ポリアクリル成分、およびモノアクリル成分を含む硬化可能な組成物が記載されており、ここで、そのマイケルドナーまたはモノアクリル成分の内の少なくとも一方には、ペンダントされた光重合開始基が含まれる。それらの成分のマイケル付加反応生成物であるマイケル付加ポリマーについても、記載されている。 （もっと読む）

【課題】要求される被覆特性の幅広いスペクトルを満足することができる新規ポリイソシアネート組成物を提供する。
【解決手段】ｉ)ＮＣＯ含量５％〜２５重量％、ＮＣＯ官能価≧２および２３℃での粘度１５０〜２００,０００ｍＰａ・ｓを有するポリイソシアネートから製造され、およびii)下記式(Ｉ)で示される構造単位を含有するポリアクリレート-変性ポリイソシアネート。
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合成高分子と生体高分子を架橋することにより形成されたヒドロゲルから成る生合成基質を提供する。基質は、頑強で生体適合性があり、細胞障害性ではなく、生体内の細胞イングロースに対応可能である。一または複数の生物活性剤を含むように、基質を更に調整することもできる。基質内に被包または分散させた細胞を含ませてもよく、生体内で基質が沈着すると増殖可能である。生合成基質の生成方法、および組織工学または薬剤伝達に応用した生体内での生合成基質の用途も提供する。 （もっと読む）

【課題】加工時のスコーチ安定性に優れ、架橋点の種類によらず非選択的に架橋可能な架橋剤を含むとともに、高温の架橋条件下であっても安定した状態で架橋が制御され得るアクリルゴム組成物を提供する。
【解決手段】アクリル系ゴム（Ａ１）、及びエチレン・アクリルゴム（Ａ２）からなる群より選択される少なくとも一種のゴムを含有するゴム成分（Ａ）と、重量平均分子量Ｍｗが１０００〜３００００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが１．０〜４．０であり、（メタ）アクリル酸エステル（ｂ−１）単位５〜３５質量％、及び芳香族ビニル単量体（ｂ−２）単位６５〜９５質量％を構成単位として含有する重合体（Ｂ）とを含む架橋可能なアクリルゴム組成物である。 （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式（１）で表される環状構造を有する含フッ素単量体。
【化１】


（式中、Ｚは重合性不飽和基を含む二価の有機基を表す。）
【効果】 本発明の新規な環状構造を有する含フッ素単量体は、機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用であり、中でも波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、かつフェノール様酸性水酸基を有するため、現像特性の良好な感放射線レジスト組成物のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。また、本発明の重合体を感放射性レジスト組成物のベース樹脂として用いた場合、適度な酸性を有する水酸基を効果的に利用することにより、例えば膨潤を軽減してパターン崩壊を防いだり、Ｔ−トップ形状発現を抑えて寸法均一性を向上させたりもできる。 （もっと読む）

高感度で、しかも安価な光酸発生剤を使用でき、近紫外露光および弱アルカリ現像が可能で、高解像度であり、スルホールのある基板にも対応できるポジ型感光性レジスト組成物を提供する。
４−（１−メチルエテニル）フェノールおよび／または４−エテニルフェノールに由来する第１構成単位と、（メタ）アクリル酸エステル類に由来する第２構成単位と、（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステル類に由来する第３構成単位とを含んでなる酸感応性共重合体からなるポジ型感光性レジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】架橋効率が高く、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が小さいためパターン崩壊やラインエッジラフネスが低減される、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作成における微細パターン形成材料として好適なレジスト材料を提供する。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物を含むものであることを特徴とする化学増幅型ネガ型レジスト材料。
【化４５】
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波長１９０ｎｍ以下の光を用いるリソグラフィー用のレジストにおいて、露光光に対して透明性に優れ、かつ基板密着性およびドライエッチング耐性に優れた化学増幅レジストとして有用な重合体および該重合体の単量体として新規な一般式（１）で示される脂環式不飽和化合物が開示されている。


