【課題】解像性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】着色剤、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
樹脂が、不飽和カルボン酸に由来する構造単位を有する付加重合体に、オキシラニル基を有する不飽和化合物を反応させた樹脂を含み、
重合性化合物が、デンドリマーおよびハイパーブランチポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む重合性化合物である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた透明性を有する、ポリカーボネート系樹脂とアクリル系樹脂とのブレンド物を調製できる樹脂組成物の製造方法、それによって得られる樹脂組成物および該組成物の成形体を提供する。
【解決手段】樹脂組成物の製造方法であって、メタクリル酸メチル６０〜９５重量％、（メタ）アクリル酸エステル（Ｉ）５〜４０重量％、及びこれら以外の単官能単量体０〜３５重量％からなる単量体成分が重合してなる共重合体を含有するアクリル系樹脂５５〜９５重量部と、ポリカーボネート系樹脂４５〜５重量部とを含む樹脂混合物を、温度１８０〜２６５℃及び剪断速度１０〜１００ｓｅｃ^−１で溶融混練することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】良好なＬＷＲとパターンプロファイル形状、及びパターン倒れ耐性において極めて優れた性能を示すレジスト組成物の提供。
【解決手段】少なくとも、（Ａ）１−アルキルシクロペンチル（メタ）アクリレート及び／又は１−アルキルシクロヘキシル（メタ）アクリレート構造の繰り返し単位を１つ以上有し、酸によってアルカリ溶解性が向上する高分子化合物、（Ｂ）高エネルギー線に感応し下記一般式（３）で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤、及び、（Ｃ）下記一般式（４）で示されるスルホン酸オニウム塩を含むレジスト組成物。


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【課題】ポジ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて安定に形成できるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分とを含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜を露光する工程、及び該レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたポジ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法であって、（Ａ）成分として、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位を有する樹脂成分を用い、現像液として極性有機溶剤を含み、実質的にアルカリ成分を含まない現像液を用いる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、スタンパからの離型性、基材との密着性及び強度に優れる隔壁を形成可能な電気泳動表示素子の隔壁形成用組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］脂環式アルキル骨格を有する重合性化合物、［Ｂ］フッ素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも１種の元素を有する化合物、並びに［Ｃ］重合開始剤を含有する電気泳動表示素子の隔壁形成用組成物である。［Ａ］重合性化合物は、ジ（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）で、レジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂と、式（Ｂ１）で表される酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^２は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基等；Ｒ^３は、式（ｂ）で表されるスルホラン環基；Ｒは、ヒドロキシ基、アルコキシ基又は脂肪族炭化水素基；＊は、Ｒ^２との結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】露光ラチチュードが大きく優れ、良好な矩形のパターン形状を形成することができ、且つ液浸露光時には液浸液への溶出が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式（Ｉ）で表される化合物、及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位、下記一般式（２）で表される繰り返し単位及び下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅ポジ型レジスト組成物。
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【課題】少なくとも、アセタール骨格を有する単量体と、ラクトン環を有する単量体と、極性基を有する単量体を共重合させて重合体を製造する方法において、アセタール骨格の分解を抑制しつつ、重合体溶液中の重合体を沈殿させて精製できるようにする。
【解決手段】極性基を有する単量体として、水酸基以外の極性基を有する単量体を用い、単量体を共重合させて得られた重合体を含む重合体溶液を、水分含有量が１０質量％未満のアルコールと混合して、重合体溶液中の重合体を沈殿させる。 （もっと読む）

【課題】低粘度で硬化性に優れ、各種プラスチックフィルム等、特に親水性プラスチックフィルム等に対する接着力に優れ、厳しい耐久性が要求される用途においても十分な性能を有し、具体的には、高温及び高湿条件下においても高い接着力を維持することができるプラスチックフィルム等用の活性エネルギー線硬化型接着剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）ウレタン（メタ）アクリレート、（Ｂ）カルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する化合物、（Ｃ）リン酸基及びエチレン性不飽和基を有する化合物、（Ｄ）脂肪族基又は脂環式骨格及びエチレン性不飽和基を有する化合物及び（Ｅ）光ラジカル重合開始剤を含むプラスチック製フィルム又はシート用活性エネルギー線硬化型接着剤組成物。 （もっと読む）

