【課題】
インクジェット法により形成する表示装置用カラーフィルタにおいて、反射型表示装置に用いた際にも明度（透過率）が高く、且つ、彩度の低下しない表示装置用カラーフィルタを提供すること、及び明るい反射型表示装置を提供すること。
【解決手段】
少なくとも透明基板と、該透明基板上形成されたにマトリックス状遮光層と、該マトリックス状遮光層の間に、インクジェット法で形成された着色層画素を具備する表示装置用カラーフィルタにおいて、前記着色層画素が、減色混色の原色であるシアン色、マゼンタ色、イエロー色の２種以上の原色の組み合わせることにより解決した。 （もっと読む）

【課題】光伝送用媒体、詳しくはプラスチック光ファイバーや導波路型素子のコア用材料として利用可能な耐熱性と信号伝送能力を兼ね備えた光学材料を提供する。
【解決手段】側鎖に脂環式炭化水素部位を有する重合体であって１１５℃以上の熱変形温度を有する重合体からなる光学材料。 （もっと読む）

式：


で示される含フッ素単量体から誘導された繰り返し単位を有して成る含フッ素重合体を含んで成る表面処理剤であって、
（ａ）含フッ素重合体がケイ素原子を有してなるか、および／または（ｂ）表面処理剤が含フッ素重合体と異なる非フッ素重合体を含んでなり、この非フッ素重合体がケイ素原子を有してなる含ケイ素重合体である表面処理剤は、
α位がフッ素、塩素等で置換されている含フッ素アクリレート系ポリマーを含有していても、風合いを維持しつつ優れた撥水撥油性および防汚性を繊維製品に与える。
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【課題】 透明性、耐熱性が良く、かつ耐候性の良好な光学素子用樹脂及びこれを用いた光学素子を提供する。
【解決手段】 エステル部分が炭素数５〜２２の脂環式炭化水素基を有するメタクリル酸エステルまたはアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、マレイミド構造を持つ単量体を成分として含む単量体混合物を重合した樹脂であって、紫外線カーボンアークランプを用いて波長３５０〜４１０ｎｍの紫外線を、放射強度３５Ｗ／ｍ^２／ｎｍ（３６５ｎｍ）、距離２５０ｍｍで、３００時間照射後の透過率変化が１％以下である光学素子用樹脂。 （もっと読む）

（Ａ）式：


で示される，α位がＸ基で置換されている含フッ素単量体、および（Ｂ）活性水素と反応可能な官能基を有する単量体からなるメーソンリー処理用含フッ素重合体は、優れた撥水撥油性および防汚性をメーソンリーに付与する。
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【課題】重力不良による色ムラの発生を、低温発泡を生ずることなく効果的に抑制できるカラムスペーサを製造することができる光硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式で表される構造単位からなる、側鎖に（メタ）アクリル基とカルボキシル基とを有するアルカリ可溶性（メタ）アクリル共重合体と、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物と、光反応開始剤とを含有する光硬化性樹脂組成物。
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コバルト含有複合金属シアン化物錯体を触媒として重合させて得られるオキシアルキレン系重合体とメルカプト基含有化合物存在下でラジカル重合して得られるアクリル系重合体及び／又はメルカプト基含有化合物とを含有する組成物に、さらに還元剤を含有せしめることにより、極端な着色が抑制されており接着剤などに好適に使用できる樹脂組成物が得られる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセスにおいて、水を始めとした各種液浸露光用液体を用いた液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液浸露光用液体自体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数を増加させることなく、レジスト膜の引き置き耐性を向上させることができるレジスト保護膜形成用材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ₁は炭素数１〜５の直鎖若しくは分岐鎖のアルキレン基であり、Ｒ₂は、炭素数１〜１５の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基または脂環構造を有する炭化水素基である。）で表される構成単位を少なくとも有するアクリル系ポリマーと、溶剤と、を少なくとも含有してレジスト保護膜形成用材料を構成する。 （もっと読む）

【課題】 従来の（メタ）アクリル酸ポリオキシアルキレングリコールの重合物よりなるセメント混和剤に比べて、重合体の分子量が低下したり、未反応物が残存することがなく、セメント粒子の分散性安定性、減水効果に優れたセメント混和剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明のセメント分散剤は、グルコール化合物と、（メタ）アクリル酸エステルとを、チタンアルコキシド及び／又はジルコニウムアルコキシドをエステル交換触媒として用いてエステル交換反応させた後、水で処理して不溶性分を分離除去して得た下記式（ａ）で示される水溶性（メタ）アクリル酸ポリオキシアルキレングリコールエステルの重合体よりなることを特徴とする。
【化１】
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【課題】 不溶解物の生成が無くしかも簡素化された工程でフォトレジスト用樹脂溶液を得ることのできるフォトレジスト用樹脂溶液を得る。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法は、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Ａと、極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Ｂとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合溶媒による溶液を製造する方法であって、重合後ポリマーを貧溶媒に沈殿させ、分離した湿結晶をプロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解し、蒸留により低沸点成分を除去した後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて前記フォトレジスト用樹脂の溶液を得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて、好適に使用することができ、露光ラチチュードが広く、線幅の面内均一性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 脂環基を有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂を２種、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】芳香族系溶剤を用いることなく、ポリオレフィン等の基材に対して優れた密着性を有する印刷インキ用樹脂組成物を開発する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸４−ｔ−ブチルシクロヘキシル単量体（ａ）単位３０〜９９．９質量％と官能基含有ビニル系単量体（ｂ）単位０．１〜７０質量％を含有してなるアクリル系重合体（Ａ）とオレフィン系重合体（Ｂ）を含有する印刷インキ用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 基板への接着性に優れ、且つ、得られる液晶パネルの電圧保持率が低下しない液晶パネルシール用光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 （メタ）アクリル酸エステル及びマレイミド化合物を含有する液晶パネルシール用光硬化性組成物であって、一分子中に燐酸基及び少なくとも１つの（メタ）アクリロイル基を有する光重合性化合物を０．５〜１０質量％含有する液晶パネルシール用光硬化性組成物。及び、該液晶パネルシール用光硬化性組成物の硬化物から成るメインシール部又は封じ部を有する液晶パネル。 （もっと読む）

