【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される酸によって分解しカルボキシル基を生じる繰り返し単位（ａ１）を有する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）カルボキシ基又はフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（ａ１）と、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位（ａ２）と、アミノ基、アミド基、イミド基、スルホンイミド基、スルホンアミド基、イミノ基、ウレタン結合及びウレイド結合よりなる群から選ばれた構造を有するモノマー単位（ａ３）と、を有する重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤、を含むことを特徴とする
ポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体形成用塗布液の調製のために好適なポリマー組成物を製造するための手段を提供すること。
【解決手段】ポリマー組成物の製造方法。前記ポリマー組成物は、所定の４種のモノマー（モノマー１〜４）を含む原料モノマーの重合反応により得られるポリマーを含み、モノマー１を水または水とアルコールとの混合溶媒に添加して調製した溶液Ａと、モノマー２、３および４をケトン系溶媒に添加して調製した溶液Ｂとを混合して原料モノマー混合液を調製し、該原料モノマー混合液中で前記重合反応を行う。 （もっと読む）

【課題】膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも一種類の基を有し、且つ、数平均分子量が２，０００乃至３０，０００であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）成分：一分子の末端に２個以上の不飽和基を有する化合物、
（Ｃ）成分：光酸発生剤、
（Ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いて得られる硬化膜。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高速応答が可能であり、かつ電圧保持率、残像特性及び耐光性に優れた液晶表示素子を作製することができ、均一塗布性にも優れる液晶配向剤を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］ポリアミック酸、ポリイミド、（メタ）アクリル重合体、ポリシロキサン及びポリアミック酸エステルからなる群より選択される少なくとも１種の重合体を含有し、かつ上記重合体が下記式（１）で表される基を有する液晶配向剤である。上記Ｒ^３は、下記式（２）で表される基であることが好ましい。
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【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、露光ラチチュード及びドライエッチング耐性に優れ、かつ露光により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）、及び酸の作用により分解してアルコール性水酸基を生じる基と多環の脂環式炭化水素基とを有する繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ｐ）並びに活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】高収率で、分子量分布が狭い樹脂を製造することができるレジスト組成物用樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】溶解度パラメーターが１１．８〜１３．０[ｃａｌ／ｍｏｌ]^１／２の範囲内である溶剤（１）中に、アセチル基含有溶剤である溶剤（２）［ただし溶剤（１）とは異なる。］、モノマー及び重合開始剤を添加する工程、好ましくは、溶剤（２）、モノマー及び重合開始剤を混合してなる混合物を滴下する工程を有するレジスト組成物用樹脂の製造方法の提供。 （もっと読む）

【課題】感度等基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲに優れる感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及びトリフェニルスルホニウム塩系の感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】インクジェット法に適用した場合の吐出性に優れ、記録した画像の耐溶剤性及び定着性に優れたインク組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）下記一般式（１）で表される化合物と、（ｂ）水とを含む、インク組成物。


（一般式（１）において、Ｔは炭素数３〜４０の多価チオール化合物のチオール基から水素原子をｎ個除いた残基を表し、Xp1は、下記一般式（Ｐ−１）で表される基を有する重合体部位を表し、ｎは３〜１２の整数である。）
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【課題】高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できるレジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクスを提供することにある。
【解決手段】非酸分解性の多環脂環炭化水素構造を有する基で、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物（Ａ）、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）、及び、酸の作用により前記高分子化合物（Ａ）を架橋する架橋剤（Ｃ）を含有する、ネガ型化学増幅型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程（１）、該膜を露光する工程（２）、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程（４）をこの順番で有する、レジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクス。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れ、ＬＷＲが改善され高解像度のフォトレジストパターンを形成するフォトレジスト組成物用の高分子化合物の原料として有用なアクリル酸エステル誘導体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ^１は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表し、Ｒ^４およびＲ^６はそれぞれ独立した基を表すか、またはＲ^４およびＲ^６は両者が結合して炭素数１〜３のアルキレン基、−Ｏ−、若しくは−Ｓ−を表す。Ｒ^１１は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜１０の環状炭化水素基を表す。）で示されるアクリル酸エステル誘導体。 （もっと読む）

【課題】ゲルおよびオリゴマー成分をほとんど含まず、塗料、分散剤、感光性樹脂などに使用することができる高分子量の水溶性重合体の提供。
【解決手段】ヒドロキシエチル基を含む特定の構造のアクリル酸エステル又はＮ−置換アクリルアミド単量体（Ａ）と、単量体（Ａ）と共重合可能な単官能単量体（Ｂ）（単量体（Ａ）を除く。）とをモル比（Ａ）／（Ｂ）＝７０／３０〜１００／０で重合して得られ、重量平均分子量が５００，０００〜１０，０００，０００であり、ゲル分率が１％以下である水溶性重合体。 （もっと読む）

