【解決手段】下記一般式（１）で示されることを特徴とする重合性モノマー。


（式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基である。Ｒ²は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。Ｒ³は、酸不安定基である。ｍは、１〜４の整数である。）
【効果】本発明の重合性モノマーを（共）重合して得られる高分子化合物をベース樹脂とするポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、本発明によれば、特に超ＬＳＩ製造用又はフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料等として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】塗布面状が良好で、屈折率が低く、高温条件下においても屈折率変化が小さいパターン膜（以上、例えば、光学デバイスにおける反射防止膜に適した性能）であって、誘電率が低く、かつ、ヤング率が高いパターン膜（以上、例えば、半導体素子デバイス等における層間絶縁膜に適した性能）を、高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、及び、パターン膜を提供する。更に、該感光性組成物を用いて製造される反射防止膜及び絶縁膜、並びに、これらを用いた光学デバイス及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される１種又は２種以上のかご状シルセスキオキサン化合物から構成されるシルセスキオキサン類より得られる重合体と（Ｂ）光重合開始剤とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス。
（ＲＳｉＯ_１．５）_ａ 式（１）
（式（１）中、Ｒは、それぞれ独立に、有機基を表し、Ｒのうちの少なくとも２つは、重合性基を表す。ａは８〜１６の整数を表す。複数のＲは同一であっても異なっていてもよい。）
ただし、前記重合体には前記かご状シルセスキオキサン化合物由来の重合性基が残存している。 （もっと読む）

【課題】 ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立ラインパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含み、繰り返し単位（Ａ）の含有率が樹脂中の全繰り返し単位に対し、３０ｍｏｌ％未満である樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】再溶解性、微細パターンの実現能力に優れ、基板との密着力および分散安定性が改善されたアルカリ可溶性バインダー樹脂の提供。
【解決手段】不飽和二重結合を含んだモノマー、カルボン酸を含んだ不飽和二重結合性モノマー、およびアリル基を含む不飽和二重結合性モノマーを繰り返し単位として含み、分子量分布(Ｍｗ/Ｍｎ)が２.０〜３.５であることを特徴とするアルカリ可溶性バインダー樹脂およびこれを含むネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】耐溶剤性、成形流動性が改善された溶融成形用メタクリル系樹脂、及び加工安定性、耐糸曳き性に優れた溶融成形用メタクリル系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位：８０〜９８．５質量％と、前記メタクリル酸エステル単量体に共重合可能な、少なくとも１種の他のビニル単量体単位：１．５〜２０質量％とを含むメタクリル系樹脂であって、重量平均分子量（Ｍｗ）が１４００００〜２５００００であり、前記ＧＰＣの溶出曲線から得られるピーク重量平均分子量（Ｍｐ）の１／５以下の重量平均分子量成分が、前記メタクリル系樹脂中に２０％以上４０％以下含まれており、重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）の関係が、下記（ｉ）式を満たす溶融成形用メタクリル系樹脂。
３．０Ｍｗ／Ｍｎ５．５ ・・・（ｉ） （もっと読む）

【課題】画像表示装置等の光学機器を製造する際の加熱に対しても種々の光学的特性が安定している重合性液晶材料が硬化されてなる光学素子を製造する方法の提供。
【解決手段】支持体上に重合性液晶材料を塗布し、重合性液晶材料が所定の液晶規則性を有するように重合性液晶材料を硬化させて光学機能層を形成し、前記光学機能層の形成後に、熱処理後の前記光学機能層の膜厚をＡ、前記光学素子の熱処理の後に再度同じ温度で６０分間加熱した後の前記光学機能層の膜厚をＢ、とした場合に、（Ａ−Ｂ）／Ａで定義される前記光学機能層の膜厚減少率が、５％以下となるように、前記光学機能層を熱処理する、ことを含んでなり、前記重合性液晶材料が、特定の重合性液晶モノマーと、特定の重合性カイラル剤と、重合開始剤として２−メチル−１[４−(メチルチオ)フェニル]−２−モリフォリノプロパン−１−オンとを、質量比で１００：５：５の割合で含む。 （もっと読む）

【課題】表示装置に対して眼鏡の表面を水平に配置したまま回転する際、コントラスト及び色の変化が小さい立体表示システムが求められている。
【解決手段】右眼用画像と左眼用画像とを交互に表示する表示装置と、表示装置が交互に表示する画像と同期して動作する液晶シャッターとを備えた眼鏡とを含み、前記表示装置と前記眼鏡とがともに、位相差板を有し、表示装置が有する位相差板及び眼鏡が有する位相差板からなる群から選ばれる少なくとも１種が、式（１）を充足する位相差板である立体表示システム。Ｒｅ（４５１）＜Ｒｅ（５４９）＜Ｒｅ（６２８） （１）［式（１）中、Ｒｅ（ν）は、波長νｎｍにおける位相差値を表す。］ （もっと読む）

【課題】線幅感度が高く、直線性、および耐熱性に優れるポストベーク後の輝度低下が小さいパターンを形成しうる着色感光性樹脂組成物（好ましくは、カラーフィルタの着色画素などの形成に好適な紫外光レーザー露光用着色感光性樹脂組成物）、並びにそれを用いたパターン形成方法、およびカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、表示装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）分子内に少なくとも（B-1）下記一般式（Ｉ）で表される構造単位と、（B-2）酸性基を有する構造単位とを有するバインダー樹脂、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）オキシム系光重合開始剤、及び（Ｅ）溶剤を含有する着色感光性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】各種特性の優れたレジスト保護膜組成物を提供する。
【解決手段】化学式１の化合物をモノマー成分とする化学式１−ａの繰り返し単位を有する共重合体を含むレジスト保護膜組成物。
（もっと読む）

