【課題】高い感度を有し、現像時における残渣の発生が抑制され、かつ、平滑性に優れた表面を有する硬化膜を形成し得るポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（１）で表される構成単位と酸性基を有する構成単位と架橋性基を有する構成単位とを有する樹脂、及び、（成分Ｂ）オキシムスルホネート基を有する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。Ｒ¹は水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ¹はカルボニル基又はフェニレン基を表し、Ｒ²¹〜Ｒ²⁷はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
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【課題】感光性樹脂組成物の保存安定性、感度及び溶剤除去工程の寛容度に優れ、かつ、透明性及び耐溶剤性に優れた硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること。また、前記感光性樹脂組成物により形成された硬化膜を層間絶縁膜として具備する、信頼性と生産性の高い、有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（１）と、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（２）と、３員環及び／又は４員環の環状エーテル残基を有するモノマー単位（３）と、を含有する共重合体、（Ｂ）光酸発生剤、並びに、（Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度でパターンを得られる感光性樹脂組成物及びそれを用いた表示装置等を提供すること。
【解決手段】 樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、溶剤（Ｄ）及び式（１）で表される化合物を含み、樹脂（Ａ）が、炭素数２〜４の環状エーテルを有する単量体と、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種とを重合してなる共重合体である感光性樹脂組成物。
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【課題】解像性に優れ、かつ、加熱処理（ポストベーク工程）前後のコンタクトホール径の寸法安定性に優れた硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）酸分解性基で保護されたカルボキシ基及び／又は酸分解性基で保護されたフェノール性水酸基を有する構成単位（１）と、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（２）と、を含有する共重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤、（成分Ｃ）下記式（I）で表される熱酸発生剤、並びに、（成分Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
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【課題】耐溶剤性及び耐熱透明性に優れる硬化膜が得られ、高い感度を有するとともに、露光量の変化に対するパターン形状の変化が小さい感光性樹脂組成物、硬化膜及びその製造方法、有機ＥＬ表示装置、並びに、液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸によりカルボキシ基を生成する式（Ia）で表される構造又は酸によりフェノール性水酸基を生成する式（Ib）で表される構造を有するモノマー単位（ａ１）、酸によりカルボキシ基を生成する式（IIa）で表される構造又は酸によりフェノール性水酸基を生成する式（IIb）で表される構造を有するモノマー単位（ａ２）、並びに、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位（ａ３）、を含有する重合体、（Ｂ）光酸発生剤、並びに、（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
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【課題】紫外線領域における光に対する耐性に優れ、高感度で表示素子のスペーサー、保護膜、層間絶縁膜を形成しえる感放射線性樹脂組成物であり、表示素子のスペーサーとして、従来から要求されているラビング耐性と、高回復率と柔軟性を併せ持つ圧縮性能を維持しつつ、さらに高度の膜厚均一性を有する表示素子用の保護膜、層間絶縁膜ならびにその形成方法を提供することにある。
【解決手段】
（Ａ）カルボキシル基を有する重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）感放射線性重合開始剤、ならびに（Ｄ）下記式（１）または（２）で示される化合物から選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】支持体との密着性に優れ、パターン倒れの耐性が良好で、解像性の高いレジストパターンを形成できる表面改質材料及びレジストパターン形成方法と、エッチング処理を行った際に支持体からレジストパターンが剥がれにくいパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体とレジスト膜との間に設けられる表面改質層を形成するための、質量平均分子量が１０００〜５００００であるエポキシ樹脂を含有する表面改質材料；支持体上に、当該表面改質材料を用いて表面改質層を形成する工程と、前記表面改質層が形成された前記支持体上に、レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜を露光する工程と、前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程とを含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】低温加熱での硬化が可能であり、アルカリ現像性が良好で、かつ高い放射線感度を有すると共に、優れた硬度及び耐溶剤性を有する硬化膜を形成可能な感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］アルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］ビニロキシアルキルオキセタン及びビニロキシアリールオキセタン化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物、及び［Ｃ］エネルギーの付与により酸を発生する化合物を含有する感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【課題】アルカリ現像性が良好で、低温加熱での硬化が可能であり、かつ高い放射線感度を有するポジ型感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】３級炭素がオキセタニル構造を有するポリビニルエーテルより選択される少なくとも１種の構造単位を含む重合体と酸発生剤を含有し、さらに望ましくは、重合体がモノマー単位として、無水マレイン酸またはマレイミド構造単位を含むポジ型感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性の高分子化合物、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物を含有し、上記（Ａ）成分の高分子化合物が、架橋剤の存在下又は不存在下で、上記酸発生剤から発生する酸触媒によりアルカリ不溶性となる電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物であって、上記（Ａ）成分かつ（Ｃ）成分が塩基性ポリマー（ＰＢ）を含むことを特徴とする電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物。
【効果】超微細パターンを要求されるレジストパターンの形成において、上記化学増幅ネガ型レジスト組成物を用いることで、塩基の拡散を均一にでき、ラインエッジラフネスの改善、更には酸の基板界面の失活が抑制でき、アンダーカットの度合いが小さい電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物の提供。 （もっと読む）

