【課題】液浸露光時において被膜表面の疎水性を高くしつつ、現像不良による欠陥の発生を抑制でき、しかもリソグラフィ性能に優れたレジスト被膜を形成する。
【解決手段】下記一般式（１）又は（２）で表される基を有する繰り返し単位（ａ１）とフッ素原子とを有する重合体（Ａ）を、重合体全量に対して０．１質量％以上２０質量％未満含むことを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。
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【課題】界面活性能を有する特定の非フッ素化化合物を用いて、重合生成物の付着が少なく、重合速度も速い含フッ素重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）：
［化１］


（式中、Ｒ^１およびＲ^２は同じかまたは異なり、いずれも炭素数４〜１２の非フッ素系化飽和炭化水素基であり；Ｍはアルカリ金属、アンモニウム塩またはアミン塩である）で示される化合物（１）の存在下に、フルオロオレフィンを水性分散重合することを特徴とする含フッ素重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた形状のレジストパターンを製造できる新規な樹脂、及び、該レジスト組成物などを提供する。
【解決手段】〔１〕式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂。


［式中、Ａ^１は、アルカンジイル基、単結合などを表し、Ａ^２は、アルカンジイル基などを表す。Ｗ^１及びＷ^２は、炭素数４〜３６の脂環を表す。ｓは、１又は２を表す。］〔２〕〔１〕の樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】材料の表面に塗布する抗菌剤用組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）：


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２はフルオロアルキル基を、Ｒ^３Ｒ^５は水素原子等を、Ｒ⁶は単結合、２価の有機基を表す。）で表される含フッ素重合性化合物を含む抗菌剤用組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのＬＷＲに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］下記式（２）で表される化合物を含む酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】有機溶剤への再分散性に優れた樹脂粒子を提供することを課題とする。
【解決手段】ビニル系単量体１００重量部と、エーテル基と水酸基またはエステル基と水酸基とを含む（メタ）アクリレート系単量体０．１〜３０重量部と、リン酸部分エステル系単量体０．０１〜１重量部とを含む混合物の重合体であることを特徴とする樹脂粒子により課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】界面活性能を有する特定の非フッ素系化合物を用いて、重合生成物の付着が少なく、重合速度も速い含フッ素重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）：


（式中、Ｒ¹およびＲ²は同じかまたは異なり、いずれも炭素数４〜１２の非フッ素系飽和炭化水素基；Ｍはアルカリ金属、アンモニウム塩またはアミン塩）で示される化合物（１）の存在下に少なくとも１種のフルオロオレフィンを含む単量体を水性分散重合することを特徴とする含フッ素重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターン加工性に優れ、ＵＶ硬化および熱硬化により高硬度、高透明であり、耐薬品性の優れる硬化膜を与える、アルカリ現像可能なネガ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ｂ）光ラジカル重合開始剤、（Ｃ）多官能モノマーおよび（Ｄ）下記式（１）〜（３）のうちいずれか１種類以上の官能基を有するシランカップリング剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物であって、（Ａ）カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂が、（ａ−１）カルボキシル基とラジカル重合性基を有するポリシロキサンおよび／または（ａ−２）カルボキシル基を有するアクリル樹脂とラジカル重合性基を有する一置換エポキシ化合物とを反応させて得られるアクリル樹脂であるネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】長期間の保存においても、液中パーティクルの発生が抑制され、また、優れた放射線感度、露光時の高い後退接触角等特性の経時変動が小さい、保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、［Ａ］塩基解離性基を含む構造単位（ｆ）を有する含フッ素重合体を含有し、水の含有量が３質量％以下である感放射線性樹脂組成物である。上記構造単位（ｆ）の塩基解離性基がフッ素原子を有することが好ましく、上記塩基解離性基がフッ素原子を有する芳香族炭化水素基であることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物
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【課題】軟化点が高く、感度が高いレジスト膜を作製できる高分子化合物の提供。
【解決手段】基材成分が、酸の作用により極性が増大するアクリル酸エステルからなる構成単位と、露光により酸を発生する構成単位（ａ３−０）とを有する高分子化合物を含有するレジスト組成物。
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【課題】長期間の保存においても、液中パーティクルの発生が抑制され、また、優れた放射線感度、露光時の高い後退接触角等特性の経時変動が小さい、保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、［Ａ］塩基解離性基を含む構造単位（ｆ）を有する含フッ素重合体を含有し、金属の合計含有量が３０質量ｐｐｂ以下である感放射線性樹脂組成物である。上記金属が、ナトリウム、マグネシウム又は鉄であり、このナトリウム、マグネシウム又は鉄の各含有量がそれぞれ３質量ｐｐｂ以下であることが好ましい。上記構造単位（ｆ）の塩基解離性基がフッ素原子を有することが好ましく、上記塩基解離性基がフッ素原子を有する芳香族炭化水素基であることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】長期間の保存においても、液中パーティクルの発生が抑制され、また、優れた放射線感度、露光時の高い後退接触角等特性の経時変動が小さい、保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、［Ａ］塩基解離性基を含む構造単位（ｆ）を有する含フッ素重合体を含有し、分子量１，０００以下の［Ａ］含フッ素重合体の含有量が０．０２質量％以下である感放射線性樹脂組成物である。上記構造単位（ｆ）の塩基解離性基がフッ素原子を有することが好ましく、上記塩基解離性基がフッ素原子を有する芳香族炭化水素基であることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）を十分に満足するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位とラクトン環を有する構造単位とを含む樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】
耐熱性とともに透明性にも極めて優れた塗膜を形成しうる重合体、および該重合体を用いた硬化性樹脂組成物、および該重合体や該硬化性樹脂組成物を用いた積層体を提供する。
【解決手段】（ａ）２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステルのエーテルダイマーである特定の単量体と、（ｂ）カルボキシル基を含有する不飽和単量体と、（ｃ）水酸基を含有する不飽和単量体を必須成分として重合してなる重合体。 （もっと読む）