【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するレジストパターンが得られるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（ａ１−１）で表されるモノマーに由来する構造単位を含む樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ）で表される塩と、を含有するレジスト組成物。［Ｌ^a1は、−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ₂）_k1−ＣＯ−Ｏ−を表す。Ｒ^a4は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^a6は、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基又は炭素数３〜１０の飽和環状炭化水素基を表す。Ｗ^１は、窒素原子を含む炭素数２〜１３の芳香族複素環又は置換基として−ＮＲ^１Ｒ^２基を含む炭素数６〜１４の芳香族炭化水素環を表す。Ｚ_１^＋は、有機対カチオンを表す。］
（もっと読む）

【課題】良好な解像性、並びにその硬化物における良好な電気絶縁特性及び強度を示すポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）キノンジアジド基を有する化合物、（Ｃ）分子中に少なくとも２つのアルキルエーテル化されたアミノ基を有する化合物、（Ｄ）下記一般式（１）で表される構成単位（ｄ１）及び不飽和カルボン酸から誘導される構成単位（ｄ２）を含み、質量平均分子量が２万〜５０万であるアクリル樹脂、及び（Ｓ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物を使用する。一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ^２は独立に炭化水素基を表し、ｐは０〜３を表す。
（もっと読む）

【課題】新規な化合物と、該化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、該樹脂を含むレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、Ｗ^１は、炭素数３〜３６の飽和炭化水素環を表す。Ａ^１は、単結合又は炭素数１〜１７の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基を表す。］
（もっと読む）

【課題】低いエネルギーの光照射でも良好な硬化性を有し、湿気硬化により十分な硬化膜を形成し得る光及び湿気硬化型組成物の提供。
【解決手段】（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物（Ａ）、ブロックアミン化合物（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有してなる光及び湿気硬化型組成物。
前記（Ａ）成分としては、２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物が好ましい。前記（Ｂ）成分としては、第１級及び／又は第２級アミンとケトン又はアルデヒドとの脱水反応物、さらにはケチミンが好ましい。 （もっと読む）

【課題】コンタクトホールパターン形成時のパターンの側壁の垂直性が良化し、ＥＤＷが拡大し、サイドローブ耐性が向上し、かつ経時保存後のレジスト溶液中でのパーティクルの増加が著しく低減された化学増幅型レジスト組成物、並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）硫黄原子を有する特定の構造のベンゾイミダゾール系塩基性化合物を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】微生物の付着抑制能に優れ、かつ、環境に与える影響が小さく、低コストで製造可能な微生物付着抑制材料、並びに該微生物付着抑制材料を用いた微生物付着抑制基材、バイオリアクター、及び農業用被覆材の提供。
【解決手段】少なくとも炭素、水素、酸素原子を含み、かつ、合計原子量が１００以上であるペンダント基を側鎖に有するポリマーを含有する微生物付着抑制材料、並びに微生物付着抑制基材、バイオリアクター、及び農業用被覆材である。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させずに、重合体中に残存する未反応の単量体成分を低減できる重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】重合溶媒中にて、重合開始剤の存在下で、単量体を重合反応させて重合体を生成する重合工程と、前記重合工程で得られた反応溶液を貧溶媒中に供給して再沈殿させる精製工程を有する、重合体の製造方法であって、前記重合工程において、前記単量体の一部または全部が滴下により供給され、かつ前記重合反応に供される、重合溶媒の質量が単量体全体の質量の２．０倍以下であることを特徴とする重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】塗布膜厚の均一性が改善され、且つ、液浸露光により形成されたパターンのウエハー面内における寸法均一性に優れるパターンを提供可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ａ１）で表される繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び（Ｃ）フッ素原子を有する基で置換されたラクトン構造を有する繰り返し単位を含む樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基、フッ化アルキル基、ハロゲン原子又はＣＨ_２ＯＨを表す。Ｒ_２はアルキレン基、シクロアルキレン基、またはそれらを組み合わせた２価の連結基を表す。ｎは０〜５の整数を表す。ｎが２以上の場合、複数のＲ_２は同一でも異なっていてもよい。）
【化１】
（もっと読む）

【課題】撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィー用レジスト保護膜材料、更にはこの材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも、側鎖にヘキサフルオロヒドロキシプロピル基を有する（メタ）アクリレート単位、側鎖にフッ素含有環状エーテル構造含有基を有する（メタ）アクリレート単位、及び側鎖にスルホン酸基を有するビニルモノマー単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲内である高分子化合物を含むものであることを特徴とするレジスト保護膜材料。 （もっと読む）

【課題】塗料等に配合されたとき耐光性、耐候性等の物性を良好かつ持続的に発揮することができるオリゴマー被覆金属酸化物微粒子を提供する。
【解決手段】オリゴマー被覆金属酸化物微粒子は、酸化チタン等の金属酸化物微粒子の表面にシリケートオリゴマーによる被覆層が形成されたものである。シリケートオリゴマーとしては下記の化学式（１）で表される化合物であることが好ましい。


但し、Ｒはアルキル基、ｎは平均値として２〜３０である。
さらに、ヒンダードアミン系光安定剤とシランカップリング剤とが結合されて構成されているシランカップリング剤含有光安定剤重合体が前記シリケートオリゴマーと反応して結合されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンを形成する際の露光マージン（ＥＬ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）に優れるレジスト組成物用の重合体を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される基及び式（ＩＩ）で表される基を有する重合体。［Ｒ^１は炭素数１〜６のフッ化アルキル基を表す。Ｒ^２は置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^３は置換基を有してもよい炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。Ｂ^１は単結合、−（ＣＨ_２）ｍ−ＳＯ_２−Ｏ−^＊１又は−（ＣＨ_２）ｍ−ＣＯ−Ｏ−^＊１を表す。］
（もっと読む）