【課題】経時安定性、現像欠陥性能、及びラフネス特性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤とを含有し、カールフィッシャー法により測定された水分含有率が１．０質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】ラフネス特性、露光ラチチュード（Exposure Latitude）、及び現像欠陥性能の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）と、酸の作用により脱離する基を備え且つ下記一般式（Ｃ−Ｉ）より表される化合物、又は、酸の作用により脱離する基を備え且つ前記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物の複数が連結基を介して結合された構造を有する化合物とを含有している。
【化１】
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【課題】紫外線領域における光に対する耐性に優れ、高感度で表示素子のスペーサー、保護膜、層間絶縁膜を形成しえる感放射線性樹脂組成物であり、表示素子のスペーサーとして、従来から要求されているラビング耐性と、高回復率と柔軟性を併せ持つ圧縮性能を維持しつつ、さらに高度の膜厚均一性を有する表示素子用の保護膜、層間絶縁膜ならびにその形成方法を提供することにある。
【解決手段】
（Ａ）カルボキシル基を有する重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）感放射線性重合開始剤、ならびに（Ｄ）下記式（１）または（２）で示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い透明性および高い耐熱性を有する光学部品用材料を提供する。
【解決手段】５０〜１００質量％の下記一般式（Ｉ）


（式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。Ｒ¹〜Ｒ³はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基および炭素数３〜２０のシクロアルキル基から選ばれる基を示す。Ａは、フェニル基、炭素数１〜２０のアルキレン基および炭素数３〜２０のシクロアルキレン基から選ばれる基を示す。ｎは０または１である。）で表されるアダマンチル基をエステル置換基とする（メタ）アクリル酸誘導体と０〜５０質量％の前記以外のアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルの１種以上を重合してなる重量平均分子量１００万以上の重合体を含む耐熱光学部品用材料。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位を有する樹脂と、式（Ｂ１）で表される塩を有効成分とする酸発生剤とを含有するレジスト組成物。［Ｒ^１〜Ｒ^４は脂肪族炭化水素基を表すか、又はＲ^１及びＲ^２並びにＲ^３及びＲ^４は、互いに結合して環を形成する。Ｒ^５は水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基を表す。Ｔ^１は２価の飽和炭化水素基を表す。ｍは０又は１を表す。］
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【課題】ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、ＥＵＶ等の（極）遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線に有効に感応し、感度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表されるスルホンイミド化合物と、酸解離性基含有化合物と、溶剤と、を含有する感放射線性組成物である。


（一般式（１）中、Ｍ^＋は一価のオニウムカチオンを示し、Ｙは、カルボニル基等を示し、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、相互に独立に、炭素数１〜１２の直鎖状又は分岐状のアルキル基等を示す。） （もっと読む）

【課題】本発明は、感度、解像度及び露光余裕に優れる新規な感放射線性樹脂組成物及びその組成物等に用いる重合体の提供。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（Ｉ）で表される構造単位を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である。


（式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基である。Ｒ^２は、炭素数１〜２０の炭化水素基である。）。また、上記Ｒ^２は、炭素数１〜４のアルカンジイル基が好ましい。 （もっと読む）

【課題】エッチング耐性及びＰＥＤに対する安定性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含んだ樹脂と、活性光線又は放射線の照射によりｐＫａ≧−１．５の酸を発生する化合物とを含有している。 （もっと読む）

【課題】
糖鎖を捕捉するための基材の一つであって、酸性糖を基材表面に固定化可能で、かつ捕捉酸性糖以外の物質の非特異吸着を抑制することで酸性糖のみを安定的に基材表面に捕捉可能な基材を構築する。
【解決手段】
基材の一方の面側に、親水性基を有するモノマーと、前記酸性糖を捕捉可能な官能基を有するモノマーと、環状アルキル基により疎水性基を有するモノマーの共重合体で構成される樹脂層を、基材表面に形成したことにより酸性糖固定基材を作製できた。 （もっと読む）

【課題】波長３００ｎｍ以下の電磁波である高エネルギー線または電子線を用いたフォトリソグラフィーにより、特に液浸リソグラフィーにて、極めて微細且つ高精度なパターンを与えるトップコート用組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰返し単位を構造中に含有することを特徴とするトップコート用組成物。


