【課題】ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）と、波長１９３ｎｍにおけるモル吸光係数が５５０００以下であり且つ活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｑ）とを含有している。 （もっと読む）

【課題】望ましくない分離を生ずることなく水中に分散され得るかまたは水で容易に希釈され得るコナゾール殺菌剤、特にエポキシコナゾールの配合剤を提供する。
【解決手段】α）少なくとも１個のスルホン酸基を有する少なくとも１つのタイプのモノエチレン性不飽和モノマー、β１）２０℃の温度での水溶解度が３０ｇ／ｌ未満の少なくとも１つのタイプの中性のモノエチレン性不飽和モノマー、及びβ２）２０℃の温度での水溶解度が５０ｇ／ｌ以上の少なくとも１つのタイプの中性のモノエチレン性不飽和モノマー、を含む少なくとも３つの異なるモノエチレン性不飽和モノマーからなる新規コポリマー。 （もっと読む）

【課題】保存安定性について実用レベルを損なうことなく、優れた感度を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、特には電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いてなるレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含む樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


式中、
Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルコキシカルボニル基を表す。
Ｌ_１は、単結合又は２価の連結基を表し、
Ｌ_２は、電子求引性基を有する、アルキレン基又はアリーレン基を表し、
Ｌ_１又はＬ_２は、Ｒ_３と結合して５員若しくは６員環を形成していても良い。
Ａｒは、芳香族基を表す。 （もっと読む）

【課題】線幅バラツキに優れたパターンを形成できるとともに、露光ラチテュード及び、感度に優れたパターン形成方法及びこれに用いる化学増幅レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される化合物、（Ｃ）架橋剤、及び、（Ｄ）溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の膜を露光し、有機溶剤を含む現像液を用いて現像するパターン形成方法。


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【課題】パターン形状とラフネス特性との双方に優れたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、下記一般式（１）により表される繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が２．３８質量％未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。
【化１】
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【課題】保存安定性がよく、成膜時に異物の発生が無く、撥液性に優れた撥液レジスト組成物の提供。
【解決手段】（ａ１）炭素数４〜８のフルオロアルキル基（炭素原子間にエーテル性酸素原子を有していてもよい）を有するα位置換アクリレート１００重量部、（ａ２）エポキシ基含有モノマー５〜８０重量部および（ａ３）（Ｒ^１Ｏ)_ｎＲ^２で示されるアルキレンオキサイド基を含有するモノマー１０〜４０重量部を繰り返し単位とするフッ素系ポリマー（Ａ１）を含有し、フッ素系ポリマー（Ａ１）のフッ素濃度が１５〜４０重量％および重量平均分子量が３，０００〜２０，０００である撥液レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用によりアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位を含んだ樹脂、
（Ｂ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、及び、
（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高い耐熱性を有し、特に、フォトレジストリソグラフィー分野における感光性樹脂等のモノマー等として有用な化合物を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表されるアダマンタン誘導体。


（例えば、３−｛［４−（２−ヒドロキシエチル）シクロヘキシル］メトキシ｝−１−アダマンチルメタクリレート） （もっと読む）

【課題】視野角が広く、液晶分子の応答速度が速く、表示特性および長期信頼性に優れる液晶表示素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記液晶表示素子の製造方法は、導電膜を有する一対の基板の該導電膜上に、それぞれ、（Ａ）下記式（Ａ−Ｉ）


（式（Ａ−Ｉ）中、Ｒは水素原子またはメチル基であり、Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子である。）
で表される基を有する重合体および（Ｃ）有機溶媒を含有する重合体組成物を塗布して塗膜を形成し、前記塗膜を形成した一対の基板を、液晶分子の層を介して前記塗膜が相対するように対向配置して液晶セルを形成し、前記一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程を経ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィプロセスにおいて使用されうる感放射線性ポリマーおよび組成物が提供される。このポリマーおよび組成物は活性化放射線に対して向上した感受性を提供する。
【解決手段】第１の形態に従って、ポリマーが提供される。ポリマーはポリマー骨格およびポリマー骨格に共有結合したモノマー系光酸発生剤を含む。光酸発生剤は、重合性スルホナートアニオンを有するスルホニウム塩またはヨードニウム塩の１種以上に由来する。 （もっと読む）

