【課題】パターン膜の形成工程において、２．３８質量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を現像液として用いても、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れたパターン膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、特定の共重合体よりなる成分（Ａ）、キノンジアジド基を有するエステル化物よりなる成分（Ｂ）、２個以上のエポキシ基を有する化合物よりなる成分（Ｃ）および特定のフェノール化合物よりなる成分（Ｄ）を含有する。各成分の構成割合は、成分（Ａ）１００質量部に対して成分（Ｂ）５〜５０質量部、成分（Ｃ）１０〜７０質量部および成分（Ｄ）１〜４０質量部である。 （もっと読む）

【課題】接着性に優れるとともに耐ブロッキング性にも優れた接着性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】ヘテロ原子を含む１，５−ジエン構造含有単量体およびヘテロ原子を含む１，６−ジエン構造含有単量体からなる群より選ばれた少なくとも１種のジエン構造含有単量体を含有する単量体成分を環化重合させることによって得られるヘテロ原子を含む環構造を主鎖に有する重合体および硬化剤を含有することを特徴とする接着性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ＩＡ）で表されるアニオンを有するヨードニウム塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。［式（ＩＡ）中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^２は、炭素数７〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数７〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^１及びＲ^２は互いに結合してＮとともに炭素数４〜２０の環を形成してもよい。］
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【課題】本発明の目的は、基材や下地などとの密着性が良好であり、膜硬度、耐熱性および耐酸性が高く、かつ透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い感光性樹脂組成物と、それを用いたタッチパネル用絶縁膜を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、多官能単量体（Ｃ）と、を含有する感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が一般式（１）で表される化合物（ａ１）と、化合物（ａ１）と共重合可能な他の化合物（ａ２）とを共重合してなる樹脂（Ａ１）を含み、多官能単量体（Ｃ）が、１分子中に７個以上のエチレン性不飽和結合を有することを特徴とする感光性樹脂組成物によって解決される。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位を、樹脂中の全繰り返し単位に対して６５モル％以上有し、かつ下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含む、パターン形成方法。
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【解決手段】酸不安定基で置換された（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の繰り返し単位及び／又は酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位と、マグネシウム、銅、亜鉛又はセシウムの（メタ）アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の塩の繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、ラインエッジラフネスが小さい特性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＢ、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なレジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料とすることができる。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造することができる化合物、樹脂、レジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す；Ｌ^１は、−ＣＯ−Ｏ−Ａ^１−^＊、−ＣＯ−Ｏ−Ａ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^３−^＊、−Ｂ^１−^＊又は−Ｂ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^４−^＊を表す；Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルカンジイル基、炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基、炭素数１〜８のアルカンジイル基と炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基とが組み合わさった基又はフェニレン基を表す；Ｂ^１及びＢ^２は、フェニレン基を表す；＊は−Ｏ−との結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた現像性を示し、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）色素多量体、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）有機溶剤を含有し、（Ｘ）色素骨格を含まない無機金属塩の染料固形分に対する含有量が０．１質量％以下である着色感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】長期間に渡って安定した電気特性を有し、かつブレードバイアスリークを抑制した現像ローラを提供する。
【解決手段】現像ローラの弾性層に、４級ピリジニウム塩および３級アミンからなる共重合体を含有する。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュード及び耐ドライエッチング性能に優れたネガ型パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位を、樹脂中の全繰り返し単位に対して６５モル％以上有し、かつ下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像し、ネガ型パターンを形成する工程を含む、ネガ型パターン形成方法。