【課題】シートアタックを防止し、グリーンシートの密度を高め、シート上のピンホールの発生を抑制できる積層セラミック電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】共通共重合体を含み、第１溶剤とを有する第１塗料を準備する工程と、第２溶剤とを有する第２塗料を準備する工程と、第１塗料を用いて第１グリーンシート２０を形成する工程と、該表面に、第２塗料を塗布して第２グリーンシート２１を形成する工程と、を有し、共重合体がアルキルメタアクリレートと下記のヒドロキシアルキルメタクリレートとを含む共重合体である。
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【課題】光学特性、耐熱性、透明性、低吸水性、成形時の離型性に優れ、金型からのバリが少ない硬化性樹脂組成物、その硬化物、光学物品を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリル酸エステル（ａ）、水酸基を含有する単官能（メタ）アクリル酸エステル（ｂ）、２官能（メタ）アクリル酸エステル（ｃ）、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン（ｄ）とチオール化合物（ｅ）を含む成分を共重合して得られる共重合体であって、側鎖に（ｃ）由来の反応性の（メタ）アクリレート基を有し、末端に（ｄ）及び（ｅ）由来の構造単位を有する共重合体であり、Ｍｗが２０００〜６００００であり、有機溶媒に可溶である可溶性多官能（メタ）アクリル酸エステル共重合体、（Ｂ）成分：５官能以上の多官能（メタ）アクリレ−ト及び（Ｃ）成分：開始剤を含有する硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】線幅感度が高く、直線性に優れ、現像におけるしわ発生が抑制され、耐熱性に優れた硬化膜が形成され、ポストベーク後の輝度低下が小さいパターンを形成しうる着色感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）分子内にアリルメタクリレート化合物からなる構造単位、及びＮ位−置換マレイミド基を有するアクリレート化合物構造単位から選択される構造単位を含むバインダー樹脂、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）チオフェンを含むカルバゾール構造を有するオキシム化合物からなる光重合開始剤、及び（Ｅ）溶剤を含有し、（Ｄ）光重合開始剤の含有量が、５質量％〜１５質量％である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】粒子径が１０ｎｍから１０μｍの範囲にある単分散性に優れたポリビスマレイミド架橋微粒子とその製造方法を与えることを目的とする。
【解決手段】下記一般式Ｉで示される繰り返し単位と一般式IIの繰り返し単位を併せ有するポリビスマレイミド架橋微粒子であり、該架橋微粒子は分散重合法により製造される。
【化１】


【化２】


（一般式ＩおよびIIにおいて、Ｑ_１は共に同一である２価の連結基を表す。） （もっと読む）

【課題】極性モノマーのグラフト率が高く、かつ、メルトフローレートの上昇が抑制された変性ポリオレフィン系樹脂を提供する。
【解決手段】ポリオレフィン系樹脂（Ａ）と、少なくとも１種の不飽和基（ａ）と少なくとも１種の極性基（ｂ）とを有する化合物（Ｂ）と、下記一般式（１）で表されるトリビニル化合物（Ｃ）と、有機過酸化物（Ｄ）と、を反応させて得られる変性ポリオレフィン系樹脂。


［式中、Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜２５のアルキル基、及び、炭素原子数３〜２５のシクロアルキル基からなる群から選択されるいずれか１種の基を示す。］ （もっと読む）

【課題】従来の酸発生剤を含むレジスト組成物では、得られるレジストパターンのラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、
Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基を表すか、又は、Ｒ^１及びＲ^２は互いに結合し、それらが結合している炭素原子とともに炭素数５〜２０の脂肪族環を形成する。
Ｒ^３及びＲ^４は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｘ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、該飽和炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。
Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、塩基性化合物成分（Ｃ）、光増感剤（Ｇ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、塩基性化合物成分（Ｃ）が、式（ｃ１）〜（ｃ３）で表される化合物からなる群から選ばれる１つ以上を含む［式中、Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Ｚ^２ｃは置換基を有していてもよいＣ１〜３０の炭化水素基（ただし、Ｓに隣接する炭素にはフッ素原子は置換されていない）であり、Ｒ^２は有機基であり、Ｙ^３はアルキレン基またはアリーレン基であり、Ｒｆはフッ素原子を含む炭化水素基であり、Ｍ^＋は芳香族性を有しないスルホニウム又はヨードニウムカチオンである。］
[化１]
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【課題】粒子径が１０ｎｍから１０μｍの範囲にある単分散性に優れたポリマレイミド微粒子とこれの製造方法を与えること。
【解決手段】下記一般式Ｉで表される繰り返し単位を有するポリマレイミド微粒子であり、これを分散重合法により合成するポリマレイミド微粒子の製造方法。
【化１】


（一般式ＩにおいてＲ_１は置換基を有していても良いアリール基もしくは置換基を有していても良いアルキル基を表し、これらは互いに連結して１個の置換基を形成していても良い。） （もっと読む）