【課題】優れた解像度を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位を有する樹脂と、式（Ｂ１）で表される塩を有効成分とする酸発生剤とを含有するレジスト組成物。［Ｒ^１〜Ｒ^４は脂肪族炭化水素基を表すか、又はＲ^１及びＲ^２並びにＲ^３及びＲ^４は、互いに結合して環を形成する。Ｒ^５は水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基を表す。Ｔ^１は２価の飽和炭化水素基を表す。ｍは０又は１を表す。］
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【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、Ｗは飽和炭化水素環を表し、該環に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＳＯ_２−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ａ^１は、単結合又は２価の飽和炭化水素基を表し、前記基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】柔軟性に優れるとともに、エポキシ樹脂との相溶性が良く、高い耐熱性を有する電子部品用熱硬化性樹脂組成物、該電子部品用熱硬化性樹脂組成物を用いた接着シート及び樹脂付銅箔を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、硬化剤、及び、少なくともビニルアルコール単位、アセタール単位、アセチル単位及び架橋性を有する基を含有する構造単位を有する変性ポリビニルアセタール樹脂を含有する電子部品用熱硬化性樹脂組成物、該電子部品用熱硬化性樹脂組成物を用いた接着シート及び樹脂付銅箔。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換又は非置換のナフトール基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
【効果】上記繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像のポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する。このフォトレジスト膜、格子状パターンのマスクを用いて露光、現像することで微細なホールパターンを寸法制御よく形成でき、更にアミノ基又はアミン塩を有する保護膜を適用することでホールパターンの開口不良を防ぎ、寸法均一性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】遮音性に優れ、ガラスと中間膜との接着力に優れた合わせガラスを提供する。
【解決手段】複数枚のガラス板が中間膜を介して積層されてなる合わせガラスであって、かかる中間膜に、一般式（１）で表される構造単位を有するポリビニルアルコール系樹脂をアセタール化してなるアセタール化度７０〜８５モル％のポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする層を少なくとも一層有すること


［式中、Ｒ^１，Ｒ^２およびＲ^３はそれぞれ独立して水素原子または有機基を示し、Ｘは単結合または結合鎖を示し、Ｒ^４，Ｒ^５およびＲ^６はそれぞれ独立して水素原子または有機基を示す。］ （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の製造方法において良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を得る。
【解決手段】イソボルニルアクリレート、フルオレン骨格を有するアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を含む塗布層を介して貼り合わせ、該未硬化の紫外線硬化性樹脂材料の塗布層に紫外線を照射することにより、硬化せしめ、該樹脂スタンパを剥離して、前記磁気記録層の片面上に凹凸パターンが転写され、硬化された紫外線硬化性樹脂材料層を形成し、硬化された紫外線硬化性樹脂材料層をマスクとしてドライエッチングを行い、磁気記録層表面に、凹凸パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性または感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してスルホン酸を発生する繰り返し単位を含んだ樹脂であって、前記繰り返し単位はアセタール構造を備えている樹脂と、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】パターンの解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が改善されたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される酸発生剤、樹脂および式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、Ｆ又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、単結合又は飽和炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基はＯ又はカルボニル基で置換されていてもよい；Ｙ^１は、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基等、これらの基は置換基を有していてもよく、これらの基に含まれるメチレン基はＯ又はカルボニル基で置換されていてもよい；Ｒ^Ａは、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基等、これらの基に含まれるメチレン基は、Ｏまたはカルボニル基で置換されていてもよい；Ｚ^＋、Ｚ’^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）極性変換基を少なくとも１つ有する繰り返し単位（ｃ）を有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、更にその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に用いることができる樹脂及び重合性化合物を提供する。
【解決手段】特定の基を有する樹脂、及び、特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、ラインワイズラフネス（ＬＷＲ）が低減された良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の合成に利用できる化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含み、かつ、前記酸解離性溶解抑制基が１，３−ジオキソール骨格を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】２５０℃を超える高温においても、十分な耐熱性（低着色、高Ｔｇ）を有する重合性組成物、およびその硬化物を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される環状アセタール構造を有するビス（メタ）アクリレート化合物とチオール化合物を含む、重合性組成物、およびその硬化物。
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【課題】レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を側鎖に有するアクリル酸エステル系の特定の構成単位（ａ０−１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記有機溶剤（Ｓ）が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、および２−ヘプタノンを含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、エポキシ樹脂硬化物の耐熱性（ガラス転移温度）を維持しつつ靭性を向上させることである。
【解決手段】 共重合によりカルボキシル基が導入されたポリビニルアセタール樹脂が、エポキシ樹脂に均一に相溶したエポキシ樹脂組成物、およびそのエポキシ樹脂組成物に硬化剤を添加して生成したエポキシ樹脂硬化物により、課題を解決する。 （もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基含有繰り返し単位を有する樹脂、光酸発生剤又は光酸発生剤と熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布、溶剤除去するレジスト膜形成工程、クロムレスのシフターが配列された位相シフトマスクを用い高エネルギー線で露光後加熱し、酸不安定基に脱離反応させた後、現像しポジ型パターンを得る工程、露光又は加熱し、酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、架橋形成により有機溶剤耐性を与える工程、反転用膜形成用組成物による反転用膜形成工程、ポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、解像性やプロセスマージンが拡大し、スループットが高く、ドライ現像のためのエッチング装置が不要で、ダブルダイポールリソグラフィーと同等の解像力が得られる。 （もっと読む）