【課題】孤立パターンの形成においても、高感度、高解像性、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。
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【課題】特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する、少なくとも２種の繰り返し単位（Ｂ１）および（Ｂ２）を含有する樹脂（Ｐ）を含む感活性光線性または感放射線性樹脂組成物において、繰り返し単位（Ｂ１）で発生するアルカリ可溶性基と、繰り返し単位（Ｂ２）で発生するアルカリ可溶性基とが異なることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 上塗りフォトレジストの溶剤に対してレジスト下層膜中の光酸発生剤が溶出することがないこと、レジスト下層膜の感度調節が可能なこと、及びフォトレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）：
【化１】


（ただし、Ｑは２〜６価の有機基であり、Ｒ^１は単結合又は２価の連結基を示し、ｎ１は１〜６の整数であり、ｎ２は２〜６の整数である。）で示される架橋剤を含む感光性レジスト下層膜形成組成物。Ｑがベンゼン環、シクロヘキサン環、又はトリアジントリオン環である。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、式（１）に記載の架橋剤（Ｂ）、光酸発生剤（Ｃ）、及び溶剤（Ｄ）を含む。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、カルボン酸エステル基、又はそれらの組み合わせを有する。 （もっと読む）

【課題】 ミクロンサイズの平均粒子径を有し、粒度分布が狭く、十分に架橋されていて耐溶剤性、耐熱性に優れる架橋重合体微粒子及びその製造方法の提供。
【解決手段】 (α)加水分解性シリル基含有ビニル単量体(ａ)に由来する構造単位を0.5質量％以上及び20℃の水溶解度が1.0ｇ／100ｍｌ以下の単官能の疎水性ビニル単量体(ｂ)に由来する構造単位を10質量％以上の割合で有するビニル系共重合体からなり、(β)加水分解性シリル基の加水分解縮合反応によって架橋された、(γ)平均粒子径0.7〜8μｍの架橋重合体微粒子、並びに前記ビニル単量体(ａ)及び疎水性ビニル単量体(ｂ)を用いて分散安定剤の存在下にビニル単量体及び分散安定剤を溶解するが、生成するビニル系共重合体を溶解しない親水性溶媒中で重合して重合体微粒子を製造し、ビニル単量体の重合時又は重合後にビニル系共重合体中の加水分解性シリル基の少なくとも一部を加水分解縮合反応させて前記架橋重合体微粒子を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯスパッタ適性、硬度、耐熱透明性に優れる硬化膜が得られるポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、及び、（成分Ｂ）下記式（１）で表される酸発生剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。


Ｒ₁〜Ｒ₅はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、ハロゲン原子、アリール基、又は、ヘテロアリール基を表し、隣接するＲ₁〜Ｒ₅が互いに連結して環を形成してもよく、Ｘ^-は共役塩基を表す。 （もっと読む）

【課題】単量体の重合転化率が高く、分子量が大きいフッ素含有重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）（但し、Ｒ^１は、水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示し、Ｒ^２は、単結合、又は２価の炭化水素基を示し、Ｒ^３は、水素原子、又は１価の有機基を示し、Ｒｆ^１は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子置換されたアルキレン基を示す。）で表される単量体（１）を含有する単量体成分を、下記一般式（Ｓ）（但し、Ｒ^４は、水素原子又は１価の有機基を示し、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアセチル基を示し、ｉは０以上の整数を示す。）で表される溶媒（Ｓ）を含有する溶媒成分中で重合することを含む重合体の製造方法を提供する。
（もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位と酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた繰り返し単位とを含んだ感活性光線性又は感放射線性樹脂を高純度で製造可能とする技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂の製造方法は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた第１単量体と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた第２単量体とを含んだ反応系を、塩基性化合物の存在下で重合させることを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のＳＯ_３⁻構造を有する繰り返し単位と、特定の酸解離性基を有する繰り返し単位とを有する重合体および
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物と、特定のＳＯ_３⁻構造を有する繰り返し単位と、特定の酸解離性基を有する繰り返し単位とを有する重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを形成することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいＣ₁〜Ｃ₆アルキル基を表す。Ｒ^２は、水素原子又はハロゲン原子を有してもよいＣ₁〜Ｃ₆アルキル基を表す。Ｘ^１は、単結合又はＣ₁〜Ｃ₆アルキレン基を表し、該アルキレン基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する含フッ素化合物、および（Ｆ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。 （もっと読む）