【課題】 レジスト用溶剤に極めて溶解しやすいフォトレジスト用樹脂をスケールアップした工業的規模において効率よく製造する。
【解決手段】 フォトレジスト用樹脂の製造方法は、単量体及び重合開始剤の溶液を重合系内に滴下することにより、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Ａと極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Ｂとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂を、１バッチ当たり１０ｋｇ以上製造する方法であって、予め重合容器内に、実質伝熱面積が１時間に滴下する溶液量に対して２００ｃｍ²／ｋｇ以上となるように重合溶媒を仕込んでおき、昇温後、単量体及び重合開始剤の溶液を滴下開始することを特徴とする。単量体及び重合開始剤の溶液を滴下開始する前に、重合系内の温度を重合時の制御温度より１〜５℃高くしておき、滴下開始後に重合時の制御温度に設定してもよい。 （もっと読む）

【課題】従来のポリイミド系配向膜では、脱水閉環工程においてポリアミック酸が完全にはポリイミドとならないことがあり、ＶＨＲが低下したり、焼き付きが発生する場合があった。そのことが原因で要求される特性が得られないという欠点を有していた。本発明は、ＶＨＲが高く、焼き付きが起こりにくい垂直配向モ−ドの液晶表示素子、液晶表示素子にこの特性を与える配向膜、およびこの配向膜を形成するためのワニス組成物提供することを目的とする。
【解決手段】式（１）で表される基を側鎖に有する重合体の少なくとも１種を含有するワニス組成物。式（１）において、Ｔ^１〜Ｔ^４は単結合、１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−ピペリジンであり、Ａ^１〜Ａ^３は単結合または炭素数１〜５のアルキレンであり、そしてＲ^１は水素または炭素数１〜５０の１価の有機基である。

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【課題】未反応単量体及びその他の揮発性成分含有量が非常に少ない上、耐熱性が極めて高くかつ色相が良好なマレイミド系共重合体組成物とその工業的な製造方法ならびにその成形体を提供する。
【解決の手段】芳香族ビニル単量体単位５５〜３５質量部、マレイミド単量体単位４５〜６５質量部及びこれら単量体と共重合可能な単量体単位０〜１０質量部からなるマレイミド系共重合体１００質量部に対し液状ポリジエン０．０１〜４質量部を添加し、かつマレイミド単量体の含有量が０．１〜３００ｐｐｍであるマレイミド系共重合体組成物ならびのその製造方法ならびにその成形体。 （もっと読む）

【課題】 高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式（１）で示される共重合による繰り返し単位を含んでなる、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物、該高分子化合物をベース樹脂として含むポジ型レジスト材料、該高分子化合物を基板上に塗布する工程を含んでなるパターン形成方法を提供する。
【化１】
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【課題】 露光ラチチュードやラインエッジラフネス等の諸性能にすぐれ、さらに液浸露光に適用してもドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく液浸液への酸の溶出が極めて少ないレジストを提供する。
【解決手段】 （Ａ）特定構造を側鎖に有する繰り返し単位を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 共役ジエン及び／又は芳香族ビニル化合物の単独ポリマー又はコポリマーのリビング末端にニトロキシドラジカルを選択的に導入して変性ポリマーを得る。
【解決手段】 共役ジオレフィン及び／又は芳香族ビニル化合物の単独ポリマー又はコポリマーであって、そのリビングアニオン末端に式（Ｉ）：
【化１】


（式中、ＲはＣ，Ｏ，Ｎ，Ｓ，Ｐ，Ｃ₁〜Ｃ₃₀のアルキレン基及びＣ₆〜Ｃ₃₀のアリール基のうちの少なくとも１種又は単結合を示し、Ｒ¹〜Ｒ³はそれぞれ独立に水素又はＣ₁〜Ｃ₃のアルキル基もしくはＣ₆〜Ｃ₃₀のアリール基を示すが、Ｒ¹〜Ｒ³のうちの少なくとも一つはＣ₆〜Ｃ₃₀のアリール基であり、Ａは炭素アニオンと反応し得る官能基を示す）
で表わされるアルコキシアミン化合物が反応結合した変性ポリマー。 （もっと読む）

【課題】 高解像性であって、パターン倒れが抑制され、かつ形状が良好なレジストパターンを形成できる高分子化合物およびポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ１−０１）で表される構成単位および下記一般式（ａ１−０２）で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも２種の構成単位（ａ１）を有する高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物。
【化１】


［上記式中、Ｙは脂肪族環式基を表し；ｎは０または１〜３の整数を表し；ｍは０または１を表し；Ｒはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜５の低級アルキル基、フッ素原子または炭素数１〜５のフッ素化低級アルキル基を表し；Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜５の低級アルキル基を表す。］ （もっと読む）