【課題】電気容量を小さくできる層間絶縁膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。また、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、及び、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）〜式（ａ４）で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、（成分Ｂ）式（Ｂ）で表されるオキシムスルホネート化合物、（成分Ｃ）塩基性含窒素環状化合物、及び、（成分Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置。
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【課題】液浸露光時において被膜表面の疎水性を高くしつつ、現像不良による欠陥の発生を抑制でき、しかもリソグラフィ性能に優れたレジスト被膜を形成する。
【解決手段】重合体成分を含有し、当該重合体成分中に、下記式（１）で表される繰り返し単位（ａ１）と、式（Ｆ１−１）、式（Ｆ１−２）及び式（Ｆ１−３）で表される繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも１つの繰り返し単位（ｆ１）と、を有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
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【課題】長期の使用に対しても液晶の配向性能が維持されるような長期の耐久性を有する液晶表示素子を得るための液晶配向剤を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和単量体に由来する繰り返し単位を有する重合体を含有し、前記繰り返し単位が、窒素原子に隣接する２つの炭素原子がそれぞれ下記式（Ｓ）で表される置換基２個を有している環状アミン構造、又は水酸基に対してオルト位の炭素原子のうち少なくとも１つの炭素原子が下記式（Ｓ）で表される置換基を有しているフェノール構造を有する。
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【解決手段】（Ａ）側鎖に、特定の構造のフッ素化部分構造を有する高分子化合物、（Ｂ）ベース樹脂として、ラクトン環由来の骨格及び／又は水酸基を有する骨格及び／又は無水マレイン酸由来の骨格を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、及び（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料を用いて形成したフォトレジスト膜は、水に対する良好なバリアー性能を有するため、フォトレジスト材料の水への溶出を抑制することができ、このため、溶出物によるパターン形状変化を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用クエンチャーとして好適な化合物、該クエンチャーを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、下記一般式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）を含む含窒素有機化合物成分（Ｃ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（ただし、前記化合物（Ｃ１）を除く）を含有することを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ^Ｎは置換基を有していてもよい含窒素複素環式基であり；Ｘ^０は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状の２価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の環状若しくは環状の部分構造を有する２価の脂肪族炭化水素基、又はこれらの水素原子の一部若しくは全てがフッ素原子で置換された基であり；Ｍ^＋は有機カチオンである。］。
［化１］
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【課題】優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂と（Ｂ）酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^２は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを製造することができる酸発生剤、およびそれを含むレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、単結合又は２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基等を表す。Ｙは、炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基等を表す。Ｚ^１+は、ピリジン環を有する有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光に於いても、プロファイルの劣化が少なく、パターン倒れが改良され、スカムの発生が抑制された、レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）疎水性樹脂及び
（Ｄ）溶剤を含有し、樹脂（Ａ）の重量平均分子量と疎水性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量との差が、下記式を満たすレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
樹脂（Ａ）の重量平均分子量 − 疎水性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量 ≧３０００ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンで、レジストパターンを製造できるレジスト組成物及び該レジスト組成物に有用な樹脂などを提供する。
【解決手段】以下の〔１〕及び〔２〕の提供。〔１〕式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂及び当該構造単位を誘導する化合物。


［式（ａａ）中、Ｔ^１は、置換基を有していてもよい炭素数４〜３４のスルトン環基。Ｒ^aは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基。Ｚ^１は、＊−Ｘ^１−ＣＯ−（但し、Ｘ^１は、炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基）で表される基などを表す。］〔２〕前記樹脂と、酸発生剤と、溶剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性のパターンを製造できるレジスト組成物及び該組成物に有用な樹脂の提供。
【解決手段】式（ａａ）で表される構造単位を有する樹脂及び該樹脂、酸発生剤、溶剤とを有する組成物。


