【課題】粒子径の大きなシリカを配合し転がり抵抗を低減しながら耐摩耗性及び操縦安定性を向上するようにしたタイヤトレッド用ゴム組成物を提供する。
【解決手段】末端変性基を有する変性共役ジエン系重合体ゴムを３０重量％以上、天然ゴムを１５重量％以上含むジエン系ゴム１００重量部に対し、充填剤を４０〜１２０重量部配合すると共に、前記充填剤がシリカを５０重量％以上含み、該シリカが、ＣＴＡＢ比表面積（ＣＴＡＢ）が８０〜１００ｍ²／ｇ、このＣＴＡＢに対するＤＢＰ吸収量（ＤＢＰ；単位ｍｌ／１００ｇ）の比（ＤＢＰ／ＣＴＡＢ）が１．７５５以上であるシリカを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高感度とＰＥＤ特性とを両立することができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）〜式（ａ３）で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、（成分Ｂ）式（Ｂ）で表されるオキシムスルホネート化合物、及び、（成分Ｃ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。Ｒ¹は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ²は炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数４〜７のシクロアルキル基を表し、Ｒ³は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^B1及びＲ^B2はそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、Ｒ^B1及びＲ^B2は連結して環を形成していてもよく、Ｒ^B3は炭素数１〜８のアルキル基、ｐ−トルイル基、フェニル基、カンホリル基、トリフルオロメチル基又はノナフルオロブチル基を表す。
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【課題】エポキシ化ジエン系ゴムの生産に際し、生産効率がよく、洗浄水等の廃液発生がなく、低コストでかつゴム組成物の原料として好適なエポキシ化ジエン系ゴムの製造方法及びエポキシ化ジエン系ゴムを含むゴム組成物を提供する。
【解決手段】ジエン系ゴムにエポキシ化触媒としての有機酸と過酸化水素水とを添加し、機械的せん断力を用いて混練することによりエポキシ化させるエポキシ化ジエン系ゴムの製造方法において、上記有機酸の添加割合が、ジエン系ゴムの不飽和結合が５０〜５００に対しカルボキシル基が１つ存在する割合であることを特徴とするエポキシ化ジエン系ゴムの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】従来の透明性樹脂からなる光学材料は、酸素などのガスバリア性が十分ではなく、透明性とガスバリア性とを具備する光学材料が求められていた。
【解決手段】珪酸の水酸基に反応し得る基及びラジカル重合開始基を含む化合物並びに第４級アンモニウムを含む層状珪酸塩を反応させることにより得られる反応物にオレフィン性二重結合を有する化合物を重合させることにより得られる重合体と、オレフィン性二重結合を有する化合物を重合させることにより得られる樹脂と、を含有する樹脂組成物を成形加工して得られる光学材料。 （もっと読む）

【課題】耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ性、耐熱性、透明性、及び下地との密着性に優れ、高い解像度を有するパターン状透明膜を形成することができる感光性樹脂組成物を少なくとも提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分と１，２−キノンジアジド化合物とを含有する感光性樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂成分の一部又は全部に、スチリル基を有する特定のケイ素化合物をモノマーの一部とする共重合体（Ａ）を用いる。 （もっと読む）

【課題】色相が多種の光源や照射強度においても安定し、他の無機ガラスとの色相の統一感への要求があった場合に、かかる要求を満足し、かつ従来通りの良好な耐光性および耐摩耗性を有する樹脂グレージングを提供する。
【解決手段】ポリカーボネート樹脂組成物（樹脂材料−Ａ）からなり、可視光線透過率が３〜８０％である着色された基材層上に、少なくとも下記（Ｐ）層および（Ｔ）層を、この順に積層した樹脂グレージング。
（Ｐ）層：紫外線吸収剤を含有するアクリル樹脂層
（Ｔ）層：酸化セリウム微粒子を含有するオルガノシロキサン樹脂層 （もっと読む）