【課題】現像液への親和性に優れ、半導体製造の微細なパターン形成に用いられる高分子化合物及び該高分子化合物を製造する為の新規重合性化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｃａ−１）又は（ｃｂ−１）で表されることを特徴とする重合性化合物、及び、これを重合することによって得られる高分子化合物。


Ａ、Ｚ_１、Ｚ_２、Ｔａ、Ｔｂ、Ｔｃ及びＬは、それぞれ独立に、所定の基、結合又は原子を表す。ｍ、ｎ、ｐ、ｑ及びｒは、それぞれ独立に、所定の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン耐熱性、アウトガスの低減、表面荒れの低減を満足するネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(Ａ)アルカリ可溶性樹脂、(Ｂ)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）酸の作用により反応して、環状構造を有する炭素数３以上のアルコール又は環状構造を有する炭素数７以上のカルボン酸の脱離を伴ってアルカリ可溶性樹脂に架橋を形成する架橋剤を含有するネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】ポジ型レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、
前記レジスト膜を露光する工程、前記レジスト膜の露光後加熱を８０℃以下で行う工程、
および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法であって、前記ポジ型レジスト組成物は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、該基材成分（Ａ）を構成する全構成単位に対する酸解離性溶解抑制基を有する構成単位の割合が５５〜８０モル％であることを特徴とする、レジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】バイオ資源のアクロレインポリマーと、その製造法と、その使用。
【解決手段】ＡＳＴＭ Ｄ６８６６規格に従ったバイオ資源炭素を含むアクロレインポリマーと、その製造法。本発明の製造法は酸触媒の存在下でグリセロール水溶液からグリセロールを脱水した後に、得られた物質をイオン触媒またはフリーラジカル開始剤の存在下で重合する第１段階を含む。本発明ポリマーは、家畜用抗生物質、消毒および殺菌、化粧品、掘削泥水、塗料およびインク、および製紙およびテキスタイル工業の分野で多くの用途がある。持続可能な発展に一定の対応ができる。 （もっと読む）

本発明は、モノマーａ）〜ｃ）の全量に対して、ａ）式（Ｉ）［式中、Ｒ¹は水素又はメチルであり、ｐは１〜８の整数であり、そのヒドロキシ基は保護された形で存在する］の少なくとも１つの疎水性ビニルモノマーを１０〜６５ｍｏｌ％、ｂ）少なくとも１つのシリコーン含有（メタ）アクリレートモノマー、ビニルカーボネートモノマー、又はビニルカルバメートモノマーを２５〜７０ｍｏｌ％、ｃ）少なくとも１つの親水性ビニルモノマーを０〜２５ｍｏｌ％、及びｄ）少なくとも１つの架橋剤を０〜１０ｍｏｌ％、含む、重合可能なモノマー混合物からのコポリマーであるハイドロゲルに関し、この際、ハイドロゲル中で、モノマーａ）により形成された部分のヒドロキシ基は、保護された形、又は独立した形で存在している。このハイドロゲルは、コンタクトレンズ又は眼内レンズの製造のために使用できる。
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