［式（ａａ）中、Ｔ^１は、置換基を有していてもよいスルトン環基を表す。］ （もっと読む）

【課題】色度特性に優れ、コントラストが高く、しかも耐熱性、耐溶剤性の良好なカラーフィルタを製造することができる着色組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）顔料を含む着色剤、（Ｂ）下記式（１）で表される繰り返し単位（１）と、下記式（２）で表される繰り返し単位（２）と、架橋性官能基を有する繰り返し単位（３）を含み、前記繰り返し単位（２）の共重合割合が、前記繰り返し単位（１）及び前記繰り返し単位（３）を除く全繰り返し単位中９０質量％以上である共重合体、（Ｃ）架橋剤、を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物。
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【課題】ＰＥＢ温度が低温であっても、感度等に優れ、ＬＷＲ、ＤＯＦ等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】映像品位に関して輝度やコントラストに悪影響を及ぼさず、透明性、接着信頼性、耐久性に優れるとともに、リワーク（修復）に適した紫外線硬化型光学樹脂接着剤組成物を提供する。
【解決手段】画像表示パネルと保護カバープレートとの間の隙間を埋めるための光学樹脂接着剤組成物であって、側鎖に（メタ）アクリロイル基を有するアクリル系重合体（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）とを必須成分とする紫外線硬化型光学樹脂接着剤組成物である。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜上に、リソグラフィー特性を損なうことなく被覆膜を形成できるレジスト被覆膜形成用材料、および該レジスト被覆膜形成用材料を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）が有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト被覆膜形成用材料であって、前記樹脂成分（Ａ）が、アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ）を７５〜１００モル％の割合で有する樹脂成分（ただし下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有するものを除く。）であり、前記有機溶剤（Ｓ）が、水酸基を有さないエーテル系有機溶剤およびアルコール系溶剤からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶剤（Ｓ１）を含有することを特徴とするレジスト被覆膜形成用材料。
［化１］
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【課題】ＥＵＶリソグラフィー又は電子線リソグラフィーに用いられる高感度のレジスト組成物を提供する。
【解決手段】以下の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）及び（Ｅ）を含むレジスト組成物の提供
（Ａ）特定の構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂
（Ｂ）酸発生剤
（Ｄ）溶剤
（Ｅ）式（ａ）で示される化合物


［Ｒ^３は、炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基などを示し、Ｒ^４は、水素原子、脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高感度とＰＥＤ特性とを両立することができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）〜式（ａ３）で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、（成分Ｂ）式（Ｂ）で表されるオキシムスルホネート化合物、及び、（成分Ｃ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。Ｒ¹は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ²は炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数４〜７のシクロアルキル基を表し、Ｒ³は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^B1及びＲ^B2はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、Ｒ^B1及びＲ^B2は連結して環を形成していてもよく、Ｒ^B3は炭素数１〜８のアルキル基、ｐ−トルイル基、フェニル基、カンホリル基、トリフルオロメチル基又はノナフルオロブチル基を表す。
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【課題】硬化物の硬度及び屈折率が高いハードコート性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】分子内に少なくとも１つの（メタ）アクリロイル基を有し、かつ９，９−ビスアリールフルオレン骨格を有するフルオレン含有硬化性モノマーと、分子内に３以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能硬化性モノマーと、分子内に１つの（メタ）アクリロイル基を有する単官能希釈モノマーとを含むハードコート性樹脂組成物を調製する。この組成物の硬化物は、屈折率が１．５５以上であり、かつ鉛筆硬度が３Ｈ以上である。前記単官能希釈モノマーは、Ｃ_３−７アルキル（メタ）アクリレート（特に、分岐Ｃ_４−６アルキル（メタ）アクリレート）であってもよい。 （もっと読む）

【課題】色相が多種の光源や照射強度においても安定し、他の無機ガラスとの色相の統一感への要求があった場合に、かかる要求を満足し、かつ従来通りの良好な耐光性および耐摩耗性を有する樹脂グレージングを提供する。
【解決手段】ポリカーボネート樹脂組成物（樹脂材料−Ａ）からなり、可視光線透過率が３〜８０％である着色された基材層上に、少なくとも下記（Ｐ）層および（Ｔ）層を、この順に積層した樹脂グレージング。
（Ｐ）層：紫外線吸収剤を含有するアクリル樹脂層
（Ｔ）層：酸化セリウム微粒子を含有するオルガノシロキサン樹脂層 （もっと読む）

【課題】優れたパターン倒れ耐性（PCM）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。［式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基を表すか、Ｒ^１及びＲ^２は互いに結合して、これらが結合する炭素原子とともに炭素数５〜２０の環を形成する。Ｒ^３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜３６の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−で置き換わっていてもよい。Ｔ^１は、２価の炭素数１〜１７の炭化水素基を表し、該２価の炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。ｍは０又は１の整数を表す。］
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【課題】耐熱性などの特性が改善された新規なポリマー（特に熱可塑性ポリマー）およびこのポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】重合性不飽和結合を有する非フルオレン系モノマー（例えば、単官能性（メタ）アクリル酸エステル）に、重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基など）を有するフルオレン化合物（例えば、２以上の重合性不飽和結合を有する９，９−ビスアリールフルオレン類）を共重合させる。このような方法では、少量の（例えば、重合成分全体の１０モル％未満の割合で）フルオレン化合物を共重合させるだけでも、ベースとなる重合性不飽和結合を有する非フルオレン系モノマーの単独重合体に比べて、耐熱性などの特性を十分に改善又は向上できる。 （もっと読む）