【課題】撥液性、耐熱性、および耐溶剤性に優れ、パターン形成部以外の部位に感光性樹脂組成物が残渣として残らず、かつパターン形成が可能なネガ型の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶解性樹脂（Ａ）、フッ素系撥液剤（Ｂ）、架橋剤（Ｃ）、および酸発生剤（Ｄ）を含む感光性樹脂組成物であり、フッ素系撥液剤が、炭素数４〜６のフルオロアルキル基及び炭素−炭素二重結合を有する構造単位を含む付加重合体であり、その添加割合が、全固形分に対して０．０１〜１．０重量％であるネガ型の感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法を用いて製造され、明度およびコントラスト比に優れ、かつ、色むら、濃度むらの発生が抑制されたカラーフィルターの製造に好適に用いることのできるカラーフィルター用インクを提供すること。
【解決手段】本発明のカラーフィルター用インクは、固形分と、当該固形分を溶解および／または分散する液性媒体とを含み、前記固形分の含有率が８０ｗｔ％となるまで濃縮した際の８０℃における粘度が５００ｍＰａ・ｓ以上９００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング耐性に優れ、ドライエッチング後の表面荒れの少ない硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供すること。また、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（ａ１）〜式（ａ３）で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、（成分Ｂ）式（Ｂ）で表されるオキシムスルホネート化合物、及び、（成分Ｃ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置。
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【課題】電池の耐久性を向上しうるバインダーの提供。
【解決手段】電極用バインダーは、シクロヘキシル（メタ）アクリレートとこのシクロヘキシル（メタ）アクリレートと共重合可能なモノマーとを共重合して得られるポリマーを基材とする。好ましくは、この電極用バインダーでは、上記ポリマーの形成に使用したモノマー全質量に対する上記シクロヘキシル（メタ）アクリレートの質量の比率は、５．０質量％以上７０．０質量％以下である。好ましくは、この電極用バインダーでは、上記ポリマーは粒子状を呈している。このポリマーは、コアとこのコアの外側に位置するシェルとを備えている。このシェルは、このコアとは異なる組成を有している。このシェルのガラス転移温度は、−６０℃以上６５℃以下である。このコアのガラス転移温度は、−６０℃以上６５℃以下である。 （もっと読む）

【課題】電極間の電気的な接続に用いられた場合に、導通信頼性を高めることができる異方性導電材料及びＢステージ状硬化物、並びに該異方性導電材料又はＢステージ状硬化物を用いた接続構造体を提供する。
【解決手段】異方性導電材料及びＢステージ状硬化物を構成する異方性導電材料はそれぞれ、少なくとも３種の硬化性化合物と、導電性粒子とを含有する。上記硬化性化合物は、エポキシ基又はチイラン基と（メタ）アクリロイル基とを有する光及び熱硬化性化合物と、エポキシ基又はチイラン基を有し、かつ（メタ）アクリロイル基を有さない熱硬化性化合物と、エポキシ基及びチイラン基を有さず、かつ（メタ）アクリロイル基を有する光硬化性化合物とを含む。上記光及び熱硬化性化合物の重量平均分子量は１０万未満である。異方性導電材料の硬化を進行させたＢステージ状硬化物は、海島構造を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、既存の環状オレフィンの重合方法に比べ、高い活性、高い環状オレフィン取り込み率の製造法を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される、炭素原子数４〜３０の環状オレフィン（C）を必須成分として含むことを特徴とするオレフィン重合体およびその製造方法。


〔一般式（Ｉ）中、eは０から２０までの整数であり、Ｒ¹〜Ｒ⁸は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、シリル基置換炭化水素基、炭化水素基置換シリル基から選ばれる原子または基を示し、Ｒ³〜Ｒ⁸で示される基のうち２個の基が結合して、それらの結合する炭素原子と一緒に環を形成してもよい。〕 （もっと読む）

【課題】得られるパターンのラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）が良好なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位及び酸に不安定な基を有するモノマー（ａ１）に由来する構造単位を有する重合体（ＩＩ）と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^２は置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^３は、置換基を有してもよい炭素数１〜１２の炭化水素基又はシアノ基を表し、該炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。Ａ¹は、単結合又は−（ＣＨ_２）_ｍ１−ＣＯ−Ｏ−＊、−（ＣＨ_２）_ｍ２−ＯＣＯ−（ＣＨ_２）_ｍ３−ＣＯ−Ｏ−＊を表す。ｍ１、ｍ２およびｍ３は、それぞれ１〜６の整数を表す。＊は、Ｎとの結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】末端にエポキシ基を有し、またシロキサン結合を含有しないビニル系重合体およびカチオン性光開始剤からなる光硬化性組成物および硬化物を提供する。
【解決手段】分子末端が下記一般式（１）で表されるビニル系重合体（Ａ）およびカチオン系光開始剤（Ｂ）を含むことを特徴とする光硬化性組成物。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、同一又は異なって、水素原子、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、又は、２つの炭化水素基がエーテル結合もしくはエステル結合で結合されてなる炭素数１〜１０の１価の基を表すが、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３が相互に結合し、環構造を形成していても構わない。Ｒ^４は直接結合または炭素数１〜１０の２価の炭化水素基、又は、２つの炭化水素基がエーテル結合もしくはエステル結合で結合されてなる炭素数１〜１０の１価の基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３とＲ^４が相互に結合し、環構造を形成していても構わない。） （もっと読む）