【課題】得られるパターンのラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）が良好なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位及び酸に不安定な基を有するモノマー（ａ１）に由来する構造単位を有する重合体（ＩＩ）と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^３は、置換基を有してもよい炭素数１〜１２の炭化水素基又はシアノ基を表し、該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。Ａ¹は、単結合又は−（ＣＨ_２）_ｍ１−ＣＯ−Ｏ−＊、−（ＣＨ_２）_ｍ２−ＯＣＯ−（ＣＨ_２）_ｍ３−ＣＯ−Ｏ−＊を表す。ｍ１、ｍ２およびｍ３は、それぞれ１〜６の整数を表す。＊は、Ｎとの結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】柔軟性およびクッション性に優れ、圧縮歪回復性に優れた、高回復性発泡体を提供する。
【解決手段】混合シロップ、アクリルモノマー、ウレタンアクリレートと、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキサイドからなるＷ／Ｏ型エマルションを基材に塗布し、ポリエチレンテレフタレートフィルムを被せ、紫外線を照射し、得られた高含水架橋重合体を加熱して得られる、球状気泡を有する発泡体を含み、５０％圧縮状態において８０℃で２４時間保存した後に２３℃まで冷却し、その後、該圧縮状態を解いて１時間経過した時の、５０％圧縮歪回復率が８０％以上である高回復性発泡体。 （もっと読む）

【課題】ドライ露光、液浸露光、ダブルパターンニングに適するレジスト用重合体、それを含むレジスト材料、ならびにそのレジスト材料を用いるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）：


の繰り返し単位と、酸分解性基を有する繰り返し単位を含有する重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】イマージョンリソグラフィ工程において使用される溶媒に対して安定であり、感度、レジストパターンプロファイル形状に優れるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ１）酸解離性溶解抑制基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位、（ａ２）ラクトン単位を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位、並びに（ａ４）多環式基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位を有し、かつ（ａ０）（ａ０−１）ジカルボン酸の無水物含有構成単位及び（ａ０−２）フェノール性水酸基含有構成単位を有さない、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を溶解する有機溶剤（Ｃ）と、含窒素有機化合物（Ｄ）とを含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガス性能が充分に良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、１級又は２級の水酸基を備えた繰り返し単位（Ｃ）とを含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。 （もっと読む）