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【課題】照明光反射が残る基板にも、良好なコンタクトホールパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｒ１−ａ）又は（Ｒ１−ｂ）の繰り返し単位（ａ）、下記一般式（Ｒ２）の繰り返し単位（ｂ）、下記一般式（Ｒ３）の繰り返し単位（ｃ）、（ｃ）と異なり且つ酸分解性基を備えた繰り返し単位（ｄ）による樹脂（Ａ）、活性光線又は放射線照射で酸を発生する化合物（Ｂ）、特定の化合物（Ｃ）を含有するレジスト組成物。
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【解決手段】環状構造を含む３級エステル型酸不安定基及び／又はアセタール型酸不安定基を有する繰り返し単位を含み、酸によってアルカリ現像液に可溶になる高分子化合物と、酸発生剤及び／又は酸と、アミノ基を有する化合物を発生させる光塩基発生剤と、必要により添加され、酸発生剤より発生する酸を中和することによって不活性化させるクエンチャーと、有機溶剤とを含むレジスト材料を基板上に塗布、露光、ベーク、アルカリ水現像によってネガパターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、未露光部と過露光部がアルカリ現像液に不溶で、中間の露光量部分だけ現像液に溶解するデュアルトーンの特性を有することができる。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物及び該レジスト組成物に含有される樹脂を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ａ^１は、単結合、^＊−Ａ^２−Ｏ−、^＊−Ａ^２−ＣＯ−Ｏ−、^＊−Ａ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^３−ＣＯ−Ｏ−又は^＊−Ａ^２−Ｏ−ＣＯ−Ａ^３−Ｏ−を表す。＊は−Ｏ−との結合手を表す。Ａ^２及びＡ^３は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキレン基を表す。］、当該樹脂を含有するレジスト組成物の提供。
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【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なエッチングレジスト用感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）カルボキシ基又はフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（ａ１）と、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位（ａ２）とを有する重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤、を含むことを特徴とするエッチングレジスト用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 高温高湿環境において高い帯電付与性を有し、さらに高温高湿環境に放置した後のゴースト画像が低減された、高品位の現像剤担持体を提供する。また、前記の現像担持体を用いることで高品位な電子写真プロセスカートリッジ、及び電子写真装置を提供する。
【解決手段】 ピリジニウム基と3級アミノ基を含有する共重合体と、ポリウレタンを含有する表面層を具備する現像剤担持体。 （もっと読む）

【課題】ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつＬＷＲ性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］炭素数５〜２１の直鎖状のアルキル基が結合している炭素原子と共に、核原子数４〜２０の２価の脂肪族環状炭化水素基又は脂肪族複素環基を側鎖に有するアクリル構造単位（Ｉ）を有する含フッ素重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性（ＣＤＵ）に優れ、欠陥の発生数も少ないレジストパターンを製造することができる樹脂及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位と、式（ａｂ）で表される構造単位とを有する樹脂及びこの樹脂を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^aa１及びＲ^ab1は、水素原子又はメチル基；Ｒ^aa2は、水素原子又はフッ化アルキル基；Ｒ^aa３はフッ化アルキル基；Ｒ^aa４は、酸の作用により、酸素原子との間の結合〔Ｏ−Ｒ^aa４〕が切断される１価の基；ｎ^aa１は１又は２；Ａ^aa１は、置換基を有していてもよい炭化水素基；Ａ^ab1は、置換基を有していてもよい炭化水素基；Ｒ^ab2は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】リソグラフィー性能を改善させると同時に、高い後退接触角を示し、更に、保護膜を用いる液浸露光及び保護膜を用いない液浸露光の両用においてブロッブ欠陥の発生を抑えることが可能なレジスト組成物及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が変化する高分子化合物（Ａ）、高エネルギー線に感応して下記一般式（１）で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤（Ｂ）、下記一般式（２）で示される高分子添加剤（Ｃ）とを含むことを特徴とするレジスト組成物。Ｒ^２００−ＣＦ_２ＳＯ_３Ｈ（１）
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【課題】解像性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】着色剤、樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含み、
樹脂が、不飽和カルボン酸に由来する構造単位を有する付加重合体に、オキシラニル基を有する不飽和化合物を反応させた樹脂を含み、
重合性化合物が、デンドリマーおよびハイパーブランチポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む重合性化合物である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）