【課題】光の伝搬損失の発生を抑制できる感光性樹脂組成物、光導波路フィルムおよび光導波路フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、（Ａ）置換または無置換の環状オレフィン樹脂と、（Ｂ）（Ａ）とは屈折率が異なり、かつ、環状エーテル基を有するモノマーと、（Ｃ）光酸発生剤と、を備える。このような感光性樹脂組成物は、屈折率が異なる領域を含むフィルムに使用され、たとえば、光導波路フィルムに使用される。 （もっと読む）

【課題】回収再使用可能な触媒の存在下で、酸素を酸化剤として用いて、１００℃以下の低温でアミン化合物を酸化してイミン化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】液相で、金のナノサイズクラスターを下式のスチレン系高分子に担持させて成る酸化反応用高分子担持金クラスター触媒の存在下で、アミン化合物を酸素又は空気雰囲気下１００℃以下の低温で、対応するイミン化合物を製造する。


（式中、ｘ、ｙ、ｚ及びｗは該高分子中の構成モノマーのモル比を表し（ｘ＋ｙ＋ｚ＋ｗ）に対して、ｘ、ｙ及びｚは、それぞれ５％以上、ｗは１〜２０％であり、Ｒ^ａ及びＲ^ｂはアルキル基等を表し、窒素原子と共に５〜７員環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】より低温で耐薬品性に優れた硬化されたパターンを製造することができる。また、この硬化されたパターンの製造方法を利用することにより、より耐熱性の低い基板等を用いても、高品質の表示装置等を得ることが可能となる。
【解決手段】樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤及び溶剤を含む感光性樹脂組成物から得られたパターンを、５０℃〜１８０℃の条件下で、１０ｍＪ／ｃｍ^２〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２露光する硬化されたパターンの製造方法において、樹脂が、炭素数２〜４の環状エーテルを有する単量体に由来する構造単位を含む樹脂である硬化されたパターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、重合性の液晶組成物を構成した場合他の液晶化合物と優れた溶解性を有し、前記重合性の液晶組成物を硬化させた場合に優れた耐熱性及び機械強度を示す重合性化合物を提供すること及び屈折率異方性の値が大きく且つ良好な光学特性を示す光学異方体を提供することである。
【解決手段】 一般式（Ｉ）
【化１】


で表される重合性化合物を提供し、当該化合物を構成部材とする液晶組成物、更に、当該液晶組成物を用いた光学異方体、又は液晶デバイスを提供する。本願発明の重合性化合物は、他の液晶化合物との優れた溶解性を有することから重合性組成物の構成部材として有用である。又、本願発明の重合性化合物を含有する重合性成物は、液晶相温度範囲が広く当該重合性組成物を用いた光学異方体は、耐熱性が高く、偏向板、位相差板等の用途に有用である。 （もっと読む）

【課題】反応後、回収・再使用することができるオスミウム触媒組成物の製造方法の提供。
【解決手段】(I)(1)スチレン系モノマー並びに(2)エポキシ基を有する芳香族基及び重合性二重結合を含有するモノマーを共重合することにより得られるコポリマーと、(1)スチレン系モノマー並びに(2)特定の構造の親水性基含有モノマーを共重合することにより得られるコポリマーのそれぞれにオスミウム触媒を担持させ次いで混合した後、或いは、(II)(1)スチレン系モノマー並びに(2)エポキシ基を有する芳香族基及び重合性二重結合を含有するモノマーを共重合することにより得られるコポリマーと、(1)スチレン系モノマー並びに(2)上記特定の構造の親水性基含有モノマーを共重合することにより得られるコポリマーとの混合物にオスミウム触媒を担持させた後、オスミウム担持ポリマーを架橋反応に付す、オスミウム担持触媒組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光回路のパターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高い光路を簡単な方法で形成することができ、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。
【解決手段】光導波路構造体１は、凸部２１および凹部２２が形成された基板２と、基板２の上面に形成された金属層５と、凹部２２内に形成され、コア層９３の両面にクラッド層９１、９２を積層してなる光導波路９と、凸部２１の外周の傾斜面に形成され、伝送光１８を反射する反射面９６１と、基板３と、発光素子１０と、受光素子１１と、電子回路素子１２とを備えている。コア層９３は、コア部９４とクラッド部９５とを有し、コア部９４は、活性放射線の照射と加熱とにより屈折率が変化する材料で構成されたコア層９３に対し活性放射線を選択的に照射して所望形状に形成したものである。 （もっと読む）

【課題】視野角が広く、液晶分子の応答速度が速く、表示特性および長期信頼性に優れる液晶表示素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記液晶表示素子の製造方法は、導電膜を有する一対の基板の該導電膜上に、それぞれ、（Ａ）下記式（Ａ−Ｉ）


（式（Ａ−Ｉ）中、Ｒは水素原子またはメチル基であり、Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子である。）
で表される基を有する重合体および（Ｃ）有機溶媒を含有する重合体組成物を塗布して塗膜を形成し、前記塗膜を形成した一対の基板を、液晶分子の層を介して前記塗膜が相対するように対向配置して液晶セルを形成し、前記一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程を経ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高難燃性、高容量を有し、かつ低抵抗のポリマー電解質を提供する。
【解決手段】本発明に係るポリマー電解質は、少なくとも支持塩と、１つ以上の側鎖にホスファゼン構造を有する高分子と、を含有する。また、本発明に関する二次電池は、前記ポリマー電解質と、正極と、負極と、を備える。 （もっと読む）