なお、一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２の少なくとも一方は、フッ素原子またはフッ素化されたアルキル基であることが好ましい。
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【課題】形状の精度が高くかつ高温高湿下における伝送特性に優れた光導波路を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）及び特定の構造を有する重合体を含有する。
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【課題】 触媒の使用によるコスト増、塗膜性能の低下を防止するために触媒の使用を抑制し、且つ、生産性、塗膜物性等に優れたハーフエステル化されたビニル系共重合体を提供し、また、このビニル共重合体を使用することにより、塗料の貯蔵安定性に優れ、耐酸性、耐熱黄変性、耐候性、耐水性、耐溶剤性、耐擦傷性、低温硬化性等に代表される高度の塗膜性能に優れた熱硬化性被覆用組成物を提供する。
【解決手段】 酸無水物基を有するラジカル重合性モノマーと他の共重合性モノマーを共重合させた後、６５℃〜２００℃の温度、０を超えて１ＭＰａＧ（Ｇはゲージ圧力であることを示す）以下の圧力下で、エステル化触媒を用いずに酸無水物基をハーフエステル化する。 （もっと読む）

【課題】官能基濃度が高く幅広い波長領域において高い透明性を有するレジスト組成物。
【解決手段】式（１）の単量体を有する共重合体を含む組成物。


Ｙは、Ｈ、Ｆ、水酸基を、Ｒ^１はＨ、メチル基、Ｆ、トリフルオロメチル基を、Ｘは、Ｈ、Ｆを示し、かつＸの１個以上はＦを示す。 （もっと読む）

【課題】
臭気、残留溶剤量が少なく、架橋可能な加水分解性シリル基を含有するメタアクリル酸エステル系重合体（Ａ）の重合に用いることができる溶媒を用いた製造方法の提供。
【解決手段】
架橋可能な加水分解性シリル基を含有するメタアクリル酸エステル系重合体（Ａ）の製造方法であって、エチルアルコール系溶媒中で（メタ）アクリル酸エステル単量体を主成分とする単量体を重合せしめる重合体（Ａ）の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 透明性、耐熱性に優れ、かつ成形時の応力下でも光学的な歪み（複屈折）が生じにくい、安価な熱可塑性樹脂の製造方法が求められていた。
【解決手段】 アクリル系樹脂にイミド化剤で処理してイミド樹脂を得、次いでこのイミド樹脂を閉環促進剤で処理する方法により得られる耐熱性イミド樹脂が、透明性、耐熱性に優れ、かつ配向複屈折が小さく、成形時の応力下でも光学的な歪み（複屈折）が生じにくい、安価な熱可塑性樹脂の製造方法を見出し、本発明に至った。 （もっと読む）

【課題】含フッ素共重合体の層と非フッ素樹脂の層との接着性に優れる積層体からなる流体搬送ライン用物品の提供。
【解決手段】テトラフルオロエチレン及び／又はクロロトリフルオロエチレンに基づく繰り返し単位（ａ）およびカルボニル基を含有する含フッ素共重合体（例えば、テトラフルオロエチレン／エチレン／（パーフルオロエチル）エチレン／無水イタコン酸共重合体。）の層（Ａ）と非フッ素樹脂の層（Ｂ）とが直接積層されてなる積層体からなり、流体接触面が前記含フッ素共重合体の層（Ａ）の表面からなる流体搬送ライン用物品。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、通常露光での現像欠陥性能が改善され、液浸露光に適用した場合のＤＯＦとプロファイルの劣化が改善され、水に対する追随性が良好で、且つスカムの発生が抑制されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｆ）特定の界面活性剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】硬化物の光学的透明性が高く、耐光性、耐熱性、機械特性に優れ、硬化収縮の小さい、さらに保存安定性に優れる樹脂組成物、当該樹脂組成物を用いた光学的透明性が高く、耐光性、耐熱性、機械特性に優れ、硬化収縮の小さい光学部材、および当該光学部材を短時間で簡易に作製する製造方法を提供する。
【解決手段】モノマー成分（Ａ）としてエポキシ基含有（メタ）アクリレート、モノマー成分（Ｂ）として（メタ）アクリレート、成分（Ｃ）としてエポキシ基含有（メタ）アクリル共重合体、及びエポキシの硬化剤（Ｄ）として酸無水物を含有してなり、２５℃で液体であり、加熱又は光照射によって硬化する樹脂組成物。 （もっと読む）