【課題】電子線又は極紫外線を用いたフォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に、高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足する化学増幅型レジスト組成物、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク、並びに、高分子化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 高温下において位相差の変化が少ない光学異方体を作製することが可能な重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】 少なくとも１つ以上の水素原子がtert-ブチル基で置換されているフェノール骨格を有する分子量７００未満の酸化防止剤を含有する重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物の硬化物である光学異方体を提供する。本願発明の重合性液晶組成物により構成される光学異方体は、高温下においても、オーダーパラメータの低下に伴う位相差の減少を低減できることから、液晶セル内部に組み込む光学異方体として好適に使用することが可能である。 （もっと読む）

【課題】 分散安定性に優れると共に、乾燥皮膜の耐水性に優れるフッ素系樹脂水性分散体を提供する。
【解決手段】 カルボキシル基を有するフッ素系樹脂（Ａ）及び水を含有してなり、界面活性剤を含まないことを特徴とするフッ素系樹脂水性分散体である。フッ素系樹脂（Ａ）の酸価は５〜２００であることが好ましく、フッ素系樹脂（Ａ）が有するカルボキシル基の少なくとも一部が、アンモニア、モノメチルアミン、モノエチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン及びエチルジメチルアミンからなる群から選ばれる少なくとも１種の中和剤で中和されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物などを提供する。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂並びに該樹脂と酸発生剤とを含有するレジスト組成物。式中、Ｔ^１は置換基を有してもよいスルトン環であり、Ｚ^１は置換基を有してもよいアルカンジイル基又は式（ａ−１）である。
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【課題】オルガノボランとビニル芳香族化合物とを含む重合開始剤系を提供すること。
【解決手段】この重合開始剤系は、２液型の硬化性結合性組成物、特に、硬化してアクリル系接着剤になる２液型の硬化性結合性組成物、さらに特に、硬化して低表面エネルギー基材を結合しうるアクリル系接着剤になる２液型の硬化性結合性組成物を調製するのに特に有用である。オルガノボランと、少なくとも１種の重合性モノマーと、少なくとも１種のビニル芳香族化合物とを含む結合性組成物も記載される。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能、及び、コーナー・プロキシミティ（Ｃｏｎｅｒ ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）性能に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、及び、（Ｄ）溶剤
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。



一般式（Ａ１）において、Ｒ_３は酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｒ_４は水素原子又は−ＣＯ_２Ｒ_５で表される基を表す。Ｒ_５は、ヘテロ原子を含んでもよい、１価の炭化水素基を表す。Ｒ_６は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表す。 （もっと読む）

【課題】リチウム塩を添加したとしてもイオン伝導性が低下しにくく、かつ優れた難燃性を有する電解質組成物を提供する。
【解決手段】下記成分Ａ及びＢを含有する電解質組成物。（Ａ）単官能（メタ）アクリル酸エステル、飽和カルボン酸ビニルエステル又はヒドロキシ基が置換していてもよいアルキルビニルエーテルに由来する繰り返し単位と、多官能（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位とを有する高分子化合物。（Ｂ）下記式（１）で表される化合物


〔式（１）中、Ｒ¹及びＲ²は、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、マスクブランクス、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。
【化１】
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【課題】初期接着性と応力緩和性の優れた粘着剤の原料となり得る、１つの重合物中に高分子量の重合体と低分子量の重合体を含み、かつ低分子量重合体の量が相対的に多い重合物を容易に製造しうる方法を提供すること。
【解決手段】アクリル系単量体と、重合開始剤の存在下で重合を開始し、次いで、単量体の重合率が使用する全単量体量に対し、５〜４０％となった時点で、全単量体に対し、０.１〜１０質量％の連鎖移動剤を、一括で若しくは６０分以内の時間をかけて添加することを特徴とする低分子量重合体と高分子量重合体を含み、低分子量重合体の方が多いアクリル系重合体の製造方法並びにこの方法により得られるアクリル系重合体およびこれを利用するアクリル系粘着剤組成物。 （もっと読む）

【課題】特定の構造単位を有する樹脂を含有する新規なポジ型レジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂と、酸発生剤とを含有するポジ型レジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ脂肪族炭化水素基を表すか、Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合し、それらが結合している炭素原子とともに環を形成する；Ｒ^３は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子；Ｔ^１は、２価の脂肪族飽和炭化水素基等；ｍは０又は１の整数を表す。］ （もっと読む）