【課題】遮光性が高く、耐薬品性、耐磨耗性および基板との密着性に優れ、さらに微細着色パターン欠陥修復にも適合する硬化膜を形成しうる、低温焼成可能な新規組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表されるラジカル重合性モノマー（ａ１）および該モノマー（ａ１）以外のラジカル重合性モノマー（ａ２）を重合して得られる共重合体（Ａ）と、顔料（Ｂ）と、不飽和カルボン酸から導かれる構成単位および不飽和カルボン酸無水物から導かれる構成単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構成単位を有する重合体（Ｃ）とを含有する熱硬化性着色組成物。
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【課題】焼結性を損なうことなく、機械的強度及び耐溶剤性に優れたセラミックグリーンシートを得ることのできるエポキシ変性ポリビニルアセタール樹脂を提供する。また、該エポキシ変性ポリビニルアセタール樹脂を用いて製造されるセラミックスラリー及びセラミックグリーンシートを提供する。
【解決手段】ポリビニルアルコールで表される構成単位を１７〜４９．４モル％、アセチル基を有する構成単位を０．１〜１５モル％、下記式（３）で表されるアセタール基を有する構成単位を４８〜８０モル％、及び、エポキシ基を有する構成単位を０．５〜２０モル％の割合で有し、かつ、平均重合度が３００〜２５００であることを特徴とするエポキシ変性ポリビニルアセタール樹脂。


式（３）中、Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、保存安定性と低温焼成とを両立し、かつ十分な感度を有する感放射線性樹脂組成物、耐溶媒性、比誘電率及び硬度に優れる層間絶縁膜、保護膜又はスペーサーとしての硬化膜、この硬化膜の形成方法、耐熱性、耐溶媒性、電圧保持率等に優れるカラーフィルタ、並びにこのカラーフィルタの形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］（Ａ１）不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物と、（Ａ２）水酸基含有不飽和化合物とを共重合してなるアルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、［Ｃ］感放射線性重合開始剤、並びに［Ｄ］ブロックイソシアネート化合物を含有する感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は感度及び解像性に優れる感放射線性樹脂組成物、並びにムラが少なく、透明性、現像密着性、比誘電率等に優れる層間絶縁膜を提供することである。
【解決手段】［Ａ］共重合体、［Ｂ］重合性不飽和化合物、［Ｃ］感放射線性重合開始剤及び［Ｄ］有機溶媒を含有し、［Ａ］共重合体が（Ａ１）構造単位、（Ａ２）構造単位、（Ａ３）構造単位、並びに（Ａ４）構造単位を含み、［Ａ］共重合体における（Ａ１）構造単位の含有割合が１モル％以上４０モル％以下、（Ａ２）構造単位の含有割合が１モル％以上１５モル％以下、（Ａ３）構造単位の含有割合が１モル％以上７０モル％以下、及び（Ａ４）構造単位の含有割合が１モル％以上３０モル％以下である感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜、特には３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜、又は、レジストパターンの側壁に直接珪素酸化膜を形成したり、レジストパターンに珪素酸化膜を形成してポジネガ反転を行う際に用いるレジスト下層膜であり、反射率を低減でき、エッチング耐性が高いレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料であって、少なくともフッ素原子を有するスチレン誘導体単位を、繰り返し単位として含有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】優れた液晶配向能を有する液晶配向膜を備えることで液晶の配向均一性が高いコレステリック液晶ディスプレイ、及びこのコレステリック液晶ディスプレイの製造方法、並びにこのような液晶配向膜を形成するために用いられる液晶配向剤を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、対向する一対の基板、この各基板と垂直方向に分割された基板間の複数の領域にそれぞれ配置されるコレステリック液晶、及び上記各基板とコレステリック液晶との間にそれぞれ積層される液晶配向膜を備えるコレステリック液晶ディスプレイであって、少なくとも一方側の上記液晶配向膜が感放射線性液晶配向剤によって形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）