【課題】耐熱性が高く、吸湿性が低く、しかも金属触媒を用いずに製造できる重合体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示される脂環式単量体（Ａ）に由来する構成単位を含むことよりなる。
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【課題】金属含有量が高く、簡便に調製することのできる有機無機複合体を提供することであり、且つ、クロスカップリング反応に対して高活性・高耐久性で、反応系内に漏出する金属量の少ない不溶性固体触媒として機能する有機無機複合体、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】重合性組成物（Ａ）の重合体（Ｐ_Ａ）と金属ナノ粒子との複合体であって、該重合性組成物（Ａ）が、（１）アミノ基、イミノ基、ウレア結合又はアミド結合と、ビニル基とを有する重合性化合物（ａ）と、（２）分岐していてもよい炭素数４〜１２のアルキレン基及び２個以上のビニル基を有する重合性化合物（ｂ）と、を含むことを特徴とする有機無機複合体。 （もっと読む）

【課題】形成されるパターン上において異物の発生が少ない着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、樹脂、光重合性化合物及び光重合開始剤を含み、着色剤が、キサンテン染料を含む着色剤であり、樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種に由来する構造単位と、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドに由来する構造単位とを有する共重合体である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、良好な感度に加え、未露光部の膜厚変化量が少ない感放射線性樹脂組成物、この感放射線性樹脂組成物から形成される表示素子用層間絶縁膜、並びにその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］同一又は異なる重合体分子中に、下記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）及びエポキシ基を有する構造単位（ＩＩ）を含み、構造単位（Ｉ）の含有率が１０モル％以上９０モル％以下である重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である。現像前の塗膜の膜厚Ｔ_０に対する現像後の膜厚Ｔ_１の膜厚変化率は、９０％以上であることが好ましい。
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【課題】良好な加工性を維持しつつ、低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性を向上できるタイヤ用ゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ジエン系重合体とシリカと式（Ｉ）で表される化合物とを含み、前記ジエン系重合体が、（Ａ）と（Ｂ）を反応させて得られる変性されたジエン系重合体であるタイヤ用ゴム組成物。（Ａ）：（Ｃ）の存在下に、共役ジエンモノマー又は共役ジエンモノマーと芳香族ビニルモノマーとを重合させることにより得られるアルカリ金属末端を有する活性共役ジエン系重合体（Ｂ）：官能基を有する変性剤（Ｃ）：式（１）で表される化合物と有機アルカリ金属化合物を反応させて得られる化学種


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【課題】優れた露光マージン（ＥＬ）を有するレジストパターンの提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩と、式（ＩＩ）で表される塩と、樹脂とを含有するレジスト組成物。




［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、フッ素原子等を表す。Ｘ^１及びＸ^２は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基等を表す。ｎは１又は２を表す。（Ｚ^１）^＋及び（Ｚ^２）^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】高い流動性、加工性、耐衝撃性、耐溶剤性、耐熱性を有するアクリル系樹脂を得
る。
【解決手段】ＪＩＳ−Ｚ８８０１に基づく篩を用いて篩い分けを行ったときの、
５００μｍ以上の粒子径の粒子の重量平均分子量（Ａ）と、
３５５μｍ〜３００μｍの粒子径の粒子の重量平均分子量（Ｂ）と、
１５０μｍ以下の粒子径の粒子の重量平均分子量（Ｃ）と、
において、下記関係式（１）、（２）を満たすアクリル系樹脂。
０≦｜[（Ａ）−（Ｂ）] ／（Ｂ）｜×１００（％）≦１０ ・・・（１）
０≦｜[（Ｃ）−（Ｂ）] ／（Ｂ）｜×１００（％）≦１０ ・・・（２） （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｒ^１−５、Ｌ^１−ＣＨ_２−、Ｙは特定の基。］ （もっと読む）

【課題】 離型性に優れ、さらには、低ソリ性、低反射率、優れた耐傷性を有する硬化性樹脂組成物、その硬化物、このような硬化性樹脂組成物の硬化物を有してなる微細凹凸構造物品、および反射防止板を提供する。
【解決手段】
下記式（１）：
【化１】


（式中、Ｒ^１は炭素数２〜８のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子またはメチル基、ｍは正の整数である）で示される繰り返し単位を有するビニル系重合体を含有するナノインプリント用硬化性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】簡便かつ効率的な、金属不純物量が極めて少ない半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法及び該共重合体を製造するための重合開始剤の精製方法の提供。
【解決手段】本発明の重合体の製造に用いる重合開始剤の精製方法は、有機溶剤に溶解された重合開始剤の溶液を、公称孔径が１．０μｍ以下のフィルターに通液させて、重合開始剤溶液のナトリウム含有量を、重合開始剤の質量に対して、３００ｐｐｂ以下に低減させる、通液工程を含んでなるものである。さらに、本発明の半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法は、上記の精製方法により精製された重合開始剤の存在下、ラジカル重合反応により、該半導体リソグラフィー用重合体を合成する、重合工程を含むものである。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの製造時のフォーカスマージンが良好であり、且つ欠陥が少ないレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤、レジスト組成物等の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩及びこの塩を含む酸発生剤とレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の炭素数１〜２０の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｗは、式（Ｗ１）〜式（Ｗ５）から選ばれる式で表される基；Ｚ^１＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性が良好で、かつ欠陥が少ないパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１は、スルトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（１−１）で表される化合物［式中、Ｒ^１、Ｒ^３はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基であり、Ａは２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^４はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式（１−ａｎ１）、（１−ａｎ２）又は（１−ａｎ３）で表される基である。n０は０又は１である。Ｙ¹は単結合又は−ＳＯ_２−であり、Ｒ^５はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基、又は炭素数３〜２０の環状の部分構造を有する１価の炭化水素基である。Ｍ^＋は有機カチオン又は金属カチオンである］。
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【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有し、かつ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−又は−（ＣＨ_２）_ｍ４−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ５−を表す。ｍ１〜ｍ５は、それぞれ独立に、１〜６の整数を表す。Ｒ²は、フッ素原子を有する炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、湿式現像処理工程を経ることなくネガ型画像を形成することを可能とする感光性組成物と、該感光性組成物用いた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 （Ａ）下記式（Ｉ）
【化１】


（式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。）
の構造を有する繰り返し単位を共重合成分として６０〜９５モル％含有する高分子化合物を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１は、置換基を有していてもよいスルトン環；Ｚ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｚ^２は、単結合又はカルボニル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高い光硬化感度を有し、長期に保存しても、光硬化感度の変動が少なく、高い出射安定性が得られる活性エネルギー線硬化型インクジェットインク及びインクジェット記録方法を提供すること。
【解決手段】それぞれ重合性不飽和結合を有する少なくとも２種の重合性化合物を含有する活性エネルギー線硬化型インクジェットインクにおいて、該少なくとも２種の重合性化合物が有するそれぞれの重合性不飽和結合を構成する炭素原子の電荷の差の最大値が、０．２４以上、０．４０以下であり、さらに該インクが、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の酸価、および０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のアミン価を有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインク。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れが少ないレジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１はスルトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】従来から知られる酸発生剤を含有するレジスト組成物では、得られるレジストパターンのマスクエラーファクター（ＭＥＦ）が必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、該飽和炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）