（式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６の直鎖状アルキル基、炭素数３〜６の分枝鎖状アルキル基または炭素数３〜６の環状アルキル基であり、Ｒ^５はそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子、炭素数１〜６の直鎖状アルキル基、炭素数３〜６の分岐鎖状アルキル基または炭素数３〜６の環状アルキル基であり、フッ素を有していてもよく、Ｒ^ｆはそれぞれ独立に炭素数１〜４の直鎖状パーフルオロアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】透明性や膜厚安定性等の諸物性を充分に発揮でき、かつ長期安定的に反りや変形、他の層との剥がれ等が抑制された硬化物を与えることができ、より信頼性の高い記録・再生を実現できる光記録媒体用光重合性樹脂組成物、その硬化物、及び、このような樹脂組成物を硬化して得られる層を有する光記録媒体を提供する。
【解決手段】少なくとも基板、記録層、反射膜及び保護層を有し、青色レーザー光により記録及び／又は再生を行う光記録媒体に用いられる硬化性樹脂組成物であって、アルキレンオキシド及び／又はε−カプロラクトンで変性された３官能以上の（メタ）アクリレート化合物と光重合開始剤とを含むものであり、該硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物が、（Ａ）ガラス転移温度が０〜４０℃であり、かつ、（Ｂ）７０℃における貯蔵弾性率が４５〜１３０ＭＰａである光記録媒体用硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有している。 （もっと読む）

【課題】良好な解像性能を有し、特に、レジストパターンの均一形成性及びマスク再現性にすぐれた感放射線性樹脂組成物及びその感放射線性樹脂組成物に好適に用いられる重合体を提供する。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（１）と、環状カーボネート構造を含む構造単位とを有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である（下記式（１）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基である。）。
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【課題】低温での処理においても耐薬品性に優れた硬化されたパターンを製造することができる。また、この硬化されたパターンの製造方法を利用することにより、耐熱性の低い基板等を用いても、高品質の表示装置等を得ることが可能となる。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂、シロキサン化合物、感光物質及び溶剤を含む感光性樹脂組成物を基板に塗布して塗膜を得る工程と、塗膜を加熱及び減圧からなる群から選ばれる少なくとも１種の方法により乾燥する工程と、乾燥した塗膜をフォトマスクを介して露光する工程と、露光した塗膜を５０℃以上１５０℃以下で加熱する工程と、加熱した塗膜を現像してパターンを得る工程と、パターンを５０℃以上１５０℃以下で加熱して硬化されたパターンを得る工程とを含み、溶剤が、ヒドロキシ基含有溶剤を溶剤全量に対して５０質量％より多く含む溶剤である硬化されたパターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ダイレクトメタノール型燃料電池に使用する、高いプロトン伝導度と、メタノールのクロスオーバー現象を抑制するための低メタノール透過性の固体電解質膜を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるビス（パーフルオロアルカンスルホニル）メチド部位を含む繰り返し単位を有する樹脂からなることを特徴とする固体電解質膜。


（式中、Ｒは水素原子またはメチル基、Ｙは酸素原子またはＮＨを表す。Ｒ_fは炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基を表す。Ｗは連結基であり、炭素数２〜４の直鎖状もしくは炭素数３〜４の分岐鎖状のアルキレン基、または炭素数５〜８の環状の炭化水素基であり、分岐鎖または橋架け構造を有してもよい。） （もっと読む）

【課題】有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤（Ｂ）を含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、該レジスト膜を露光する工程、該レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法であって、前記（Ａ）として酸の作用により親水性が増大する酸分解性基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）、−ＳＯ_２−含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を用いる。 （もっと読む）

【課題】通常のドライプロセスに加え、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した、ＤＯＦ、パターン倒れ、及び疎密依存性が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のラクトン構造を有する繰り返し単位と、特定のスルホンアミド構造を有する繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】
吸着防止剤をコーティングすることなく、検出対象物質の非特異的な吸着・結合を抑制し、糖、糖鎖、糖ペプチド、糖タンパク、糖脂質またはこれらを有する生理活性物質を固定化できるバイオアッセイ用の高分子化合物及びこれを用いた各種糖鎖アレイ基材を提供すること。
【解決手段】
ホスホリルコリン基を有するユニット、疎水性基を有するユニットおよび一級アミノ基を有するユニットを含むことを特徴とする糖鎖捕捉用高分子化合物であり、該高分子化合物を基材に塗布してなるマイクロチップであって、３０種の糖鎖およびその誘導体のうち、少なくとも一つを固定してなるバイオアッセイ用基材。 （もっと読む）

【課題】モールドの作成において、感度及び解像力に優れるとともに、ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能にも優れたパターンを形成可能な、モールドの作成に用いられる化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】特定の酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有する化学増幅型レジスト組成物、並びに、これを用いたモールドの作成方法、及び、レジスト膜。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造の特にコンタクトホールパターン形成において、現像欠陥を充分に低減できるとともに、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）特定構造を有する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）２つ以上の極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂感光性組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）